[發明專利]直接還原用原料、直接還原用原料的制造方法和還原鐵的制造方法

有效

• 申請號: 202111054231.7
• 申請日: 2014-07-25
• 公開（公告）號: CN113699299B
• 公開（公告）日: 2023-06-02
• 發明（設計）人: 水谷守利;西村恒久
• 申請（專利權）人: 日本制鐵株式會社
• 主分類號: C21B13/02
• 分類號: C21B13/02
• 代理公司: 北京市中咨律師事務所 11247
• 代理人: 楊光軍;段承恩

1.一種直接還原用原料，其在豎爐中被還原氣體還原，其特征在于，具備原料和被覆層，所述被覆層被覆所述原料的周圍并且具有多孔結構，裝入所述豎爐前的所述被覆層的氣孔率為20體積％以上，并且所述被覆層不含有氫氧化物，包含Ca的氧化物，

所述直接還原用原料，是將在原料的周圍用至少含有氫氧化鈣的漿狀的被覆材料被覆而得到的被覆原料，在向所述豎爐裝入之前，在不含CO₂的氣氛中使所述被覆原料所含有的水分蒸發，并在其后且在向所述豎爐裝入之前，在不含水蒸氣的氣氛中將所述被覆原料在脫水溫度以上加熱，由此使所述被覆材料中所含有的所述氫氧化物分解而使其不含氫氧化物而得到的。

2.根據權利要求1所述的直接還原用原料，其特征在于，所述被覆層包含Mg的氧化物。

3.權利要求1或2中所述的直接還原用原料的制造方法，該制造方法的特征在于，具有：

被覆工序，該工序是生成被覆原料的工序，所述被覆原料是將原料的周圍用含有氫氧化物的漿狀的被覆材料被覆而成的，所述氫氧化物包含氫氧化鈣、氫氧化鎂和水泥水合物中的至少一種；

蒸發工序，該工序是在向所述豎爐裝入之前，在不含CO₂的氣氛中，在能夠使所述被覆原料中所含有的水分蒸發的溫度下對所述被覆原料加熱24小時，由此使所述被覆原料中所含有的水分蒸發的工序；和

脫水工序，該工序是在所述蒸發工序后且向所述豎爐裝入之前，在不含水蒸氣的氣氛中，對所述被覆原料在脫水溫度以上加熱3小時，由此使所述被覆材料中所含有的所述氫氧化物分解的工序。

4.根據權利要求3所述的直接還原用原料的制造方法，其特征在于，在所述被覆工序中，使用浸漬法或噴霧法將所述原料用所述被覆材料被覆。

5.一種還原鐵的制造方法，其特征在于，

包括：將權利要求1或2所述的直接還原用原料以超過室溫的溫度裝入所述豎爐中的工序，

所述豎爐是使用包含氫氣的還原氣體來制造還原鐵的還原爐。

6.根據權利要求5所述的還原鐵的制造方法，其特征在于，還具有預熱工序，該預熱工序是在將所述直接還原用原料裝入所述豎爐之前，將所述直接還原用原料預熱至所述超過室溫的溫度的工序。