[發明專利]奈米結構光載體

在審

• 申請號: 202111020194.8
• 申請日: 2021-09-01
• 公開（公告）號: CN115721762A
• 公開（公告）日: 2023-03-03
• 發明（設計）人: 張明正;李逸哲
• 申請（專利權）人: 張明正
• 主分類號: A61L9/18
• 分類號: A61L9/18;A61L9/20;C09D1/00;B82Y20/00
• 代理公司: 北京同鈞律師事務所 16037
• 代理人: 許懷遠;馬爽

1.一種奈米結構光載體，其特征在于，經一噴涂處理或一刷涂處理或一旋涂處理或一浸泡處理或或一成長處理或一沉積處理或一蝕刻處理而形成于一基板，且具光特性或光觸媒或光穿透性或反射性而為具一奈米結構厚度的一薄片狀或一薄膜狀或一薄而不連續的島狀，并由鋁、銅、鎳、鐵、鋅、銀、金、錫、鈷以及鈦的至少其中一所構成，包括：

一奈米級微結構表面，包含多個奈米微級凸塊，每個該奈米級凸塊的一奈米級高度為1至1000奈米之間并小于該奈米結構厚度，每個奈米級凸塊的一奈米級寬度為1至1000奈米之間，相鄰該二奈米級凸塊之間的一間距為1至100000奈米之間；以及

一接觸面，用以設置成接觸至該基板的一承載表面，

其中該奈米級凸塊包含一矩形斷面凸點、一三角錐體狀凸點、一圓柱狀凸點以及一圓弧面狀凸點的其中之一，該奈米結構厚度為10至10000奈米之間，該奈米級凸塊的一第一側面接收一外部入射光而產生一外部反射光以及一內部透射光，該內部透射光投射至該奈米級凸塊的一第二側面而產生一內部反射光以及一外部透射光，該第二側面是相對面于該第一側面，該內部透射光以及該內部反射光在該奈米級凸塊的第一側面以及的第二側面之間形成一反射或共振作用而加強該第一側面以及該第二側面之間的光線強度，該外部透射光投射至相鄰的該奈米級凸塊的一第一側面而產生一另一外部反射光以及一另一內部透射光，該另一內部透射光投射至相鄰的該奈米級凸塊的一第二側面，該外部透射光以及該另一外部反射光在相鄰的該奈米級凸塊的第一側面以及第二側面之間形成反射或共振作用而加強相鄰的該奈米級凸塊的第一側面以及第二側面之間的光線強度。

2.如權利要求1所述的奈米結構光載體，其特征在于，該基板對光具光特性或光觸媒或光穿透性或反射性。

3.如權利要求1所述的奈米結構光載體，其特征在于，該基板對光具光反射性，且與該接觸面相接觸的該承載表面是當作一光反射面。

4.如權利要求1所述的奈米結構光載體，其特征在于，該噴涂處理包含先將一噴涂漿料藉一噴涂處理而噴涂至該接觸面以形成一噴涂層，之后，待自然干燥或經一烘干處理后而形成該奈米結構光載體于該接觸面，該噴涂漿料包含鋁、銅、鎳、鐵、鋅、銀、金、錫、鈷以及鈦的至少其中一以及一承載液體，該承載液體包含去離子水、甲醇、乙醇以及丙酮的至少其中之一，該自然干燥或烘干處理用以移除該承載液體，該烘干處理的溫度是高于該承載液體的沸點。

5.如權利要求1所述的奈米結構光載體，其特征在于，該浸泡處理包含先將一浸泡漿料藉一浸泡處理而在該接觸面上形成一浸泡層，之后，再經自然干燥或一烘干處理后而形成該奈米結構光載體于該接觸面，該浸泡漿料包含鋁、銅、鎳、鐵、鋅、銀、金、錫、鈷以及鈦的至少其中一以及一承載液體，該承載液體包含去離子水、甲醇、乙醇以及丙酮的至少其中之一，該烘干處理用以移除該承載液體，該烘干處理的溫度是高于該承載液體的沸點。

6.如權利要求1所述的奈米結構光載體，其特征在于，該沉積處理包含一物理或化學沉積處理。

7.如權利要求1所述的奈米結構光載體，其特征在于，該蝕刻處理包含一物理或化學蝕刻處理。

8.如權利要求1所述的奈米結構光載體，其特征在于，該奈米級微結構表面包含多個奈米級凹洞，每個所述奈米級凹洞之間是相互間隔開，而且每個所述奈米級凹洞之間也是相互間隔開。

9.如權利要求1所述的奈米結構光載體，其特征在于，該奈米級微結構表面進一步包含多個奈米級凹洞，每個所述奈米級凹洞之間是相互間隔開，而且每個所述奈米級凹洞以及每個所述奈米級凸塊之間也是相互間隔。