[發明專利]成膜裝置

在審

• 申請號: 202111063274.1
• 申請日: 2021-09-10
• 公開（公告）號: CN114182227A
• 公開（公告）日: 2022-03-15
• 發明（設計）人: 田辺昌平;吉村浩司;松橋亮
• 申請（專利權）人: 芝浦機械電子裝置株式會社
• 主分類號: C23C14/56
• 分類號: C23C14/56;C23C14/34;C23C14/54
• 代理公司: 北京同立鈞成知識產權代理有限公司 11205
• 代理人: 楊貝貝;臧建明

1.一種成膜裝置，其特征在于，包括：

腔室，能夠使內部為真空；

旋轉臺，設置于所述腔室內，且沿著圓周的搬運路徑循環搬運工件；

多個靶材，包含堆積于所述工件成為膜的成膜材料而形成，與通過所述旋轉臺循環搬運的所述工件相向，且設置于距所述旋轉臺的旋轉中心的半徑方向的距離不同的位置上；

屏蔽構件，形成包圍來自所述靶材的所述成膜材料飛散的區域的成膜室，且在與通過所述旋轉臺循環搬運的所述工件相向的一側具有開口；以及

等離子體發生器，具有向所述成膜室導入濺射氣體的濺射氣體導入部及向所述靶材施加電力的電源部，通過向所述靶材施加電力而使所述成膜室內的濺射氣體產生等離子體，且

具有通過縮窄所述開口來遮蔽從所述靶材飛散的所述成膜材料的遮蔽板，

關于所述遮蔽板覆蓋所述開口的面積的比例，相較于與距所述旋轉中心最遠的靶材相向的區域，與距所述旋轉中心最近的靶材相向的區域大。

2.根據權利要求1所述的成膜裝置，其特征在于，所述靶材為三個以上，且

隨著成為距所述旋轉中心近的區域，所述遮蔽板覆蓋所述開口的面積的比例大。

3.根據權利要求2所述的成膜裝置，其特征在于，所述遮蔽板的一部分設置于會與距所述旋轉中心最近的靶材產生所述旋轉臺的旋轉軸方向上的重疊的位置上。

4.根據權利要求1至3中任一項所述的成膜裝置，其特征在于，所述電源部向距所述旋轉中心最近的靶材施加電力的時間比向距所述旋轉中心最遠的靶材施加電力的時間短。

5.根據權利要求4所述的成膜裝置，其特征在于，所述靶材為三個以上，且

隨著成為距所述旋轉中心近的靶材，施加電力的時間短。

6.根據權利要求1至5中任一項所述的成膜裝置，其特征在于，向所述各靶材的施加電力大于4.5kW。

7.根據權利要求6所述的成膜裝置，其特征在于，向所述各靶材的施加電力相等。

8.根據權利要求1至7中任一項所述的成膜裝置，其特征在于，具有膜處理部，所述膜處理部設置于所述腔室內，且每當循環搬運的所述工件通過所述成膜部而形成膜時，對所述膜進行膜處理。

9.根據權利要求1至8中任一項所述的成膜裝置，其特征在于，所謂與距所述旋轉中心最遠的靶材相向的區域，

是利用以所述旋轉中心為中心的同心圓劃分由所述開口劃定的區域而成的環狀扇形的區域，且是包括距所述旋轉中心最遠的靶材的正下方、不包括其他靶材的正下方的區域，

所謂與距所述旋轉中心最近的靶材相向的區域，

是所述環狀扇形的區域，且是包括距所述旋轉中心最近的靶材的正下方、不包括其他靶材的正下方的區域。