[發明專利]一種體聲波諧振裝置、濾波裝置及射頻前端裝置

在審

• 申請號: 202111053511.6
• 申請日: 2021-09-08
• 公開（公告）號: CN113810006A
• 公開（公告）日: 2021-12-17
• 發明（設計）人: 韓興;周建
• 申請（專利權）人: 常州承芯半導體有限公司
• 主分類號: H03H9/02
• 分類號: H03H9/02;H03H9/56;H03H9/58
• 代理公司: 北京集佳知識產權代理有限公司 11227
• 代理人: 吳敏

1.一種體聲波諧振裝置，其特征在于，包括：

第一層，所述第一層包括空腔；

第一電極層，所述第一電極層的至少一端位于所述空腔內；

壓電層，沿垂直方向位于所述第一電極層上，覆蓋所述空腔，所述壓電層包括第一側及與所述第一側沿所述垂直方向相對的第二側，所述第一電極層位于所述第一側；

第二電極層，位于所述第二側，沿所述垂直方向位于所述壓電層上，所述第一電極層、所述第二電極層及所述壓電層的重合區域為第一區域；以及

至少一個側空腔，位于所述第一層與所述壓電層之間，嵌入所述第一層，與所述空腔相通，所述至少一個側空腔的深度小于所述空腔的深度，所述至少一個側空腔沿水平方向位于所述第一區域外側。

2.如權利要求1所述的體聲波諧振裝置，其特征在于，所述至少一個側空腔包括：第一側空腔，沿所述水平方向位于所述第一區域外側，接觸所述壓電層，與所述第二電極層具有重合部。

3.如權利要求1所述的體聲波諧振裝置，其特征在于，所述至少一個側空腔包括：第二側空腔，沿所述水平方向位于所述第一區域外側，位于所述第一層與所述第一電極層之間，接觸所述第一電極層，與所述第一電極層具有重合部。

4.如權利要求1所述的體聲波諧振裝置，其特征在于，還包括：至少一個邊緣結構，位于所述第一電極層和所述第二電極層的重合部的邊緣。

5.如權利要求4所述的體聲波諧振裝置，其特征在于，所述至少一個邊緣結構包括：第一邊緣結構，位于所述第二側，位于所述第二電極層上，其中，所述第一邊緣結構包括第一圍邊部，所述第一圍邊部位于所述第二電極層上與所述第一電極層重合部的邊緣上。

6.如權利要求5所述的體聲波諧振裝置，其特征在于，所述第一圍邊部呈環狀。

7.如權利要求5所述的體聲波諧振裝置，其特征在于，所述第一邊緣結構的材料包括金屬。

8.如權利要求4所述的體聲波諧振裝置，其特征在于，所述至少一個邊緣結構包括：第二邊緣結構，所述第一電極層位于所述第二邊緣結構上，其中，所述第二邊緣結構包括第二圍邊部，所述第二圍邊部位于所述空腔內，位于所述第一電極層上與所述第二電極層重合部的邊緣。

9.如權利要求8所述的體聲波諧振裝置，其特征在于，所述第二圍邊部呈環狀。

10.如權利要求8所述的體聲波諧振裝置，其特征在于，所述第二邊緣結構的材料包括金屬。

11.如權利要求8所述的體聲波諧振裝置，其特征在于，所述至少一個側空腔包括：第三側空腔，沿所述水平方向位于所述第一區域外側，位于所述第一層與所述第二邊緣結構之間，接觸所述第二邊緣結構，與所述第二邊緣結構具有重合部。

12.如權利要求4所述的體聲波諧振裝置，其特征在于，所述至少一個邊緣結構包括：第三邊緣結構，位于所述第二側，位于所述第二電極層上，其中，所述第三邊緣結構包括第三圍邊部，所述第三圍邊部位于所述第二電極層上與所述第一電極層重合部的部分邊緣上。

13.如權利要求12所述的體聲波諧振裝置，其特征在于，所述至少一個邊緣結構還包括：第四邊緣結構，所述第一電極層位于所述第四邊緣結構上，其中，所述第四邊緣結構包括第四圍邊部，所述第四圍邊部位于所述空腔內，位于所述第一電極層上與所述第二電極層重合部的部分邊緣。

14.如權利要求13所述的體聲波諧振裝置，其特征在于，所述第三圍邊部和所述第四圍邊部部分重合，形成環狀圍邊。

15.如權利要求13所述的體聲波諧振裝置，其特征在于，所述第三邊緣結構的材料包括金屬，所述第四邊緣結構的材料包括金屬。