[發明專利]一種集成式排氣處理裝置

在審

• 申請號: 202111098438.4
• 申請日: 2021-09-18
• 公開（公告）號: CN114210163A
• 公開（公告）日: 2022-03-22
• 發明（設計）人: 赫凱暢;赫凱旋;赫三
• 申請（專利權）人: 赫三
• 主分類號: B01D50/40
• 分類號: B01D50/40
• 代理公司: 深圳眾鼎專利商標代理事務所(普通合伙) 44325
• 代理人: 張小燕

1.一種集成式排氣處理裝置，其特征在于，包括沿水平方向延伸的處理罐體，所述處理罐體中設置有第一隔板和第二隔板，所述第一隔板豎直設置于所述處理罐體中，以將所述處理罐體的內部分隔形成有水平并列的沉降腔和凈化腔，所述第二隔板水平設置于所述凈化腔中，以將所述凈化腔分隔形成上下并列的第一霧化腔和水處理腔，所述第一霧化腔位于所述水處理腔的上方，所述處理罐體的外壁上開設有連通所述沉降腔的進氣口，所述第一隔板上開設有連通所述沉降腔和所述第一霧化腔的第一通氣口，所述第一霧化腔遠離所述第一隔板的一端頂部開設有第二通氣口，所述第二隔板背離所述第一隔板的一端開設有出水口，所述沉降腔用于粉塵中顆粒物的初步沉降；所述第一霧化腔用于霧化噴淋吸收粉塵中顆粒物或有害氣體并形成廢水，所述水處理腔用于處理所述第一霧化腔產生的廢水。

2.根據權利要求1所述的集成式排氣處理裝置，其特征在于，所述進氣口位于所述沉降腔上遠離所述第一隔板的端部中心位置。

3.根據權利要求1所述的集成式排氣處理裝置，其特征在于，所述沉降腔的底部開設有出料口，所述出料口處可開啟關閉地設置有蓋門。

4.根據權利要求1所述的集成式排氣處理裝置，其特征在于，所述水處理腔的底部設置有多個溢流板，沿遠離所述出水口的方向，多個所述溢流板依次間隔排布，且多個所述溢流板的高度逐漸下降，由多個所述溢流板將所述水處理腔的底部分隔形成凈化水槽和多個溢流槽，所述凈化水槽位于所述水處理腔中遠離所述出水口的一端，多個所述溢流槽在所述凈化水槽和所述出水口之間依次排布。

5.根據權利要求4所述的集成式排氣處理裝置，其特征在于，多個所述溢流槽中至少一個設置有水凈化結構。

6.根據權利要求4所述的集成式排氣處理裝置，其特征在于，所述溢流槽的底部設置有排污口，所述排污口上設置有控制閥門。

7.根據權利要求4所述的集成式排氣處理裝置，其特征在于，所述集成式排氣處理裝置還包括有循環泵，所述第一霧化腔的內部設置有多個第一霧化噴頭，所述循環泵的進水端連通至所述凈化水槽，所述循環泵的出水端連通至多個所述第一霧化噴頭。

8.根據權利要求7所述的集成式排氣處理裝置，其特征在于，所述集成式排氣處理裝置還包括有第二霧化腔，所述第二霧化腔豎直設置于所述第二通氣口的上方，所述第二霧化腔的頂部設有排氣口，所述第二霧化腔中設置有多個第二霧化噴頭，所述循環泵的出水端連通至多個所述第二霧化噴頭。

9.根據權利要求1所述的集成式排氣處理裝置，其特征在于，所述集成式排氣處理裝置還包括有底座支架，所述處理罐體設置于所述底座支架的頂部。