[發明專利]光學系統及取像模組、電子裝置

在審

• 申請號: 202110982447.3
• 申請日: 2021-08-25
• 公開（公告）號: CN114063250A
• 公開（公告）日: 2022-02-18
• 發明（設計）人: 楊懿;李明
• 申請（專利權）人: 江西晶超光學有限公司
• 主分類號: G02B13/00
• 分類號: G02B13/00;G02B13/18
• 代理公司: 北京清亦華知識產權代理事務所(普通合伙) 11201
• 代理人: 張文姣

1.一種光學系統，所述光學系統從物側至像側沿光軸依次包括：

棱鏡；

具有正屈折力的第一透鏡，所述第一透鏡的物側面和像側面于近光軸處為凸面；

具有負屈折力的第二透鏡，所述第二透鏡的像側面于近光軸處為凹面；

具有負屈折力的第三透鏡，所述第三透鏡的物側面于近光軸處為凸面，像側面于近光軸處為凹面；

具有屈折力的第四透鏡，所述第四透鏡的物側面于近光軸處為凹面，像側面于近光軸處為凸面；

具有屈折力的第五透鏡；

其中，所述光學系統滿足下列關系式：0.4SD11/ImgH0.7，SD11為所述第一透鏡的物面側的最大有效口徑的一半，ImgH為所述光學系統的成像面上有效感光區域對角線長度的一半。

2.根據權利要求1所述的光學系統，其特征在于，所述光學系統滿足以下條件式：

3.5TTL/ImgH5；

其中，TTL為所述第一透鏡的物側面至所述成像面于所述光軸上的距離。

3.根據權利要求1所述的光學系統，其特征在于，所述光學系統滿足以下條件式：

80f*43/(2*ImgH)97；

f為所述光學系統的總有效焦距。

4.根據權利要求1所述的光學系統，其特征在于，所述光學系統滿足以下條件式：

10FNO/tan(HFOV)15；

其中，FNO為所述光學系統的光圈數，tan(HFOV)為所述光學系統最大視場角一半的正切值。

5.根據權利要求1所述的光學系統，其特征在于，所述光學系統滿足以下條件式：

0.5BFL/f0.75；

其中，BFL為所述第五透鏡的像側面至成像面于光軸方向上的最短距離，f為所述光學系統的總有效焦距。

6.根據權利要求1所述的光學系統，其特征在于，所述光學系統滿足以下條件式：

1f1/R111.3；

其中，f1為第一透鏡的焦距，R11為第一透鏡的物側面于光軸上的曲率半徑。

7.根據權利要求1所述的光學系統，其特征在于，所述光學系統滿足以下條件式：

1AT45/ET5111；

其中，AT45為所述第四透鏡的像側面至所述第五透鏡物側面于光軸上的空氣間隙，ET51為所述第五透鏡物側面最大有效徑處至像側面最大有效徑處在光軸方向上的距離。

8.根據權利要求1所述的光學系統，其特征在于，所述光學系統滿足以下條件式：

5R41/Sag4118；

其中，R41為所述第四透鏡物側面于光軸上的曲率半徑，Sag41為所述第四透鏡物側面與所述光軸的交點至所述第四透鏡最大有效徑處在光軸方向上的距離。

9.一種取像模組，其特征在于，所述取像模組包括：

權利要求1至8中任意一項所述的光學系統；

感光元件，所述感光元件設置在所述光學系統的像側。

10.一種電子裝置，其特征在于，所述電子裝置包括：

殼體；

權利要求9所述的取像模組，所述取像模組安裝在所述殼體上。