[發(fā)明專利]一種功能陶瓷片的濕式潔片裝置

在審

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• 申請日: 2021-08-26
• 公開（公告）號: CN113524007A
• 公開（公告）日: 2021-10-22
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 孫鑫;龐馳;祝飛;費自豪;王衛(wèi);楊靖;葛鵬
• 申請（專利權(quán)）人: 貴州大學(xué);貴陽高新益舸電子有限公司
• 主分類號: B24B31/02
• 分類號: B24B31/02;B24B31/12
• 代理公司: 北京中仟知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11825
• 代理人: 周慶佳

本發(fā)明公開了一種功能陶瓷片的濕式潔片裝置，包括有支架，支架的上方設(shè)有滾磨桶，滾磨桶的周面上設(shè)有凸環(huán)，凸環(huán)下方的支架上設(shè)有與凸環(huán)配合的帶動輪，帶動輪經(jīng)傳動裝置連接有驅(qū)動電機；所述滾磨桶包括有潔片段，潔片段的兩端分別連接有呈喇叭狀的出料段和進料段，其中潔片段和出料段的內(nèi)壁上設(shè)有若干呈螺旋狀排列的肋條，相鄰肋條之間的間距小于功能陶瓷片的最小寬度；所述滾磨桶內(nèi)的上方懸空設(shè)有噴淋管，噴淋管的下方設(shè)有噴淋頭，噴淋管的一端伸出滾磨桶后連接有給水裝置。本發(fā)明具有潔片效率高，陶瓷片損壞率小，人工投入低，灰塵散布少，工作環(huán)境好的特點。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及一種功能陶瓷片清潔裝置，特別是一種功能陶瓷片的濕式潔片裝置。

背景技術(shù)

功能陶瓷，是指在應(yīng)用時主要利用其非力學(xué)性能的材料，這類材料通常具有一種或多種功能，如電、磁、光、熱、化學(xué)、生物等；有的還有耦合功能，如壓電、壓磁、熱電、電光、聲光、磁光等。隨著材料科學(xué)的迅速發(fā)展，功能陶瓷材料的各種新性能、新應(yīng)用不斷被人們所認(rèn)識，并積極加以開發(fā)。

隨著功能陶瓷的大規(guī)模開發(fā)和應(yīng)用，市場需求也越來越大，傳統(tǒng)的制備工藝和配套裝置已經(jīng)不滿足大規(guī)模加工的需求了，而潔片就是其中的一個環(huán)節(jié)。

通常，陶瓷片都采用疊燒的方式實現(xiàn)陶瓷的致密化過程，其形狀如圖4所示，為了防止高溫?zé)Y(jié)導(dǎo)致陶瓷片的粘連，通常在陶瓷片之間撒一層隔粘粉，功能陶瓷片在燒結(jié)出爐后，其表面粘附有大量的隔粘粉，需要人工將其分散成圖5所示的片狀功能陶瓷片后，然后將表面的隔粘粉清除掉，俗稱潔片。而由于功能陶瓷片本身脆性大，因此，一些常見的拋光和打磨的自動化機器并不適用于功能陶瓷片潔片，工藝過程中很容易將陶瓷片弄碎。所以，現(xiàn)目前潔片的常見方法是由工人將功能陶瓷片平鋪在一個特制的潔片盤中，然后人工用砂紙進行打磨，打磨完一面后再翻面進行另一面的打磨。這種方式雖然比較安全，不會弄壞陶瓷片，但是，其效率非常低下，人工投入較大，并且打磨的部分灰塵會散布在周圍的空氣中，工作環(huán)境差，對工人的身體健康造成損傷，在市場需求大的今天，根本不能滿足大規(guī)模生產(chǎn)加工的需要。因此，設(shè)計一種高效且安全的功能陶瓷片的潔片裝置非常有必要。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明的目的在于，提供一種功能陶瓷片濕式潔片裝置。本發(fā)明具有潔片效率高，陶瓷片無損壞，人工投入低，無灰塵散布，工作環(huán)境好的特點。

本發(fā)明的技術(shù)方案：一種功能陶瓷片的濕式潔片裝置，包括有支架，支架的上方設(shè)有滾磨桶，滾磨桶的周面上設(shè)有凸環(huán)，凸環(huán)下方的支架上設(shè)有與凸環(huán)配合的帶動輪，帶動輪經(jīng)傳動裝置連接有驅(qū)動電機；

所述滾磨桶包括有潔片段，潔片段的兩端分別連接有呈喇叭狀的出料段和進料段，其中潔片段和出料段的內(nèi)壁上設(shè)有若干呈螺旋狀排列的肋條，相鄰肋條之間的間距小于功能陶瓷片的最小寬度；

所述滾磨桶內(nèi)的上方懸空設(shè)有噴淋管，噴淋管的下方設(shè)有噴淋頭，噴淋管的一端伸出滾磨桶后連接有給水裝置。

前述的功能陶瓷片的濕式潔片裝置，所述傳動裝置是與帶動輪軸向固定連接的傳動桿，傳動桿與驅(qū)動電機的轉(zhuǎn)軸固定連接。

前述的功能陶瓷片的濕式潔片裝置，所述潔片段的桶壁上設(shè)有呈環(huán)狀排列的排水孔。

前述的功能陶瓷片的濕式潔片裝置，所述潔片段的中軸線水平，潔片段整體呈靠近進料段的一端直徑大，靠近進料段的一端直徑小的結(jié)構(gòu)，所述排水孔位于潔片段靠近進料段的一端。

前述的功能陶瓷片的濕式潔片裝置，所述潔片段下側(cè)面的坡度為1-3°。

前述的功能陶瓷片的濕式潔片裝置，所述排水孔的下方設(shè)有集水槽，集水槽的底部設(shè)有排水管。

前述的功能陶瓷片的濕式潔片裝置，所述噴淋管的中部安裝有水泵。

前述的功能陶瓷片的濕式潔片裝置，所述給水裝置為蓄水桶，且設(shè)于滾磨桶的上方。