[發明專利]平板透鏡、其制備方法及電子裝置在審
| 申請號: | 202111060981.5 | 申請日: | 2021-09-10 |
| 公開(公告)號: | CN115793112A | 公開(公告)日: | 2023-03-14 |
| 發明(設計)人: | 張亮亮 | 申請(專利權)人: | 安徽省東超科技有限公司 |
| 主分類號: | G02B3/00 | 分類號: | G02B3/00;G02B6/13;G02B6/122;G02B30/56 |
| 代理公司: | 深圳市賽恩倍吉知識產權代理有限公司 44334 | 代理人: | 袁建設 |
| 地址: | 230088 安徽省合肥市高*** | 國省代碼: | 安徽;34 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 平板 透鏡 制備 方法 電子 裝置 | ||
1.一種平板透鏡的制備方法,其特征在于,包括:
于一透明的基底的相對的第一表面及第二表面上分別形成一體成型的第一光波導層及一體成型的第二光波導層,其中,所述第一光波導層包括沿第一方向延伸且沿第二方向周期性排列的多個第一齒形結構,所述第二光波導層包括沿所述第二方向延伸且沿所述第一方向周期性排列的多個第二齒形結構,所述第二方向與所述第一方向正交,每一所述第一齒形結構包括垂直于所述基底的第一垂直面,每一所述第二齒形結構包括垂直于所述基底的第二垂直面;以及
于所述第一垂直面上及所述第二垂直面上分別形成第一反射層及第二反射層。
2.如權利要求1所述的平板透鏡的制備方法,其特征在于,所述第一光波導層和所述第二光波導層形成于同一滾印制程中;或者,所述第一光波導層和所述第二光波導層形成于不同的滾印制程中;或者,所述第一光波導層和所述第二光波導層形成于不同的熱壓印制程中。
3.如權利要求1所述的平板透鏡的制備方法,其特征在于,所述第一光波導層和所述第二光波導層的材質為熱固化材料,形成所述第一光波導層和所述第二光波導層還包括熱固化的步驟;或者,所述第一光波導層和所述第二光波導層的材質為光固化材料,形成所述第一光波導層和所述第二光波導層還包括光固化的步驟。
4.如權利要求1至3中任意一項所述的平板透鏡的制備方法,其特征在于,所述第一齒形結構包括連接所述第一垂直面的第一連接面,相鄰的兩個所述第一垂直面之間連接有一個所述第一連接面;所述第二齒形結構包括連接所述第二垂直面的第二連接面,相鄰的兩個所述第二垂直面之間連接有一個所述第二連接面;
其中,于所述第一垂直面上形成所述第一反射層包括:
于所述第一垂直面及所述第一連接面上形成第一反射材料層;以及
圖案化所述第一反射材料層,使所述第一反射材料層的位于所述第一連接面上的部分被去除,使所述第一反射材料層的位于所述第一垂直面上的部分被留下而形成所述第一反射層;
于所述第二垂直面上形成所述第二反射層包括:
于所述第二垂直面及所述第二連接面上形成第二反射材料層;以及
圖案化所述第二反射材料層,使所述第二反射材料層的位于所述第二連接面上的部分被去除,使所述第二反射材料層的位于所述第二垂直面上的部分被留下而形成所述第二反射層。
5.如權利要求4所述的平板透鏡的制備方法,其特征在于,所述第一反射材料層的材質為金屬,形成所述第一反射材料層的方法為真空蒸發鍍膜或磁控濺射鍍膜;和/或所述第二反射材料層的材質為金屬,形成所述第二反射材料層的方法為真空蒸發鍍膜或磁控濺射鍍膜。
6.如權利要求5所述的平板透鏡的制備方法,其特征在于,圖案化所述第一反射材料層的方法為光刻法或激光燒蝕法;和/或圖案化所述第二反射材料層的方法為光刻法或激光燒蝕法。
7.如權利要求6所述的平板透鏡的制備方法,其特征在于,所述光刻法包括噴淋式顯影的步驟或者浸潤式顯影的步驟。
8.一種平板透鏡,其特征在于,包括:
透明的基底,具有相對的第一表面及第二表面;
一體成型的第一光波導層,位于所述第一表面上,所述第一光波導層包括沿第一方向延伸且沿第二方向周期性排列的多個第一齒形結構,所述第二方向與所述第一方向正交,每一所述第一齒形結構包括垂直于所述基底的第一垂直面,所述第一垂直面上形成有第一反射層;以及
一體成型的第二光波導層,位于所述第二表面上,所述第二光波導層包括沿所述第二方向延伸且沿所述第一方向周期性排列的多個第二齒形結構,每一所述第二齒形結構包括垂直于所述基底的第二垂直面,所述第二垂直面上形成有第二反射層。
9.如權利要求8所述的平板透鏡,其特征在于,所述基底的材質為樹脂,所述第一光波導層和/或所述第二光波導層的材質為光固化材料或熱固化材料,所述第一反射材料層的材質和/或所述第二反射層的材質為金屬。
10.一種電子裝置,其特征在于,包括顯示器以及如權利要求8或9所述的平板透鏡;其中,所述平板透鏡位于所述顯示器的一側,以使來自所述顯示器出射的光經所述平板透鏡后形成浮空實像。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于安徽省東超科技有限公司,未經安徽省東超科技有限公司許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/202111060981.5/1.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。





