[發明專利]高精度充氫控制裝置、充氫控制方法和設備

在審

• 申請號: 202111027795.1
• 申請日: 2021-09-02
• 公開（公告）號: CN113697768A
• 公開（公告）日: 2021-11-26
• 發明（設計）人: 公維佳;李金山
• 申請（專利權）人: 西北工業大學太倉長三角研究院;西北工業大學
• 主分類號: C01B3/00
• 分類號: C01B3/00;C01B3/02;G01F22/02
• 代理公司: 北京漢本專利代理事務所(普通合伙) 11923
• 代理人: 張詠梅;李婷

本申請提供了一種高精度充氫控制裝置、充氫控制方法和設備，該高精度充氫控制裝置包括：氫氣發生器，該氫氣發生器用于產生氫氣；計量室，該氫氣發生器通過控制閥門連接至該計量室；真空室，該計量室通過第一閥門連接至該真空室；該真空室的一端設置有容納管道，該容納管道用于容納待吸氫材料，該容納管道設置在管式爐的內部，該管式爐用于對該容納管道進行加熱，以構建溫度大于預設閾值的充氫環境；其中，該控制閥門用于控制該氫氣發生器向該計量室輸入的氫氣的量，該第一閥門用于將該計量室的氫氣輸入至該真空室，以便該待吸氫材料在充氫環境下吸收氫氣。能夠同時控制吸氫計量和吸氫溫度。

技術領域

本申請實施例涉及吸氫材料的吸氫控制領域，并且更具體地，涉及高精度充氫控制裝置、充氫控制方法和設備。

背景技術

對于國內外研究氫脆材料或儲氫結構材料的科研工作者，往往需要對材料吸氫過程進行精確計量和控制。同時還需要對材料吸氫溫度進行研究，但是，截止目前，并沒有控制吸氫計量和吸氫溫度的裝置，對這方面材料的研究造成障礙。

因此，本領域亟需一種能夠控制吸氫計量和吸氫溫度的裝置。

發明內容

本申請提供了一種高精度充氫控制裝置、充氫控制方法和設備，能夠同時控制吸氫計量和吸氫溫度。

一方面，提供了一種材料的高精度充氫控制裝置，其特征在于，包括：

氫氣發生器，該氫氣發生器用于產生氫氣；

計量室，該氫氣發生器通過控制閥門連接至該計量室；

真空室，該計量室通過第一閥門連接至該真空室，該計量室的空間小于該真空室的空間；該真空室的一端設置有容納管道，該容納管道用于容納待吸氫材料，該容納管道和該真空室之間形成有過渡腔；

管式爐，該管式爐包括爐蓋和底座，該爐蓋和該底座中間可形成有用于包覆該容納管道的管狀空間，該容納管道設置在該管狀空間的內部，該管式爐用于對該容納管道進行加熱，以構建溫度大于預設閾值的充氫環境；

其中，該控制閥門用于控制該氫氣發生器向該計量室輸入的氫氣的量，該第一閥門用于將該計量室的氫氣輸入至該真空室，以便該待吸氫材料在充氫環境下吸收氫氣。

另一方面，提供了一種充氫控制方法，其特征在于，該高精度充氫控制裝置包括氫氣發生器、計量室、真空室以及管式爐；該氫氣發生器用于產生氫氣；該氫氣發生器通過控制閥門連接至該計量室，該計量室的空間小于該真空室的空間；該真空室的一端設置有容納管道，該容納管道用于容納待吸氫材料，該容納管道和該真空室之間形成有過渡腔；該管式爐包括爐蓋和底座，該爐蓋和該底座中間可形成有用于包覆該容納管道的管狀空間，該容納管道設置在該管狀空間的內部，該管式爐用于對該容納管道進行加熱，以構建溫度大于預設閾值的充氫環境；

該方法包括：

通過控制該控制閥門的狀態，使得該計量室從該該氫氣發生器獲取預設量的氫氣；

開啟該第一閥門，使得該計量室的氫氣輸入至該真空室，以便該待吸氫材料在充氫環境下吸收氫氣。

另一方面，提供了一種充氫控制設備，其特征在于，該高精度充氫控制裝置包括氫氣發生器、計量室、真空室以及管式爐；該氫氣發生器用于產生氫氣；該氫氣發生器通過控制閥門連接至該計量室，該計量室的空間小于該真空室的空間；該真空室的一端設置有容納管道，該容納管道用于容納待吸氫材料，該容納管道和該真空室之間形成有過渡腔；該管式爐包括爐蓋和底座，該爐蓋和該底座中間可形成有用于包覆該容納管道的管狀空間，該容納管道設置在該管狀空間的內部，該管式爐用于對該容納管道進行加熱，以構建溫度大于預設閾值的充氫環境；

該設備包括：

第一控制單元，用于通過控制該控制閥門的狀態，使得該計量室從該該氫氣發生器獲取預設量的氫氣；