[發明專利]測量設備

在審

• 申請號: 202111030942.0
• 申請日: 2021-09-03
• 公開（公告）號: CN114137054A
• 公開（公告）日: 2022-03-04
• 發明（設計）人: 客野智彥;后藤愛
• 申請（專利權）人: 橫河電機株式會社
• 主分類號: G01N27/38
• 分類號: G01N27/38;G01N27/406
• 代理公司: 上海專利商標事務所有限公司 31100
• 代理人: 施浩

1.一種測量設備，包括：

第一電極和第二電極，該第一電極和第二電極浸入儲存在測量槽中的樣品水中；

馬達，該馬達使所述第一電極旋轉；

控制器，該控制器基于流過所述樣品水的電流的測量結果在測量模式下操作，其中，

在所述測量模式下，所述控制器計算測量目標在所述樣品水中的濃度，并且

所述馬達改變所述馬達的旋轉速度。

2.根據權利要求1所述的測量設備，其中，

所述馬達：

在所述旋轉速度為正值時，順時針或逆時針旋轉作為正向；并且

在所述旋轉速度為負值時，沿與所述正向相反的方向旋轉，并且

所述控制器控制所述馬達的旋轉，并且使所述旋轉速度在正值和負值之間交替變化。

3.根據權利要求2所述的測量設備，其中，

所述控制器在清潔所述第一電極的清潔模式下操作，并且

當所述控制器在所述測量模式或所述清潔模式中的至少一種模式下操作時，所述控制器控制所述馬達的旋轉，并且使所述旋轉速度在正值和負值之間交替變化。

4.根據權利要求1至3中任一項所述的測量設備，其中，

所述控制器在不計算所述測量目標在所述樣品水中的濃度的待機模式下操作，并且

當所述控制器在所述待機模式下操作時，所述控制器控制所述馬達的旋轉，并且使在所述待機模式下操作時的所述旋轉速度的第一絕對值小于在所述測量模式下操作時的所述旋轉速度的第二絕對值。

5.根據權利要求4所述的測量設備，其中，當所述控制器在所述待機模式下操作時，所述控制器使所述馬達停止。

6.根據權利要求1至5中任一項所述的測量設備，還包括：

粒狀構件，該粒狀構件設置在所述測量槽內部并且與所述第一電極的表面接觸，其中，

所述控制器在更換所述粒狀構件之后在磨合模式下操作，并且

所述控制器控制所述馬達的旋轉，并且使在所述磨合模式下操作時的所述旋轉速度的第三絕對值大于在所述測量模式下操作時的所述旋轉速度的第二絕對值。

7.根據權利要求1至6中任一項所述的測量設備，其中，所述控制器基于在具有已知測量目標濃度的標準樣品水中流動的電流的大小來控制所述旋轉速度。