[發明專利]一種浸沒式ArF光刻用光產酸劑及光刻膠組合物有效
| 申請號: | 202110979405.4 | 申請日: | 2021-08-25 |
| 公開(公告)號: | CN113820918B | 公開(公告)日: | 2023-08-25 |
| 發明(設計)人: | 王溯;方書農;徐森 | 申請(專利權)人: | 上海芯刻微材料技術有限責任公司 |
| 主分類號: | G03F7/004 | 分類號: | G03F7/004 |
| 代理公司: | 上海弼興律師事務所 31283 | 代理人: | 王衛彬;馬續紅 |
| 地址: | 201616 上海市*** | 國省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 浸沒 arf 光刻 用光 產酸劑 組合 | ||
1.一種如式I所示的化合物作為光產酸劑在光刻膠中的應用;
其中,R1、R2、R3、R4和R5獨立地為H、鹵素、C1-6烷基或-O-C1-6烷基;
n為2或3;
A為S或I;
Y為
2.如權利要求1所述的應用,其特征在于,所述的如式I所示的化合物滿足如下1個或2個條件:
①R1、R2、R3、R4和R5中,所述的鹵素為F、Cl、Br或I;
②R1、R2、R3、R4和R5中,所述的C1-6烷基和所述的-O-C1-6烷基中的C1-6烷基獨立地為甲基、乙基、正丙基、異丙基、正丁基、異丁基、仲丁基或叔丁基。
3.如權利要求1所述的應用,其特征在于,所述的如式I所示的化合物滿足如下1個或多個條件:
①R1、R2、R3、R4和R5為H;
②n為3;
③A為S。
4.如權利要求1所述的應用,其特征在于,為
5.如權利要求1所述的應用,其特征在于,R1、R2、R3、R4和R5為H;
n為3;
A為S;
Y為
6.如權利要求1所述的應用,其特征在于,所述的如式I所示的化合物為如下任一化合物:
7.一種光刻膠組合物,其包括如下原料:如權利要求1-6中任一項所述的如式I所示的化合物、如式(1)所示的樹脂、堿性添加劑和溶劑;
8.如權利要求7所述的光刻膠組合物,其特征在于,所述的光刻膠組合物滿足如下1個或多個條件:
①所述的光刻膠組合物中,所述的如式I所示的化合物以重量份計的份數為2-10份;
②所述的光刻膠組合物中,所述的如式(1)所示的樹脂以重量份計的份數為20-120份;
③所述的光刻膠組合物中,所述的如式(1)所示的樹脂的重均分子量為8000-9000g/mol;
④所述的光刻膠組合物中,所述的堿性添加劑以重量份計的份數為0.1-1份;
⑤所述的光刻膠組合物中,所述的堿性添加劑為C1-4烷基季銨堿;
⑥所述的光刻膠組合物中,所述的溶劑以重量份計的份數為500-2000份;
⑦所述的光刻膠組合物中,所述的溶劑為酯類溶劑。
9.如權利要求8所述的光刻膠組合物,其特征在于,所述的光刻膠組合物滿足如下1個或多個條件:
①所述的光刻膠組合物中,所述的如式I所示的化合物以重量份計的份數為4份;
②所述的光刻膠組合物中,所述的如式(1)所示的樹脂以重量份計的份數為100份;
③所述的光刻膠組合物中,所述的如式(1)所示的樹脂的重均分子量為8500g/mol;
④所述的光刻膠組合物中,所述的堿性添加劑以重量份計的份數為0.5份;
⑤所述的光刻膠組合物中,所述的堿性添加劑為四甲基氫氧化銨;
⑥所述的光刻膠組合物中,所述的溶劑以重量份計的份數為1000份;
⑦所述的光刻膠組合物中,所述的溶劑為丙二醇甲醚乙酸酯。
10.如權利要求7-9任一項所述的光刻膠組合物,其特征在于,所述的光刻膠組合物由如下原料組成:所述的如式I所示的化合物、所述的樹脂、所述的堿性添加劑和所述的溶劑。
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