[發明專利]一種基于轉盤式測試機自動測試晶圓的方法有效
| 申請號: | 202110994936.0 | 申請日: | 2021-08-27 |
| 公開(公告)號: | CN113488403B | 公開(公告)日: | 2022-01-11 |
| 發明(設計)人: | 鄧華鮮 | 申請(專利權)人: | 樂山希爾電子股份有限公司 |
| 主分類號: | H01L21/66 | 分類號: | H01L21/66;H01L21/67;G01R31/28;G01R1/073;G01R1/04;G01R1/02;G01N21/956 |
| 代理公司: | 成都天嘉專利事務所(普通合伙) 51211 | 代理人: | 鄧小兵 |
| 地址: | 614000 四*** | 國省代碼: | 四川;51 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 基于 轉盤 測試 自動 方法 | ||
1.一種基于轉盤式測試機自動測試晶圓的方法,其特征在于:所述的轉盤式測試機包括工控機(1)、電控轉盤(2)、掃描目鏡(3)和多個測試站(5),電控轉盤(2)上設置有上料工位(7)、取料工位(8)和多個測試工位(9),且上料工位(7)、取料工位(8)和多個測試工位(9)呈環形均勻布置;每個測試站(5)具有探針(6),多個測試站(5)的探針(6)分別設置在多個測試工位(9)的上方;掃描目鏡(3)設置在上料工位(7)的正上方,工控機(1)分別與電控轉盤(2)、掃描目鏡(3)和測試站(5)連接;
所述的自動測試方法包括以下步驟;
步驟1:將待測晶圓(4)均勻劃分成多個待測區域,每個待測區域中包含多個芯片;
步驟2:通過上料機械手將待測晶圓(4)送入上料工位(7),由工控機(1)控制掃描目鏡(3)掃描并定位待測晶圓(4)在轉盤上的位置,每掃描完一個待測晶圓(4),工控機(1)控制電控轉盤(2)轉動一次,將上料工位(7)上的待測晶圓(4)送入測試工位(9),依此循環上料,掃描完成后工控機(1)將掃描目鏡(3)的掃描結果發送給各個測試站(5);
步驟3:根據電控轉盤(2)的轉動角度和掃描目鏡(3)的掃描結果,先由第一個測試站(5)控制探針(6)對第一個測試工位(9)中待測晶圓(4)上的第一個待測區域進行測試,隨著轉盤的依次轉動,其余測試站(5)分別控制探針(6)對對應測試工位(9)中待測晶圓(4)上的相應待測區域進行測試,直至最后一個測試站(5)對最后一個測試工位(9)中待測晶圓(4)上的最后一個待測區域進行測試;
步驟4:測試完成后,得到已測晶圓,當已測晶圓到達取料工位(8)時,通過取料機械手(24)將已測晶圓送入晶圓周轉舟(25),依此循環完成其余待測晶圓(4)的測試。
2.根據權利要求1所述的一種基于轉盤式測試機自動測試晶圓的方法,其特征在于:步驟3中,測試站(5)通過探針(6)對對應待測區域的芯片單顆逐一測試,并將測試結果反饋至工控機(1),若芯片測試合格,則在工控機(1)上顯示綠色標記,若芯片測試不合格,則在工控機(1)上顯示紅色標記。
3.根據權利要求1所述的一種基于轉盤式測試機自動測試晶圓的方法,其特征在于:所述待測晶圓(4)上待測區域的數量為3-8個,相應地,所述測試工位(9)和所述測試站(5)的數量均為3-8個。
4.根據權利要求1所述的一種基于轉盤式測試機自動測試晶圓的方法,其特征在于:所述測試站(5)上探針(6)的數量為1-2根。
5.根據權利要求1-4中任一項所述的一種基于轉盤式測試機自動測試晶圓的方法,其特征在于:所述的轉盤式測試機還包括機架(10),機架(10)中部設置有工作臺(11),電控轉盤(2)和測試站(5)均安裝在工作臺(11)上,工控機(1)安裝在機架(10)的上部,掃描目鏡(3)通過機架(10)的上部固定在上料工位(7)上方。
6.根據權利要求5所述的一種基于轉盤式測試機自動測試晶圓的方法,其特征在于:所述電控轉盤(2)包括支撐柱(12)、驅動機構(13)、真空壓縮機(14)、下定盤(15)和上動盤(16),支撐柱(12)固定在工作臺(11)上,下定盤(15)固定在支撐柱(12)上,上動盤(16)可轉動地設置在下定盤(15)上,上動盤(16)與下定盤(15)之間形成有真空夾層(17),上料工位(7)、取料工位(8)和測試工位(9)上均設置有與真空夾層(17)相通的連通孔(18);驅動機構(13)和真空壓縮機(14)均安裝在機架(10)上的工作臺(11)下方,驅動機構(13)和真空壓縮機(14)均與工控機(1)連接,驅動機構(13)用于驅動上動盤(16)轉動,真空壓縮機(14)通過穿過支撐柱(12)的管道與真空夾層(17)相通。
7.根據權利要求6所述的一種基于轉盤式測試機自動測試晶圓的方法,其特征在于:所述上動盤(16)上設置有多個用于放置晶圓的限位孔(19),多個限位孔(19)分別與上料工位(7)、取料工位(8)和多個測試工位(9)相對應,每個限位孔(19)通過連通孔(18)與真空夾層(17)相通。
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H01L21-00 專門適用于制造或處理半導體或固體器件或其部件的方法或設備
H01L21-02 .半導體器件或其部件的制造或處理
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H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內或其上形成的多個固態組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





