[發明專利]衍射顏料

在審

• 申請號: 202111087601.7
• 申請日: 2021-09-16
• 公開（公告）號: CN114192368A
• 公開（公告）日: 2022-03-18
• 發明（設計）人: A·阿革帝亞;K·梁;J·P·賽德爾;J·齊巴
• 申請（專利權）人: VIAVI科技有限公司
• 主分類號: B05D5/06
• 分類號: B05D5/06;B05D7/00;B05D3/00;G02B5/18;B44C1/24
• 代理公司: 北京市金杜律師事務所 11256
• 代理人: 陳文平;邵長準

本發明涉及衍射顏料。具體地，本發明公開了一種衍射顏料，其包含疊層，所述疊層包含高折射率層和低折射率層的交替層，其中所述高折射率層為包含有機材料和高折射率無機納米顆粒的組合物；其中所述疊層的至少一個層被壓花。本發明還公開了一種制備衍射顏料的方法。

技術領域

本公開總體上涉及一種包含疊層的衍射顏料，所述疊層包含高折射率層和低折射率層的交替層，其中所述高折射率層為包含有機材料和高折射率無機納米顆粒的組合物；其中所述疊層的至少一個層被壓花。還公開了制備所述衍射顏料的方法。

背景技術

許多產品可在具有分離層如氯化鈉的基材上制成。涂覆之前于真空下蒸發分離層。另外，于真空下在微結構化的基材箔上沉積用于制造薄片的多層設計。涂覆后，濕法剝離所述多層設計，濕法使用丙酮和水的混合物來溶解分離層。將剝離的薄片干燥，然后通過研磨碾碎以獲得最終所需的粒度分布。干磨或濕磨技術的非限制性實例包括噴射磨機、低溫、對液體介質使用超聲波、轉子-定子磨機濕磨等。所述過程需要由不同的設備進行大量的步驟，從而導致制造成本的增加并使得最終產品——顏料價格昂貴。

另外，經壓花的多層設計可包含鋁作為反射劑層。然而，鋁的使用是累贅并會妨礙制成半透明多層設計的能力。

其他多層設計包含使用標準薄膜真空沉積法形成的所有介電材料如介電無機材料的疊層。薄膜沉積法限制了可用于創建多層設計的材料的類型并因此限制了所取得的光學效應。例如，疊層的層僅包含無機材料。關于光學效應，所使用的材料和真空沉積法限制了多層設計可被壓花的方式和多樣性，從而限制了可能的衍射界面的多樣性。

需要的是可在采用較少設備件數的方法中制備制品，從而具有較低制造成本。

發明內容

在一個方面，公開了一種包含疊層的衍射顏料，所述疊層包含高折射率層和低折射率層的交替層，其中所述高折射率層為包含有機材料和高折射率無機納米顆粒的組合物；其中所述疊層的至少一個層被壓花。

在又一個方面，公開了一種制備衍射顏料的方法，所述方法包括沉積高折射率層和低折射率層的交替層以形成疊層；和對所述疊層的至少一個層壓花；其中所述高折射率層為包含有機材料和高折射率無機納米顆粒的組合物。

各種實施方案的附加特征和優點將部分地在以下描述中闡述，并且部分地將從描述中明晰，或者可通過各種實施方案的實踐而獲知。各種實施方案的目的和其他優點將通過在本文的描述中特別指出的要素和組合來實現和獲得。

附圖說明

本公開的若干方面和實施方案可從詳細描述和附圖得到更充分的理解，在附圖中：

圖1A為根據本公開的一個方面的包含第一高折射率層、低折射率層和第二高折射率層的衍射顏料的橫截面。圖1B-1E示意了具有不同壓花程度的衍射顏料；

圖2為根據本公開的一個方面的衍射顏料(示出為無壓花)的橫截面；

圖3A-3D示意了根據本公開的一個方面的制備衍射顏料的方法中的各種步驟；

圖4A-4E示意了根據本公開的另一個方面的制備衍射顏料的方法中的各種步驟；

圖5示意了根據本公開的另一個方面的衍射顏料的橫截面；

圖6示意了一種衍射顏料的橫截面，其中外層的外表面未被壓花而每層的每個內表面都被壓花；和

圖7示意了一種衍射顏料的橫截面，其中一個外層的一個外表面未被壓花并且是平面的，另一個外層的另一個外表面以不同于內部調制的溫和調制壓花，而每層的每個內表面都以較高的調制完全壓花。

貫穿本說明書和附圖，相同的附圖標記標識相同的要素。

具體實施方式