[發(fā)明專利]顯示面板的光配向方法、顯示面板和顯示裝置在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202111056094.0 | 申請日: | 2021-09-09 |
| 公開(公告)號: | CN113867052A | 公開(公告)日: | 2021-12-31 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 李凡;神戶誠;張勇;彭林;王志剛;李林;吳潘強;任駒;劉聰聰 | 申請(專利權(quán))人: | 京東方科技集團股份有限公司;成都中電熊貓顯示科技有限公司 |
| 主分類號: | G02F1/1337 | 分類號: | G02F1/1337 |
| 代理公司: | 北京聿宏知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11372 | 代理人: | 陳超德;吳昊 |
| 地址: | 100015 *** | 國省代碼: | 北京;11 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 顯示 面板 方法 顯示裝置 | ||
1.一種顯示面板的光配向方法,其特征在于,所述顯示面板中的每個待配向基板包括M個曝光區(qū),所述方法包括:
基于N個曝光區(qū)的預(yù)設(shè)目標配向力方向,確定所述N個曝光區(qū)的預(yù)設(shè)目標配向力方向?qū)?yīng)的第一分量曝光方向和第二分量曝光方向;其中,所述第一分量曝光方向和所述第二分量曝光方向用于合成所述目標曝光方向;所述N小于或等于所述M;
基于所述第一分量曝光方向和所述第二分量曝光方向,分別對所述待配向基板中對應(yīng)的曝光區(qū)的配向膜進行曝光配向。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示面板的光配向方法,其特征在于,所述待配向基板包括薄膜晶體管基板和與所述薄膜晶體管基板對盒設(shè)置的彩膜基板。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示面板的光配向方法,其特征在于,所述待配向基板包括薄膜晶體管基板。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示面板的光配向方法,其特征在于,所述待配向基板包括彩膜基板。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示面板的光配向方法,其特征在于,還包括:
若所述N小于所述M,基于L個曝光區(qū)的預(yù)設(shè)目標配向力方向,分別對L個曝光區(qū)的配向膜進行曝光配向;
其中,所述L為所述M與所述N的差值。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示面板的光配向方法,其特征在于,所述第一分量曝光方向與所述第二分量曝光方向相互垂直,且所述第一分量曝光方向與對應(yīng)的預(yù)設(shè)目標配向力方向之間的夾角小于90°,所述第二分量曝光方向與對應(yīng)的預(yù)設(shè)目標配向力方向之間的夾角小于90°。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示面板的光配向方法,其特征在于,所述第一分量曝光方向與對應(yīng)的預(yù)設(shè)目標配向力方向之間的夾角為45°,所述第二分量曝光方向與對應(yīng)的預(yù)設(shè)目標配向力方向之間的夾角為45°。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示面板的光配向方法,其特征在于,所述預(yù)設(shè)目標配向力方向平行于所述待配向基板在配向設(shè)備中的前進方向;或者,所述預(yù)設(shè)目標配向力方向垂直于所述待配向基板在配向設(shè)備中的前進方向。
9.一種顯示面板,其特征在于,所述顯示面板中的每個待配向基板的配向膜采用如權(quán)利要求1-8中任一項所述的顯示面板的光配向方法進行配向。
10.一種顯示裝置,其特征在于,包括如權(quán)利要求9所述的顯示面板。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于京東方科技集團股份有限公司;成都中電熊貓顯示科技有限公司,未經(jīng)京東方科技集團股份有限公司;成都中電熊貓顯示科技有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/202111056094.0/1.html,轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 同類專利
- 專利分類
G02F 用于控制光的強度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如轉(zhuǎn)換、選通、調(diào)制或解調(diào),上述器件或裝置的光學(xué)操作是通過改變器件或裝置的介質(zhì)的光學(xué)性質(zhì)來修改的;用于上述操作的技術(shù)或工藝;變頻;非線性光學(xué);光學(xué)
G02F1-00 控制來自獨立光源的光的強度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如,轉(zhuǎn)換、選通或調(diào)制;非線性光學(xué)
G02F1-01 .對強度、相位、偏振或顏色的控制
G02F1-29 .用于光束的位置或方向的控制,即偏轉(zhuǎn)
G02F1-35 .非線性光學(xué)
G02F1-355 ..以所用材料為特征的
G02F1-365 ..在光波導(dǎo)結(jié)構(gòu)中的





