[發(fā)明專利]顯示面板及電子終端在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202110982780.4 | 申請(qǐng)日: | 2021-08-25 |
| 公開(公告)號(hào): | CN113805393A | 公開(公告)日: | 2021-12-17 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 吳志林;馬濤;宋德偉;艾飛 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 武漢華星光電技術(shù)有限公司 |
| 主分類號(hào): | G02F1/1362 | 分類號(hào): | G02F1/1362;G02F1/1343;G02F1/1333 |
| 代理公司: | 深圳紫藤知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 44570 | 代理人: | 何艷 |
| 地址: | 430079 湖北省武漢市*** | 國省代碼: | 湖北;42 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 顯示 面板 電子 終端 | ||
本申請(qǐng)?zhí)岢隽艘环N顯示面板及電子終端,其中,所述顯示面板包括顯示區(qū)和位于顯示區(qū)外圍的非顯示區(qū);其中,所述顯示面板包括:襯底;陣列驅(qū)動(dòng)層,位于襯底上,包括柵極層和源漏極層;信號(hào)線,包括位于非顯示區(qū)的轉(zhuǎn)接部,轉(zhuǎn)接部包括與柵極層同層設(shè)置的第一段導(dǎo)線、與源漏極層同層設(shè)置的第二段導(dǎo)線以及與第一段導(dǎo)線和第二段導(dǎo)線電連接的橋接部;其中,第一段導(dǎo)線、第二段導(dǎo)線以及橋接部異層設(shè)置。本申請(qǐng)實(shí)施例通過在非顯示區(qū)內(nèi)設(shè)置與第一段導(dǎo)線和第二段導(dǎo)線異層設(shè)置且電連接的橋接部,以避免在形成轉(zhuǎn)接部的轉(zhuǎn)接孔時(shí),對(duì)第一段導(dǎo)線過蝕刻,避免了第一段導(dǎo)線的阻抗、第一段導(dǎo)線與第二段導(dǎo)線之間的接觸阻抗的增加,提高了信號(hào)線的數(shù)據(jù)傳輸?shù)臏?zhǔn)確性。
技術(shù)領(lǐng)域
本申請(qǐng)涉及顯示領(lǐng)域,特別涉及一種顯示面板及電子終端。
背景技術(shù)
液晶顯示器(Liquid Crystal Display,LCD)等平面顯示裝置因具有高畫質(zhì)、省電、機(jī)身薄及應(yīng)用范圍廣等優(yōu)點(diǎn),而被廣泛的應(yīng)用于手機(jī)、電視、個(gè)人數(shù)字助理、數(shù)字相機(jī)、筆記本電腦、臺(tái)式計(jì)算機(jī)等各種消費(fèi)性電子產(chǎn)品,成為顯示裝置中的主流。LCD有A-Si(非晶硅)薄膜晶體管/LTPS(Low Temperature Poly-Silicon,低溫多晶硅)薄膜晶體管對(duì)應(yīng)的兩種顯示技術(shù),LTPS薄膜晶體管由于具有高遷移率的優(yōu)點(diǎn),被廣泛用于高規(guī)格面板技術(shù)。
LTPS薄膜晶體管的顯示產(chǎn)品受限于高溫制程,如需要600攝氏度左右,目前業(yè)界中大多使用鉬(Mo)金屬。然而Mo金屬阻抗較高,不利用高分辨率、高頻率中尺寸產(chǎn)品的高充電率的產(chǎn)品需求。可使用耐高溫低阻金屬材料替代Mo金屬,以降低其電阻率,從而提高充電率等性能。
當(dāng)前在LTPS薄膜晶體管的顯示產(chǎn)品形成源漏極層和半導(dǎo)體層的過孔的制程中,要利用氫氟酸(Hydrofluoric Acid,HF)去除絕緣層(ILD)接觸孔內(nèi)的氧化層,以提升電性,同時(shí)也會(huì)處理非顯示區(qū)的轉(zhuǎn)接孔里面的金屬,該金屬使用的是耐高溫低阻材料的金屬。由于耐高溫低阻材料的金屬不耐氫氟酸,其容易被刻蝕,導(dǎo)致轉(zhuǎn)接孔里面的金屬損失量較大,轉(zhuǎn)接孔的接觸阻抗增加,影響了顯示面板產(chǎn)品的性能品質(zhì)。
發(fā)明內(nèi)容
本申請(qǐng)?zhí)峁┮环N顯示面板及電子終端,以改善當(dāng)前顯示面板的轉(zhuǎn)接孔內(nèi)的金屬因過蝕刻而導(dǎo)致轉(zhuǎn)接孔的接觸阻抗增加的技術(shù)問題。
為解決上述問題,本申請(qǐng)?zhí)峁┑募夹g(shù)方案如下:
本申請(qǐng)?zhí)峁┝艘环N顯示面板,其中,所述顯示面板包括顯示區(qū)和位于所述顯示區(qū)外圍的非顯示區(qū);其中,所述顯示面板包括:
襯底;
陣列驅(qū)動(dòng)層,位于所述襯底上,包括柵極層和源漏極層;
信號(hào)線,包括位于所述非顯示區(qū)的轉(zhuǎn)接部,所述轉(zhuǎn)接部包括與所述柵極層同層設(shè)置的第一段導(dǎo)線、與所述源漏極層同層設(shè)置的第二段導(dǎo)線以及與所述第一段導(dǎo)線和所述第二段導(dǎo)線電連接的橋接部;
其中,所述第一段導(dǎo)線、所述第二段導(dǎo)線以及所述橋接部異層設(shè)置。
在本申請(qǐng)的顯示面板中,所述顯示面板還包括位于所述陣列驅(qū)動(dòng)層兩側(cè)的多層金屬層,所述橋接部與多層所述金屬層中的至少一者同層設(shè)置。
在本申請(qǐng)的顯示面板中,所述顯示面板包括位于所述襯底和所述陣列驅(qū)動(dòng)層之間的遮光層,所述橋接部與所述遮光層同層設(shè)置,所述第一段導(dǎo)線和所述第二段導(dǎo)線之間的層間絕緣層完全覆蓋所述第一段導(dǎo)線,所述遮光層的耐氫氟酸腐蝕的能力比柵極的耐氫氟酸腐蝕的能力強(qiáng)。
在本申請(qǐng)的顯示面板中,所述顯示面板包括位于所述陣列驅(qū)動(dòng)層上的第一電極層,所述第一電極層與所述源漏極層電連接;
其中,所述橋接部與所述第一電極層同層設(shè)置。
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G02F 用于控制光的強(qiáng)度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如轉(zhuǎn)換、選通、調(diào)制或解調(diào),上述器件或裝置的光學(xué)操作是通過改變器件或裝置的介質(zhì)的光學(xué)性質(zhì)來修改的;用于上述操作的技術(shù)或工藝;變頻;非線性光學(xué);光學(xué)
G02F1-00 控制來自獨(dú)立光源的光的強(qiáng)度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如,轉(zhuǎn)換、選通或調(diào)制;非線性光學(xué)
G02F1-01 .對(duì)強(qiáng)度、相位、偏振或顏色的控制
G02F1-29 .用于光束的位置或方向的控制,即偏轉(zhuǎn)
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