[發明專利]一種聚乙烯醇可剝離膜放射性去污劑及其使用方法

在審

• 申請號: 202110992492.7
• 申請日: 2021-08-27
• 公開（公告）號: CN113480896A
• 公開（公告）日: 2021-10-08
• 發明（設計）人: 仇月雙;魏鑫;徐樂昌
• 申請（專利權）人: 核工業北京化工冶金研究院
• 主分類號: C09D129/04
• 分類號: C09D129/04;C09D5/20;C09D7/63
• 代理公司: 北京高沃律師事務所 11569
• 代理人: 趙琪

本發明提供了一種聚乙烯醇可剝離膜放射性去污劑及其使用方法，屬于放射性元素處理技術領域。本發明提供的聚乙烯醇可剝離膜放射性去污劑，為以下質量份的組分：水100份；聚乙烯醇6～20份；增稠劑1～5份；增塑劑0.1～1份；表面活性劑0.01～1份；消泡劑1～10份；放射性核素螯合劑0.1～8份。本發明提供的聚乙烯醇可剝離膜放射性去污劑在較少添加劑種類的情況下就能實現較高的去污率。同時，本發明提供的聚乙烯醇可剝離膜放射性去污劑具有成膜溫度低、成膜時間短的優點，其在25～30℃下即可成膜，成膜時間≤9h。實施例結果表明，本發明提供的聚乙烯醇可剝離膜放射性去污劑的去污率在99.5％以上。

技術領域

本發明涉及放射性元素處理技術領域，特別涉及一種聚乙烯醇可剝離膜放射性去污劑及其使用方法。

背景技術

鈾礦冶設施、核電廠在運行過程中產生了大量放射性器件，為了保證環境輻射安全必須對退役的放射性器件進行去污。

放射性器件含有的放射性元素主要為鈾元素。目前，針對放射性設備或部件中的鈾元素的去除方法主要有機械去污法、電化學去污法、生物去污法和化學去污法?？蓜冸x膜放射性去污法屬于化學去污法，是在成膜基材中加入放射性核素螯合劑，將設備表面吸附的放射性核素轉移至膜中，實現放射性器件的表面去污?？蓜冸x膜去污劑具有去污過程簡單、產生二次放射性廢物少、二次性廢物容易處理以及去污過程需要的輻射防護設施簡單等優點。放射性可剝離膜去污劑由高分子成膜材料、放射性核素螯合劑和各種添加劑組成，高分子成膜材料主要有聚氨酯類、聚苯乙烯類、聚乙烯醇類、有機硅類、丙烯酸樹脂及其共聚物、聚醋酸乙烯酯等。

專利CN111909558A公開了一種聚乙烯醇基可剝離膜去污劑，其添加劑成分包括聚乙烯醇、膠凝劑、表面活性劑、膠黏劑、增稠劑、增強劑、復合螯合劑、分散劑、潤滑劑、增塑劑和防腐劑，其成分復雜，添加劑成分較多，達到10種。

發明內容

有鑒于此，本發明目的在于提供一種聚乙烯醇可剝離膜放射性去污劑及其使用方法。本發明提供的聚乙烯醇可剝離膜放射性去污劑添加劑種類少，成分簡單，且具有較高的去污率。

為了實現上述發明目的，本發明提供以下技術方案：

本發明提供了一種聚乙烯醇可剝離膜放射性去污劑，為以下質量份的組分：

優選的，為以下質量份的組分：

優選的，所述聚乙烯醇的數均分子量為1700～1800；所述聚乙烯醇的醇解度為88～99％。

優選的，所述增稠劑為羧甲基纖維素、羧乙基纖維素、凝膠和瓊脂中的一種或幾種。

優選的，所述增塑劑為聚乙二醇-100、聚乙二醇-1000和聚丙三醇中的一種或幾種。

優選的，所述表面活性劑為硬質酸鈉、十二烷基苯磺酸鈉、span80、滑石粉、納米碳酸鈣和納米二氧化鈦中的一種或幾種。

優選的，所述消泡劑為山梨酸鉀、磷酸三丁酯、蓖麻油、硅油、磷酸三辛酯和油酰二乙烯三胺中的一種或幾種。

優選的，所述放射性核素螯合劑為羥甲基乙叉二膦酸、乙二胺四乙酸鈉、氮基三乙酸、草酸和檸檬酸中的一種或幾種。

本發明提供了上述聚乙烯醇可剝離膜放射性去污劑的去污方法，包括以下步驟：

將水、聚乙烯醇、增稠劑、增塑劑、表面活性劑、消泡劑和放射性核素螯合劑混合，得到放射性去污劑；

將所述放射性去污劑涂覆在放射性污染器件表面，靜置形成聚乙烯醇可剝離膜；所述靜置的時間為8～9h；

剝離所述聚乙烯醇可剝離膜。