[發明專利]含透明基板和具匹配反射率的耐磨層的元件及制造方法

在審

• 申請號: 202110987256.6
• 申請日: 2021-08-26
• 公開（公告）號: CN114105489A
• 公開（公告）日: 2022-03-01
• 發明（設計）人: T·達姆;C·亨恩
• 申請（專利權）人: 肖特股份有限公司
• 主分類號: C03C17/34
• 分類號: C03C17/34
• 代理公司: 北京思益華倫專利代理事務所(普通合伙) 11418
• 代理人: 趙飛

1.一種耐磨的透明元件(60)、尤其耐刮擦和/或抗沖擊的透明元件，包括：在波長為380nm至780nm的可見光譜范圍內透明的基板(7)、優選玻璃基板或玻璃陶瓷基板；以及布置在所述透明的基板(7)的表面(700)上、具有至少兩個依次的層的層系統(70)，所述層系統(70)包括具有折射率n₁的層(71)和優選鄰接所述具有折射率n₁的層(71)的另外的具有折射率n₂的層(72)，其中折射率n₁大于折射率n₂，并且折射率n₂的值為至少1.60，其中基于所述元件(60)的表面，所述元件(60)在380nm至780nm、優選400nm至700nm的波長范圍內具有至少2％的反射率，其中所述層(71、72)分別由無機化合物形成，并且其中折射率差n₁-n₂為至少0.05，其中優選地層(71、72)的折射率差n₁-n₂在0.05至0.6的范圍內。

2.根據權利要求1所述的元件(60)，其中在從380nm至780nm、優選從400nm至700nm的波長范圍內，基于上面布置有所述層系統(70)的元件(60)的表面(600)的反射率與基于未涂布的基板(7)的表面(700)的反射率相比減少最高50％、優選最高25％，和/或

其中，在從380nm至780nm、優選從400nm至700nm的波長范圍內，基于上面布置有所述層系統(70)的元件(60)的表面(600)的反射率值為最高10％、優選最高8％、特別優選最高4％。

3.根據權利要求1或2所述的元件(60)，其中，

在確定所述元件(60)在CIEL^*a^*b^*色系中的色位時，a^*的值在-10至+10之間、優選在-5至+5之間特別優選在-2至+2之間，并且b^*的值在-10至+10之間、優選在-5至+5之間、特別優選在-2至+2之間，和/或

其中在確定所述元件(60)在CIEL^*a^*b^*色系中的色位時，L^*的值在15至40之間，和/或

其中所述元件(60)的降低的色位調節成使得所述耐磨的透明元件(60)與所述未涂布的基板(7)之間的色位變化ΔE_E-S,降低小于10、優選小于5、優選小于3。

4.根據權利要求1至3中任一項所述的元件(60)，其中所述元件(60)的色位調節成使得所述耐磨的透明元件(60)與所述未涂布的基板(7)之間的色位變化ΔE_E-S小于10、優選小于5、優選小于3。

5.根據權利要求1至3中任一項所述的元件(60)，其中，所述層系統包括硬質材料層，尤其所述層系統(70)的層(71、72)中的至少一層是硬質材料層，和/或

其中所述折射率n₁具有在至少1.95與最高2.45之間的值，并且所述折射率n₂具有在至少1.60與最高1.90之間的值，和/或

其中，所述具有折射率n₁的層(71)包含含氮鋁和/或硅化合物，其中優選地，

所述具有折射率n₁的層(71)額外含氧。

6.根據權利要求1至5中任一項所述的元件(60)，其中所述具有折射率n₂的層(72)包含含氧鋁和/或硅和/或鋯化合物，其中優選地，

所述具有折射率n₂的層(72)額外含氮。

7.根據權利要求1至6中任一項所述的元件(60)，其中所述具有折射率n₁的層(71)和/或所述具有折射率n₂的層(72)包含鈦、鉻、硼和/或碳作為摻雜物。