[發明專利]一種減少氫氣在地下鹽穴中被微生物消耗的方法在審
| 申請號: | 202110979335.2 | 申請日: | 2021-08-25 |
| 公開(公告)號: | CN113623001A | 公開(公告)日: | 2021-11-09 |
| 發明(設計)人: | 徐俊輝;陳留平;劉娟;朱旭初;王衛東;徐孜俊;趙云松 | 申請(專利權)人: | 中鹽金壇鹽化有限責任公司 |
| 主分類號: | E21F17/16 | 分類號: | E21F17/16;E21F17/00 |
| 代理公司: | 常州至善至誠專利代理事務所(普通合伙) 32409 | 代理人: | 王穎 |
| 地址: | 213200 江蘇*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 減少 氫氣 地下 鹽穴中被 微生物 消耗 方法 | ||
1.一種減少氫氣在地下鹽穴中被微生物消耗的方法,鹽穴包括設置在地下的鹽穴腔,所述鹽穴中設置有中心管,所述中心管的下端與鹽穴腔相連通,所述中心管的上端延伸至地面上方,所述中心管上套裝有生產外管,所述中心管的外壁與生產外管的內壁之間具有間隙,所述生產外管的下端與鹽穴腔相連通,所述生產外管的上端延伸至地面上方,其特征在于:包括以下步驟:
S1,進行鹽穴造腔過程,鹽穴造腔過程包括第一造腔階段和第二造腔階段,在第一造腔階段中,使用中心管向鹽穴中注入清水,使用生產外管將鹽穴中的鹵水采出,在第二造腔階段中,使用中心管將鹽穴中的鹵水采出,使用生產外管向鹽穴中注入清水,鹽穴造腔過程中第一造腔階段和第二造腔階段交替進行,在造腔過程中多次調節生產外管和中心管下端的深度,直到鹽穴造腔完成,所述深度即為鹽穴腔的深度;
S2,注氣排鹵階段,向鹽穴腔內注入待儲存的氫氣,注入氫氣的過程中,同時向鹽穴中注入霧化的好氫型微生物抑制劑,鹽穴下部的鹵水沿排鹵管線排出,注氣排鹵階段完成后,鹽穴底部留有一部分鹵水作為墊底層;
S3,鹽穴注采氣管道上安裝有濃度測量儀,對注入的好氫型微生物抑制劑的濃度進行測量。
2.如權利要求1所述的一種減少氫氣在地下鹽穴中被微生物消耗的方法,其特征在于:還包括:
步驟S4,將步驟S2中注入氫氣和好氫型微生物抑制劑的鹽穴腔靜置,使得霧化的好氫型微生物抑制劑擴散至整個鹽穴腔中,然后對鹽穴腔內的好氫型微生物抑制劑的濃度進行測量,當好氫型微生物抑制劑氣體的濃度測量值小于10mg/L時,再次向鹽穴中注入霧化的好氫型微生物抑制劑,直到好氫型微生物抑制劑的濃度測量值大于10mg/L時,停止向鹽穴內注入好氫型微生物抑制劑氣體。
3.如權利要求1所述的一種減少氫氣在地下鹽穴中被微生物消耗的方法,其特征在于:所述步驟S2中,在向鹽穴內部注入氫氣之前,在注氣管線上安裝霧化泵,在向鹽穴中注入氫氣時,通過霧化泵將好氫型微生物抑制劑霧化后隨氫氣同時注入到鹽穴中。
4.如權利要求1所述的一種減少氫氣在地下鹽穴中被微生物消耗的方法,其特征在于:所述好氫型微生物抑制劑包括溶劑和溶質,所述溶劑不溶于鹵水,所述溶質為抗生素、膽鹽、PH調節劑中的一種或多種的混合物。
5.如權利要求1所述的一種減少氫氣在地下鹽穴中被微生物消耗的方法,其特征在于:所述溶劑為乙酸乙酯。
6.如權利要求1所述的一種減少氫氣在地下鹽穴中被微生物消耗的方法,其特征在于:所述抗生素為青霉素、氯霉素、紅霉素和異霉素中的一種或多種。
7.如權利要求1所述的一種減少氫氣在地下鹽穴中被微生物消耗的方法,其特征在于:所述膽鹽為牛磺膽酸鈉、牛磺膽酸鉀、脫氧膽酸鈉、脫氧膽酸鉀中的一種或多種。
8.如權利要求1所述的一種減少氫氣在地下鹽穴中被微生物消耗的方法,其特征在于:所述PH調節劑為碳酸鈉、碳酸氫鈉、磷酸氫二鈉中的一種或多種。
9.如權利要求1所述的一種減少氫氣在地下鹽穴中被微生物消耗的方法,其特征在于:所述步驟S2中注入的好氫型微生物抑制劑氣體的濃度為10ug/ml~150ug/ml。
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