[發明專利]一種高透過率深紫外濾光片的制備方法

在審

• 申請號: 202111107054.4
• 申請日: 2021-09-22
• 公開（公告）號: CN113802093A
• 公開（公告）日: 2021-12-17
• 發明（設計）人: 王永杰;戴乾;王峰
• 申請（專利權）人: 武漢正源高理光學有限公司
• 主分類號: C23C14/08
• 分類號: C23C14/08;C23C14/10;C23C14/22;C23C14/30;G02B5/20;G02B5/28
• 代理公司: 上海精晟知識產權代理有限公司 31253
• 代理人: 劉點

1.一種高透過率深紫外濾光片的制備方法，其特征在于：它包括以下步驟：

步驟1：選定濾光片的初始結構為：Air/(LH)m/Sub/(LH)n/Air，其中Sub表示基板，H和L表示光學厚度為λ/4的高低折射率材料的膜層，m、n為膜層的周期數；

步驟2：選擇基板Sub的材料，高折射率材料H和低折射率材料L；

步驟3：根據濾光片的技術指標設定優化目標參數，包括波長、通過率；

步驟4：根據設定的目標值進行濾光片的優化設計；

步驟5：將優化好的濾光片膜系用離子源輔助沉積的方式鍍到基板上，確定鍍膜后的濾光片是否滿足設計的要求，若不滿足，通過初始沉積溫度、沉積真空度、沉積速率、離子源電流、電壓、沉積時的充氣量等工藝參數進行調整，直至滿足目標值。

2.根據權利要求1所述的一種高透過率深紫外濾光片的制備方法，其特征在于：該濾光片包括紫外透過基板(100)、鍍制在紫外透過基板(100)一面的減反射膜層(200)和另外一面的濾光截止膜層(300)。

3.根據權利要求2所述的一種高透過率深紫外濾光片的制備方法，其特征在于：所述的減反射膜層(200)和所述濾光截止膜層(300)均包含了HfO2膜料和SiO2膜料。

4.根據權利要求2所述的一種高透過率深紫外濾光片的制備方法，其特征在于：所述的紫外透過基板(100)是熔融石英、CaF2或MgF2透紫外線材料。

5.根據權利要求1所述的一種高透過率深紫外濾光片的制備方法，其特征在于：所述膜系設計軟件為Macleod、TFCalc或Optilayer。

6.根據權利要求1所述的一種高透過率深紫外濾光片的制備方法，其特征在于：該濾光片對波長220nm紫外光的透過率大于80％，235-290nm紫外光的透過率平均值小于1％。

7.根據權利要求1所述的一種高透過率深紫外濾光片的制備方法，其特征在于：該濾光片的透過光譜采用UH-4150分光光度計進行測量。