[發(fā)明專利]具有不同的幾何形狀的電感線圈在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202111073995.0 | 申請日: | 2016-10-26 |
| 公開(公告)號(hào): | CN113782297A | 公開(公告)日: | 2021-12-10 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | O·J·里德勒;P·肯尼斯;K·弗雷斯特 | 申請(專利權(quán))人: | 科利耳有限公司 |
| 主分類號(hào): | H01F17/00 | 分類號(hào): | H01F17/00;H01F27/28;H01Q1/27;H01Q1/36;H04R25/00 |
| 代理公司: | 北京市金杜律師事務(wù)所 11256 | 代理人: | 張鵬 |
| 地址: | 澳大利亞*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 具有 不同 幾何 形狀 電感線圈 | ||
1.一種設(shè)備,包括:
電感通信線圈,所述電感通信線圈具有至少一個(gè)導(dǎo)電匝的導(dǎo)體,其中所述導(dǎo)體在第一位置處的寬度相對于在第二位置處的寬度更寬,其中,
所述導(dǎo)體包括多個(gè)匝,其中所述第一位置在第一匝處,并且所述第二位置在第二匝處,并且,
所述第二匝是相對于所述第一匝的外匝。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的設(shè)備,其中:
所述第一位置和所述第二位置處于盡可能靠近的位置同時(shí)處于不同的匝。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的設(shè)備,其中:
所述導(dǎo)體包括至少三個(gè)匝,其中所述第一位置在第一匝處,并且所述第二位置在第二匝處;
所述導(dǎo)體在第三位置處的寬度相對于所述第一位置處的寬度更寬;以及
所述第三位置在第三匝上,其中所述第三匝在所述第一匝和所述第二匝內(nèi)部。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的設(shè)備,其中:
所述導(dǎo)體包括定位于襯底的第一層級(jí)上的第一匝和定位于所述襯底的第二層級(jí)上的第二匝,其中至少基本上沿各個(gè)匝的全部,所述第一匝的寬度與所述第二匝的寬度相同。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的設(shè)備,其中:
所述導(dǎo)體是印刷電路板的一部分;
所述電感通信線圈包括第一層級(jí)和第二層級(jí);
所述至少一個(gè)導(dǎo)電匝至少包括第一導(dǎo)電匝和第二導(dǎo)電匝,二者定位于所述第一層級(jí)上;
第三導(dǎo)電匝和第四導(dǎo)電匝定位于所述第二層級(jí)上;
導(dǎo)電路徑沿著所述第一導(dǎo)電匝延伸,并且繼而延伸到所述第三導(dǎo)電匝,并且繼而延伸到所述第四導(dǎo)電匝,并且繼而延伸到所述第二導(dǎo)電匝。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的設(shè)備,其中:
所述第一匝的半徑標(biāo)準(zhǔn)化的表面積與第二匝的半徑標(biāo)準(zhǔn)化的表面積不同。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的設(shè)備,其中:
所述導(dǎo)體的起點(diǎn)和所述導(dǎo)體的終點(diǎn)分別經(jīng)由各自獨(dú)立的路徑電耦合至以下電路:
醫(yī)學(xué)設(shè)備的外部部件,其中所述外部部件被配置為經(jīng)由所述電感通信線圈經(jīng)皮通信;或者
醫(yī)學(xué)設(shè)備的可植入部件,其中所述可植入部件被配置為經(jīng)由所述電感通信線圈經(jīng)皮通信。
8.一種設(shè)備,包括:
經(jīng)皮電感通信天線,所述經(jīng)皮電感通信天線具有不均勻的幾何形狀的導(dǎo)體,其中所述不均勻的幾何形狀是不均勻的寬度。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的設(shè)備,其中:
所述導(dǎo)體至少包括第一匝、第二匝和第三匝,其中所述第一匝具有與所述第二匝和所述第三匝不同的寬度,并且所述第二匝具有與所述第三匝不同的寬度。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的設(shè)備,其中:
所述第一匝、所述第二匝或所述第三匝中的至少一個(gè)基本上在所述匝的全部上具有均勻的寬度。
11.根據(jù)權(quán)利要求9所述的設(shè)備,其中:
關(guān)于所述第一匝、所述第二匝和所述第三匝,相應(yīng)的寬度非線性地變化。
12.根據(jù)權(quán)利要求9所述的設(shè)備,其中:
關(guān)于所述第一匝、所述第二匝和所述第三匝,相應(yīng)的寬度指數(shù)地變化。
13.根據(jù)權(quán)利要求8所述的設(shè)備,其中:
所述導(dǎo)體具有多個(gè)匝,并且除了歸因于圓周的差異之外,第一匝的表面積與第二匝的表面積不同,其中所述多個(gè)匝中的第一匝和第二匝具有位于相同平面上的底部。
14.根據(jù)權(quán)利要求8所述的設(shè)備,其中:
所述導(dǎo)體具有多個(gè)匝,并且第一匝的截面面積不同于第二匝的截面面積。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于科利耳有限公司,未經(jīng)科利耳有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/202111073995.0/1.html,轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。





