[發明專利]一種大位阻氮雜環卡賓鈀配合物及其制備方法與應用和基于其的索尼吉布的合成方法有效
| 申請號: | 202111086054.0 | 申請日: | 2021-09-16 |
| 公開(公告)號: | CN113788859B | 公開(公告)日: | 2023-03-31 |
| 發明(設計)人: | 邱立勤;歐陽嘉盛 | 申請(專利權)人: | 中山大學 |
| 主分類號: | C07F15/00 | 分類號: | C07F15/00;B01J31/22;C07D413/04;C07C209/10;C07C211/54;C07C211/48;C07D295/033;C07D295/023;C07D213/74;C07D417/12;C07D471/04;C07D405/14;C07D401/12 |
| 代理公司: | 廣州市華學知識產權代理有限公司 44245 | 代理人: | 雷月華 |
| 地址: | 510275 廣東*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 大位阻氮雜環卡賓鈀 配合 及其 制備 方法 應用 基于 索尼 合成 | ||
1.一種大位阻氮雜環卡賓鈀配合物,其特征在于,該配合物是具有式(A)所示化學結構式的化合物:
其中
R1、R1’、R2、R2’相同或不同的分別為氫、取代或未取代的C6-20的芳基、取代或未取代的C4-20的雜環基、取代或未取代的C1-20的烴氧基、取代或未取代的C1-20的烷基、取代或未取代的C3-20的環烷基、鹵素、-CF3、-NO2、取代氨基中的至少一種;
R3為氫、取代或未取代的C6-20的芳基、取代或未取代的C4-20的雜環基、取代或未取代的C1-20的烷基、取代或未取代的C3-20的環烷基中的任意一種;
X為-Cl、-Br、-I、CH3COO-、CF3COO-、-BF4、-PF6、-SbF6、-OTf中的一種;
取代指基團中的一個或一個以上氫原子被C6-20的芳基、C4-20的雜環基、C1-20的烴氧基、C1-20的烷基、C3-20的環烷基、-CF3、-NO2、鹵素基團取代。
2.一種大位阻氮雜環卡賓鈀配合物,其特征在于,該配合物是權利要求1所述式(A)化學結構式的化合物的對映體或消旋體,對映體具有式(B)所示化學結構式,消旋體具有式(C)所示化學結構式:
其中
R1、R1’、R2、R2’相同或不同的分別為氫、取代或未取代的C6-20的芳基、取代或未取代的C4-20的雜環基、取代或未取代的C1-20的烴氧基、取代或未取代的C1-20的烷基、取代或未取代的C3-20的環烷基、鹵素、-CF3、-NO2、取代氨基中的至少一種;
R3為氫、取代或未取代的C6-20的芳基、取代或未取代的C4-20的雜環基、取代或未取代的C1-20的烷基、取代或未取代的C3-20的環烷基中的任意一種;
X為-Cl、-Br、-I、CH3COO-、CF3COO-、-BF4、-PF6、-SbF6、-OTf中的一種;
取代指基團中的一個或一個以上氫原子被C6-20的芳基、C4-20的雜環基、C1-20的烴氧基、C1-20的烷基、C3-20的環烷基、-CF3、-NO2、鹵素基團取代。
3.一種權利要求1或2所述的大位阻氮雜環卡賓鈀配合物的制備方法,其特征在于,以苯基取代的大位阻咪唑鹽為骨架,與官能團化的鈀二聚體[Pd-(烯丙基-R3)(u-X)]2進行配位得到。
4.根據權利要求3所述的大位阻氮雜環卡賓鈀配合物的制備方法,其特征在于所述的大位阻咪唑鹽為大位阻咪唑X代鹽,其結構式如下:
其中,X為Cl、Br、I、CH3COO、CF3COO、BF4、PF6、SbF6、OTf中的一種。
5.根據權利要求3所述的大位阻氮雜環卡賓鈀配合物的制備方法,其特征在于,所述的大位阻咪唑鹽為大位阻咪唑X代鹽,以取代或未取代的二苯基乙二胺為起始原料,與取代或未取代的2,6-二異丙基溴苯經C-N偶聯反應,再與無機X代鹽反應得到。
6.根據權利要求5所述的大位阻氮雜環卡賓鈀配合物的制備方法,其特征在于:所述C-N偶聯反應的反應溫度為25-130℃,反應時間為1-96h;所述與無機X代鹽反應的反應溫度為25-120℃,反應時間為1-48h。
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