[發明專利]極紫外光刻機材料檢測裝置及測試方法

在審

• 申請號: 202111023016.0
• 申請日: 2021-09-01
• 公開（公告）號: CN113933454A
• 公開（公告）日: 2022-01-14
• 發明（設計）人: 羅艷;吳曉斌;王魁波;韓曉泉;謝婉露;沙鵬飛;李慧
• 申請（專利權）人: 中國科學院微電子研究所
• 主分類號: G01N33/00
• 分類號: G01N33/00;G01D21/02
• 代理公司: 北京辰權知識產權代理有限公司 11619
• 代理人: 田娜

1.一種極紫外光刻機材料檢測裝置，其特征在于，包括：

真空容器；

排空組件，所述排空組件與所述真空容器相連通，所述排空組件用于將所述真空容器內的氣體排空；

供氫組件，所述供氫組件與所述真空容器相連通，所述供氫組件用于向所述真空容器內輸送氫氣；

放電組件，所述放電組件包括射頻發生器、第一電極和第二電極，所述第一電極和所述第二電極均位于所述真空容器內相對設置，所述第一電極位于所述第二電極的正上方，所述射頻發生器位于所述真空容器外且與所述第一電極相連接，所述第二電極接地設置；

檢測組件，所述檢測組件與所述真空容器內部相連通，所述檢測組件用于檢測所述真空容器的真空壓力、所述真空容器內產生的等離子體參數、所述真空容器內氣體的組成成分和各氣體的分壓力。

2.根據權利要求1所述的極紫外光刻機材料檢測裝置，其特征在于，所述排空組件包括機械泵，所述機械泵與所述真空容器相連通。

3.根據權利要求2所述的極紫外光刻機材料檢測裝置，其特征在于，所述排空組件包括分子泵，所述機械泵和所述分子泵之間設有三通閥，所述三通閥的第一端和第二端分別與所述分子泵出氣端和所述機械泵相連通，所述三通閥的第三端與所述真空容器相連通，所述分子泵的第一進氣端和所述真空容器之間設有插板閥。

4.根據權利要求3所述的極紫外光刻機材料檢測裝置，其特征在于，所述排空組件包括第一限流結構和第一截止閥，所述第一限流結構和所述第一截止閥均設于所述真空容器和所述分子泵的第二進氣端之間。

5.根據權利要求1所述的極紫外光刻機材料檢測裝置，其特征在于，所述供氫組件包括氣瓶、調節閥和質量流量控制器，所述調節閥位于所述質量流量控制器和所述氣瓶之間，所述質量流量控制器的進氣端與所述調節閥相連通，所述質量流量控制器的出氣端與所述真空容器相連通。

6.根據權利要求1所述的極紫外光刻機材料檢測裝置，其特征在于，所述檢測組件包括真空計、探測組件和質譜組件，所述真空計和所述質譜組件均位于所述真空容器的外側且與所述真空容器的內部相連通，部分所述探測組件穿設于所述真空容器的內部。

7.根據權利要求6所述的極紫外光刻機材料檢測裝置，其特征在于，所述探測組件包括探針和探測器主體，所述探測器主體安裝于所述真空容器的外側，所述探針的一端與所述探測器主體相連接，所述探針的另一端穿設于所述真空容器的內部并部分位于所述第一電極和所述第二電極之間。

8.根據權利要求6所述的極紫外光刻機材料檢測裝置，其特征在于，所述質譜組件包括第二截止閥、第二限流結構和質譜儀，所述第二限流結構和所述第二截止閥均設于所述質譜儀和所述真空容器之間。

9.一種極紫外光刻機材料的氫致放氣測試方法，根據權利要求1-8中任一項所述的極紫外光刻機材料檢測裝置進行實施，其特征在于，包括：

將第一樣品置于第二電極上表面；

控制供氫組件向真空容器內充入氫氣并打開射頻發生器；

待所述第一樣品穩定后獲取質量流量控制器的進氣流量、真空容器內的總壓力、真空容器內氣體組分和各氣體分壓力；

根據所述進氣流量、所述真空容器內的總壓力、所述真空容器內氣體組分和各氣體分壓力，計算樣品的氫致放氣總量。

10.一種極紫外光刻機材料的氫損傷性能測試方法，根據權利要求1-8中任一項所述的極紫外光刻機材料檢測裝置進行實施，其特征在于，包括：

將第二樣品和第三樣品置于第二電極上表面；

控制供氫組件向真空容器內充入氫氣并打開射頻發生器；

經過一定時間并待所述第二樣品和所述第三樣品穩定后，將所述第二樣品和所述第三樣品取出并與未充氫的空白樣品進行對比，分析氫損傷性能。