[發明專利]一種用于正極定向補鋰的復合隔膜及其制備方法在審
| 申請號: | 202110989152.9 | 申請日: | 2021-08-26 |
| 公開(公告)號: | CN113809478A | 公開(公告)日: | 2021-12-17 |
| 發明(設計)人: | 楊鵬;郭盼 | 申請(專利權)人: | 深圳市雄韜電源科技股份有限公司 |
| 主分類號: | H01M50/457 | 分類號: | H01M50/457;H01M50/434;H01M50/431;H01M50/411;H01M50/403 |
| 代理公司: | 深圳市華盈知識產權代理事務所(普通合伙) 44543 | 代理人: | 周嬋;王松柏 |
| 地址: | 518000 廣東省深圳市大鵬新區大鵬街道同富工業區*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 用于 正極 定向 復合 隔膜 及其 制備 方法 | ||
1.一種用于正極定向補鋰的復合隔膜,其特征在于,包括基膜、以及分別設置在所述基膜相對兩側的陶瓷涂層;所述陶瓷涂層朝向正極的一側還設置有補鋰涂層;所述補鋰涂層為含鋰化合物與含鹵素高分子聚合物按質量比為(80%-98%):(2%-20%)復合形成的混合物層。
2.根據權利要求1所述的用于正極定向補鋰的復合隔膜,其特征在于,所述補鋰涂層的厚度為0.5μm-10μm。
3.根據權利要求1所述的用于正極定向補鋰的復合隔膜,其特征在于,所述含鋰化合物的平均粒徑為10nm-5μm;所述含鋰化合物為鋰二元金屬氧化物或鋰鹽;
所述含鹵素高分子聚合物為聚四氟乙烯、偏聚氟乙烯、氟化乙烯丙烯共聚物、聚氟乙烯、聚氯乙烯、聚化氯乙烯、聚偏氯乙烯、溴化丁二烯共聚物、溴化聚丁二烯聚合物、溴化聚苯乙烯共聚物中的一種或多種。
4.根據權利要求3所述的用于正極定向補鋰的復合隔膜,其特征在于,所述鋰二元金屬氧化物為Li2O2、Li2O、Li3N中的一種或多種。
5.根據權利要求3所述的用于正極定向補鋰的復合隔膜,其特征在于,所述鋰鹽為Li2ZrO3、Li2TiO3、Li2CrO4、Li2Cr2O7、Li4SiO4、Li2SiO3、Li3AsO4、Li2SeO4、Li2SeO3、LiVO3、LiAlO2、Li3PO4、Li2B8O13、Li2B4O7、LiBO2、LiPF6、Li3AlF6、Li2SnF6或LiAsF6中的一種或多種。
6.根據權利要求1所述的用于正極定向補鋰的復合隔膜,其特征在于,所述基膜的厚度為5μm-30μm;所選基膜為聚乙烯、聚丙烯、聚酰胺、聚氯乙烯、聚偏氟乙烯、聚四氟乙烯中的一種或多種。
7.根據權利要求1所述的用于正極定向補鋰的復合隔膜,其特征在于,所述陶瓷涂層的厚度與所述基膜的厚度之比小于或等于3:10。
8.根據權利要求1所述的用于正極定向補鋰的復合隔膜,其特征在于,所述陶瓷涂層為含有三氧化二鋁、二氧化鈦、二氧化硅、二氧化鋯、二氧化錫、氧化鎂、氧化鋅、氮化鋁、氮化鎂、碳酸鋇、硫酸鋇,鈦酸鋇、硫酸鈣中的一種或多種復合形成的混合物層。
9.權利要求1至8任意一項所述用于正極定向補鋰的復合隔膜的制備方法,其特征在于,包括以下步驟:
S1:將陶瓷涂層漿料涂覆在基膜的相對兩側,烘干后得到含有陶瓷涂層的基膜;
S2:將含鋰化合物和含鹵素高分子聚合物按照質量比為(80%-98%):(2%-20%)加入到溶劑中均勻混合,得到補鋰漿料;
S3:將補鋰漿料涂覆在含有陶瓷涂層的基膜面向正極的一側,涂覆厚度為0.5μm-10μm,然后在50-120℃下干燥,得到補鋰復合隔膜。
10.根據權利要求9所述的用于正極定向補鋰的復合隔膜,其特征在于,所述溶劑為水或N-甲基吡咯烷酮中的任一種。
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