[發(fā)明專利]一種應(yīng)用于釹鐵硼表面處理的超薄鍍層電鍍方法

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202110991972.1
• 申請(qǐng)日: 2021-08-27
• 公開（公告）號(hào): CN113699567B
• 公開（公告）日: 2022-08-26
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 唐金華;周小雄
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 杭州象限科技有限公司
• 主分類號(hào): C25D5/14
• 分類號(hào): C25D5/14;C25D3/56;C25D3/38;C25D3/12;C25D7/00
• 代理公司: 杭州浙科專利事務(wù)所(普通合伙) 33213
• 代理人: 龔如朝

本發(fā)明公開了一種應(yīng)用于釹鐵硼表面處理的超薄鍍層電鍍方法，它在釹鐵硼基材表面進(jìn)行鍍層，從里到外分別為電鍍沖擊銅層、電鍍脈沖銅層、電鍍鎳鎢合金層、低速化學(xué)鎳鍍層和高磷化學(xué)鎳鍍層；其中，釹鐵硼基材表面鍍層的總厚為4~4.5μm，電鍍沖擊銅層的厚度為0.5~0.6μm，電鍍脈沖銅層的厚度為0.8~1.0μm，電鍍鎳鎢合金層的厚度為0.3~0.5μm，低速化學(xué)鎳鍍層的厚度為0.4~0.5μm。現(xiàn)有常規(guī)化學(xué)鍍鎳只有一層常規(guī)高磷化學(xué)鎳，本發(fā)明采用雙層化學(xué)鍍鎳，即再正常鍍高磷化學(xué)鎳前，先采用低鍍速低孔隙率的特殊化學(xué)鎳先鍍至約0.4~0.5微米，然后轉(zhuǎn)入常規(guī)高磷化學(xué)鎳鍍至所需厚度。與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明主在要提升鍍層質(zhì)量及性能方面，優(yōu)勢(shì)明顯，耐腐蝕性更好，磁屏蔽更低。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及一種應(yīng)用于釹鐵硼表面處理的超薄鍍層電鍍方法。

背景技術(shù)

目前釹鐵硼永磁材料作為一種高磁性能、高性價(jià)比的磁性材料，廣泛應(yīng)用于電子機(jī)械、醫(yī)療器材等諸多領(lǐng)域。但是由于釹鐵硼基材本身的一些特性，如基材容易氧化、基材多孔疏松等，一直以來對(duì)釹鐵硼基材進(jìn)行表面處理都是一個(gè)難點(diǎn)。新型釹鐵硼磁體是第三代稀土材料，是一種磁性功能材料，其耐蝕性差且磁性結(jié)構(gòu)易受溫度景響。采用復(fù)合鍍層工藝的方式可以在釹鐵硼磁體表面形成防腐蝕性能優(yōu)良，且對(duì)磁體熱減磁景響非常小的鍍層。

現(xiàn)有技術(shù)中對(duì)釹鐵硼進(jìn)行表面處理的工藝中，通常需在釹鐵硼基材表面進(jìn)行鍍銅處理和化學(xué)鎳鍍層處理。目前在釹鐵硼基材表面比較穩(wěn)定的鍍層有NiCuNi鍍層(厚度通常為5-15μm)和CuEN鍍層(厚度通常為6-8μm)，但是隨著電子消費(fèi)品對(duì)產(chǎn)品輕薄話的要求越來越高，普通銅層和化學(xué)鎳層要滿足低孔隙率，單層電鍍需要4-5微米，傳統(tǒng)的鍍層方案顯得得力不從心，在產(chǎn)品輕量化的趨勢(shì)下很難同時(shí)滿足高耐蝕性和低磁屏蔽，急需一種無磁屏蔽且致密的薄鍍層。

發(fā)明內(nèi)容

針對(duì)現(xiàn)有技術(shù)存在的上述技術(shù)問題，本申請(qǐng)的目的在于提供一種應(yīng)用于釹鐵硼表面處理的超薄鍍層電鍍方法。

所述的一種應(yīng)用于釹鐵硼表面處理的超薄鍍層電鍍方法，其特征在于在釹鐵硼基材表面進(jìn)行鍍層，從里到外分別為電鍍沖擊銅層、電鍍脈沖銅層、電鍍鎳鎢合金層、低速化學(xué)鎳鍍層和高磷化學(xué)鎳鍍層；其中，釹鐵硼基材表面鍍層的總厚為4～4.5μm，電鍍沖擊銅層的厚度為0.5～0.6μm，電鍍脈沖銅層的厚度為0.8～1.0μm，電鍍鎳鎢合金層的厚度為0.3～0.5μm，低速化學(xué)鎳鍍層的厚度為0.4～0.5μm。

所述的一種應(yīng)用于釹鐵硼表面處理的超薄鍍層電鍍方法，其特征在于電鍍沖擊銅層的工藝采用沖擊銅鍍液，鍍液組成包括碳酸銅3～5g/L、HEDP110～130g/L、碳酸鉀60～80g/L、硝酸鉍0.02～0.04g/L、聚陽離子季銨鹽0.003～0.007g/L；電鍍的工藝為：溫度18～25℃，pH＝9.3～9.8，電流密度0.3～0.5ASD，電鍍時(shí)間40～60min。

所述的一種應(yīng)用于釹鐵硼表面處理的超薄鍍層電鍍方法，其特征在于電鍍脈沖銅層的工藝采用脈沖銅鍍液，鍍液組成包括碳酸銅13～15g/L、HEDP140～160g/L、碳酸鉀60～80g/L、硝酸鉍0.02～0.04g/L、聚陽離子季銨鹽0.003～0.007g/L；電鍍的工藝為：溫度50～60℃，pH＝9.3～9.8，電流密度0.2～0.4ASD，電鍍時(shí)間70～80min。

所述的一種應(yīng)用于釹鐵硼表面處理的超薄鍍層電鍍方法，其特征在于電鍍鎳鎢合金層的工藝采用鎳鎢混合鍍液，鍍液組成包括硫酸鎳14～18g/L，鎢酸鈉25～35g/L，檸檬酸35～45g/L；電鍍的工藝為：溫度60～70℃，pH＝6.3～6.8，電流密度0.4～0.6ASD，電鍍時(shí)間10～20min。