[發(fā)明專利]一種識(shí)別原位狀態(tài)下頁巖儲(chǔ)層毫米級(jí)層理縫方法

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 202111097485.7
• 申請日: 2021-09-18
• 公開（公告）號(hào): CN113552638A
• 公開（公告）日: 2021-10-26
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 伏海蛟;李朦;鄢文軍;汪虎
• 申請（專利權(quán)）人: 數(shù)皮科技（湖北）有限公司
• 主分類號(hào): G01V3/18
• 分類號(hào): G01V3/18;G01V3/38
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種識(shí)別原位狀態(tài)下頁巖儲(chǔ)層毫米級(jí)層理縫方法，其特征在于：包括以下步驟：

S1：使用取心工具取巖心柱，通過FMI設(shè)備對巖心柱掃描成像，并確定巖心柱上巖性或特殊礦物標(biāo)志層位置；

S2：將FMI成像測井圖與巖心進(jìn)行深度匹配，結(jié)合普通測井界面、巖心滾掃圖片特征及FMI成像測井圖特征之間相互關(guān)系，確定巖心和FMI成像測井圖之間的對應(yīng)關(guān)系；

S3：匹配層理縫與成像測井圖特征的對應(yīng)關(guān)系，同時(shí)從成像測井圖出發(fā)，研究普通測井方法與層理縫之間相關(guān)關(guān)系，進(jìn)而得到層理縫與FMI設(shè)備測得的成像測井圖的相關(guān)關(guān)系；

S4：利用S3得到的識(shí)別層理縫模板，解釋研究區(qū)井的層理縫。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種識(shí)別原位狀態(tài)下頁巖儲(chǔ)層毫米級(jí)層理縫方法，其特征在于，所述S2中FMI成像測井圖的分辨率達(dá)0.5mm，即能識(shí)別縱向開度在0.5mm以上的毫米級(jí)裂縫。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種識(shí)別原位狀態(tài)下頁巖儲(chǔ)層毫米級(jí)層理縫方法，其特征在于，所述S3中層理縫在成像測井圖上顯示為平直黑色條帶。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種識(shí)別原位狀態(tài)下頁巖儲(chǔ)層毫米級(jí)層理縫方法，其特征在于，所述S4中研究區(qū)井層理縫的具體識(shí)別方法為：將FMI設(shè)備通過升降設(shè)備放入研究區(qū)井內(nèi)，對原位狀態(tài)下的巖心進(jìn)行掃描，得到原位狀態(tài)下的巖心滾掃圖片以及成像測井圖，然后利用模板，分析成像測井圖，識(shí)別原位狀態(tài)下頁巖儲(chǔ)層層理縫，得到層理縫密度和開度數(shù)據(jù)。