[發(fā)明專利]一種不耦合裝藥結構、方法、應用及爆破方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 202111005010.0
• 申請日: 2021-08-30
• 公開（公告）號: CN113819820B
• 公開（公告）日: 2022-07-15
• 發(fā)明（設計）人: 尹作明;王德勝;付明宇
• 申請（專利權）人: 北京科技大學
• 主分類號: F42D1/08
• 分類號: F42D1/08;F42D1/00;F42D3/04
• 代理公司: 北京金智普華知識產(chǎn)權代理有限公司 11401
• 代理人: 岳野

1.一種不耦合裝藥方法，其特征在于，所述不耦合裝藥方法包括：

裝藥準備階段：準備炸藥藥卷和安置裝置；

不耦合裝藥階段：通過間隔羅德參數(shù)及間隔尺度參數(shù)對裝藥結構中的間隔位置及長度進行限定；其中，

對于間隔羅德參數(shù)：

當臺階爆破間隔裝藥時，間隔羅德參數(shù)用于對抵抗線和/或孔深及間隔中心位置進行限定；

用抵抗線表示間隔羅德參數(shù)為：

其中，w₁為裝藥段最大抵抗線、w₂為空氣間隔段中心抵抗線、w₃為裝藥段最小抵抗線，μ_j為間隔羅德參數(shù)；

所述抵抗線的計算方式如下：

其中，h₁為炮孔深度、h₂為空氣間隔中心距離孔口距離、h₃為堵孔深度、w₁為裝藥段最大抵抗線、w₂為空氣間隔段中心抵抗線、w₃為裝藥段最小抵抗線、a為坡頂?shù)挚咕€距離，α為臺階坡面角；

當隧道爆破間隔裝藥時，間隔羅德參數(shù)用于對孔深及間隔中心位置進行限定，具體為：

間隔羅德參數(shù)滿足-1＜μ_j＜1，間隔裝藥時，當μ_j＝-0.5時為下部間隔裝藥，μ_j＝0時為中間間隔裝藥，μ_j＝0.5時為上部間隔裝藥，任意不同位置間隔可直接用μ_j量化；

對于間隔尺度參數(shù)：

用于對間隔率和/或間隔長度進行限定，具體為：

其中，η表示間隔尺度參數(shù)，b為間隔長度。

2.一種不耦合裝藥方法的應用，通過上述權利要求1所述的不耦合裝藥方法，其特征在于，所述應用具體為：通過不同的間隔羅德參數(shù)μ_j值表示不同間隔位置，不同的間隔尺度參數(shù)η表示不同的間隔率，以間隔羅德參數(shù)及間隔尺度參數(shù)，精確描述露天礦臺階爆破間隔裝藥結構間隔位置及長度。

3.一種不耦合裝藥結構，通過上述權利要求1所述的不耦合裝藥方法進行設置，其特征在于，所述不耦合裝藥結構通過間隔羅德參數(shù)和間隔尺度參數(shù)將間隔裝藥結構轉化為平面模型。