[發(fā)明專利]一種頻控陣?yán)走_(dá)頻偏誤差分析方法在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202111075432.5 | 申請(qǐng)日: | 2021-09-14 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN113868843A | 公開(kāi)(公告)日: | 2021-12-31 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 廖軼;唐虎;王文欽;張順生;陳慧 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 電子科技大學(xué) |
| 主分類號(hào): | G06F30/20 | 分類號(hào): | G06F30/20;G06F17/10 |
| 代理公司: | 成都玖和知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 51238 | 代理人: | 胡琳梅 |
| 地址: | 611731 四川省成*** | 國(guó)省代碼: | 四川;51 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 頻控陣 雷達(dá) 誤差 分析 方法 | ||
本發(fā)明公開(kāi)了一種頻控陣?yán)走_(dá)頻偏誤差分析方法,通過(guò)將頻控陣的頻偏誤差轉(zhuǎn)換為相應(yīng)的相位誤差,然后再利用區(qū)間算法對(duì)相位誤差進(jìn)行分析,進(jìn)而求得存在頻偏誤差時(shí)頻控陣發(fā)射波束的功率譜的上界和下界,進(jìn)而分析發(fā)射天線的容差特性,因此在實(shí)際情況下,對(duì)天線參數(shù)的矯正具有重大意義,彌補(bǔ)了目前鮮有用于頻控陣頻偏誤差分析的空缺。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及于頻控陣?yán)走_(dá)發(fā)射波束形成技術(shù)領(lǐng)域,尤其涉及一種頻控陣?yán)走_(dá)頻偏誤差分析方法。
背景技術(shù)
在無(wú)線通信系統(tǒng)中,常常要求需要產(chǎn)生窄主瓣和低旁瓣的波束圖案來(lái)讓通信更加可靠。通常情況下,通過(guò)仿真可以得到理論上無(wú)誤差時(shí)天線的輻射圖案所對(duì)應(yīng)的設(shè)計(jì)參數(shù),然而天線在制造過(guò)程中的不可避免的隨機(jī)誤差,會(huì)導(dǎo)致實(shí)際參數(shù)偏離理論值,進(jìn)而讓實(shí)際的天線性能可能達(dá)不到理想的性能指標(biāo),所以在通常情況下需要耗費(fèi)巨大的人力并利用昂貴的校準(zhǔn)設(shè)備對(duì)天線進(jìn)行校準(zhǔn),使其性能指標(biāo)達(dá)到設(shè)計(jì)要求。因此,在實(shí)際應(yīng)用中,對(duì)天線進(jìn)行誤差分析,是天線設(shè)計(jì)時(shí)非常重要的一步,通過(guò)誤差分析能預(yù)測(cè)制造誤差對(duì)天線性能的影響范圍,進(jìn)而能更好的利用一些校準(zhǔn)系統(tǒng)對(duì)天線進(jìn)行校準(zhǔn)。
不同類型的誤差對(duì)陣列天線的性能可能具有非常大的影響,因此,誤差問(wèn)題是陣列天線設(shè)計(jì)的一個(gè)不可忽視的問(wèn)題。目前已經(jīng)提出了多種誤差分析技術(shù),但這些技術(shù)都是利用不同的方法對(duì)相控陣的幅度,相位和位置誤差等進(jìn)行分析。而頻控陣作為一種當(dāng)代新型陣列,其原理是通過(guò)在每個(gè)陣列元素之間施加一個(gè)較小的(與載波頻率相比)均勻頻率偏移,進(jìn)而產(chǎn)生一個(gè)距離角耦合波束圖案,該波束是隨時(shí)間、距離和角度的變化,并且在不同距離和角度上周期性地出現(xiàn)最大值,這與相控陣有非常大的不同。而造成這一現(xiàn)象的根本原因是,頻控陣比相控陣多了一個(gè)設(shè)計(jì)自由度頻偏,頻偏作為頻控陣最核心的設(shè)計(jì)參數(shù)之一,其誤差必定會(huì)對(duì)頻控陣波束性能產(chǎn)生重大的影響,但目前鮮有分析頻控陣誤差的方法或文獻(xiàn),大部分誤差分析的相關(guān)技術(shù)都是適用于相控陣的幅度、相位和位置等誤差,對(duì)于頻控陣頻偏誤差分析,還存在一定缺口。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于提供一種頻控陣?yán)走_(dá)頻偏誤差分析方法,旨在解決現(xiàn)有技術(shù)中缺少頻控陣頻偏誤差分析方法的問(wèn)題。
為實(shí)現(xiàn)上述目的,本發(fā)明采用一種頻控陣?yán)走_(dá)頻偏誤差分析方法,包括下列步驟:
構(gòu)建發(fā)射波束模型,推導(dǎo)發(fā)射波束的數(shù)學(xué)表達(dá)式;
引入已有的功率譜推導(dǎo)公式分析;
分別求出發(fā)射波束表達(dá)式的對(duì)應(yīng)參數(shù);
將所述對(duì)應(yīng)參數(shù)代入所述功率譜推導(dǎo)公式,獲得發(fā)射波束功率譜的上界和下界;
仿真分析進(jìn)行驗(yàn)證。
其中,所述發(fā)射波束模型為頻控陣發(fā)射波束模型。
其中,在構(gòu)建發(fā)射波束模型,推導(dǎo)發(fā)射波束的數(shù)學(xué)表達(dá)式的過(guò)程中,構(gòu)建頻控陣發(fā)射波束模型,推導(dǎo)存在頻偏誤差時(shí)發(fā)射波束功率譜的數(shù)學(xué)表達(dá)式,并獲得由頻率誤差引起的功率譜相位變化的上界和下界的數(shù)學(xué)表達(dá)式。
其中,所述功率譜推導(dǎo)公式為已有的基于區(qū)間算法的功率譜推導(dǎo)公式。
其中,所述對(duì)應(yīng)參數(shù)包括發(fā)射波束表達(dá)式實(shí)部的中點(diǎn)和區(qū)間寬度,還包括發(fā)射波束表達(dá)式虛部的中點(diǎn)和區(qū)間寬度。
其中,在將所述對(duì)應(yīng)參數(shù)代入所述功率譜推導(dǎo)公式,獲得發(fā)射波束功率譜的上界和下界的過(guò)程中,將發(fā)射波束表達(dá)式實(shí)部以及虛部的中點(diǎn)和區(qū)間寬度值代入已有的基于區(qū)間算法的功率譜推導(dǎo)公式,獲得存在頻偏誤差時(shí)發(fā)射波束功率譜的上界和下界。
其中,在仿真分析進(jìn)行驗(yàn)證的過(guò)程中,應(yīng)用Linear-FDA、Log-FDA和Taylor-FDA三種構(gòu)型進(jìn)行仿真驗(yàn)證有效性。
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