[發(fā)明專利]一種ArF光源干法光刻用多鎓鹽型光產(chǎn)酸劑的應(yīng)用

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 202110979409.2
• 申請日: 2021-08-25
• 公開（公告）號: CN113820919A
• 公開（公告）日: 2021-12-21
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 方書農(nóng);王溯;耿志月;崔中越
• 申請（專利權(quán)）人: 上海新陽半導(dǎo)體材料股份有限公司;上海芯刻微材料技術(shù)有限責(zé)任公司
• 主分類號: G03F7/004
• 分類號: G03F7/004;C07C303/32;C07C309/42;C07C309/12;C07C381/12
• 代理公司: 上海弼興律師事務(wù)所 31283
• 代理人: 王衛(wèi)彬;陳卓

1.一種鎓鹽作為光產(chǎn)酸劑在光刻膠中的應(yīng)用，其特征在于，所述鎓鹽具有陰離子和鎓離子，所述陰離子具有式(I)所示的結(jié)構(gòu)，所述鎓離子具有式(A)或式(B)所示的結(jié)構(gòu)，所述鎓離子的個數(shù)使所述鎓鹽的電荷保持中性：

其中，R¹、R²、R³和R⁴分別獨立地為H或F；

L¹和L²為其中a端與苯環(huán)相連；

p和q分別獨立地為0、1、2、3或4；

X為其中

n1、n2和n3分別獨立地為1、2、3、4或5；

m1、m2和m3分別獨立地為0、1、2、3或4；

R^a和R^b分別獨立地為鹵素、C_1-20烷基或C_1-20烷氧基；R^a和R^b的個數(shù)分別獨立地為0至5個。

2.如權(quán)利要求1所述的應(yīng)用，其特征在于，所述式(I)所示的結(jié)構(gòu)中，

R¹、R²、R³和R⁴相同；

和/或，p和q相同；

和/或，結(jié)構(gòu)單元為

和/或，n1為2；

和/或，n2為1；

和/或，n3為1或2；

和/或，m1為1；

和/或，m2為0或2；

和/或，m3為1。

3.如權(quán)利要求1所述的應(yīng)用，其特征在于，所述式(I)所示的結(jié)構(gòu)中，

結(jié)構(gòu)單元為

和/或，為例如

和/或，為例如

和/或，為例如

4.如權(quán)利要求1至3中任一項所述的應(yīng)用，其特征在于，所述陰離子具有式(I-1)、式(I-2)、式(I-3)或式(I-4)所示的結(jié)構(gòu)，

其中，R¹、R²、R³、R⁴、L¹、L²、m1、m2、m3、n1、n2、n3、p和q的定義如權(quán)利要求1至3中任一項所述。

5.如權(quán)利要求1所述的應(yīng)用，其特征在于，所述陰離子為以下任一結(jié)構(gòu)：

和/或，所述鎓離子為：

例如

6.如權(quán)利要求1所述的應(yīng)用，其特征在于，所述鎓鹽為如下方案中的任一種：

方案1：所述陰離子為所述鎓離子為所述鎓離子的個數(shù)為3個；

方案2：所述陰離子為所述鎓離子為所述鎓離子的個數(shù)為4個；

方案3：所述陰離子為所述鎓離子為所述鎓離子的個數(shù)為4個；

方案4：所述陰離子為所述鎓離子為所述鎓離子的個數(shù)為4個；

方案5：所述陰離子為所述鎓離子為所述鎓離子的個數(shù)為6個；

方案6：所述陰離子為所述鎓離子為所述鎓離子的個數(shù)為2個。

7.一種光刻膠組合物，其特征在于，所述光刻膠組合物包括如下組分：如權(quán)利要求1至6中任一項所述的鎓鹽、樹脂、添加劑和有機溶劑。

8.如權(quán)利要求7所述光刻膠組合物，其特征在于，所述樹脂具有如(A)所示的結(jié)構(gòu)其中所述樹脂的重均分子量可以為8000-9000g/mol；

和/或，所述添加劑為C_1-4烷基季銨堿，例如四甲基氫氧化銨；

和/或，所述有機溶劑為酯類溶劑，例如丙二醇甲醚乙酸酯；

和/或，以重量份計，所述鎓鹽為2-10重量份，例如4重量份；

和/或，以重量份計，所述樹脂為20-120重量份，例如100重量份；

和/或，以重量份計，所述添加劑為0.1-1重量份，例如0.5重量份；

和/或，以重量份計，所述有機溶劑為500-2000重量份，例如1000重量份。