[發明專利]一種線路板純膠層或者絕緣基材層黑影效果的評估方法有效
| 申請號： | 202110993210.5 | 申請日： | 2021-08-26 |
| 公開（公告）號： | CN113825317B | 公開（公告）日： | 2023-05-16 |
| 發明（設計）人： | 曹建誠;胡宗敏;加藤彬 | 申請（專利權）人： | 鹽城維信電子有限公司 |
| 主分類號： | H05K3/06 | 分類號： | H05K3/06;H05K3/10;G01R27/02 |
| 代理公司： | 蘇州新知行知識產權代理事務所(特殊普通合伙) 32414 | 代理人： | 馬素琴;陳勐哲 |
| 地址： | 224000 江*** | 國省代碼： | 江蘇;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 線路板 純膠層 或者 絕緣 基材 黑影 效果 評估 方法 | ||
【權利要求書】：
1.一種線路板純膠層或者絕緣基材層黑影效果的評估方法，其特征在于，包括步驟：
在純膠層或者絕緣基材層的一側面上貼合銅箔層；
在所述銅箔層的表面貼合干膜，對所述銅箔層進行曝光蝕刻，形成的圖案包括至少一個待測試區域，單個待測試區域包括封閉的蝕刻外框及位于蝕刻外框內的兩個測試點，所述蝕刻外框和所述測試點處保留銅箔層，所述蝕刻外框包圍的范圍內除所述測試點外的位置處銅箔層被蝕刻掉；
將所述曝光蝕刻后的純膠層或者絕緣基材層置于黑影液中后取出；
測定所述兩個測試點之間的電阻，當電阻值越小時，黑影吸附效果越好。
2.根據權利要求1所述的評估方法，其特征在于，任一所述測試點與所述蝕刻外框之間的最小距離大于所述兩個測試點之間的距離。
3.根據權利要求1所述的評估方法，其特征在于，所述蝕刻外框為矩形。
4.根據權利要求1所述的評估方法，其特征在于，所述純膠層的另一側面貼在雙面覆銅板上。
5.根據權利要求1所述的評估方法，其特征在于，所述絕緣基材層選自聚酯薄膜、聚酰亞胺薄膜、高分子液晶聚合物薄膜、聚酯酰亞胺薄膜、氟素薄膜、氟碳乙烯薄膜、環氧膠或者聚烯烴膠中的至少一種。
6.根據權利要求1所述的評估方法，其特征在于，所述純膠層選自環氧樹脂、聚烯烴樹脂、亞克力膠或者聚酰亞胺樹脂中的至少一種。
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