[發明專利]多通道電容耦合式等離子體射流裝置及工作方法

有效

• 申請號: 202110976868.5
• 申請日: 2021-08-24
• 公開（公告）號: CN113597078B
• 公開（公告）日: 2022-06-28
• 發明（設計）人: 李洲龍;梁銳彬;朱利民
• 申請（專利權）人: 上海交通大學
• 主分類號: H05H1/26
• 分類號: H05H1/26
• 代理公司: 上海漢聲知識產權代理有限公司 31236
• 代理人: 胡晶

1.一種多通道電容耦合式等離子體射流裝置的工作方法，其特征在于，所述裝置包括：氣體導流和混合結構(1)、等離子體發生器(2)、射頻電路(3)以及進氣管道(4)；

所述氣體導流和混合結構(1)通過所述進氣管道(4)連通所述等離子體發生器(2)；

所述射頻電路(3)電連接所述等離子體發生器(2)；

所述等離子體發生器(2)內安裝陽極板(22)、陰極板(23)以及絕緣介質板(26)；

所述陽極板(22)和所述陰極板(23)之間安裝所述絕緣介質板(26)，所述絕緣介質板(26)設置有多個反應通道(27)；

所述陽極板(22)、所述陰極板(23)以及所述絕緣介質板(26)設置為板狀且互相平行；

多個所述反應通道(27)沿所述絕緣介質板(26)內部呈線狀陣列排布，所述反應通道(27)貫通所述絕緣介質板(26)兩端；

所述陽極板(22)、所述陰極板(23)以及所述絕緣介質板(26)套裝在定位套(24)內；

所述定位套(24)設置為方形，所述定位套(24)兩端設置通孔并連通所述反應通道(27)；

所述等離子體發生器(2)還包括：氣體流量控制閥(21)、導流結構(25)以及固定結構(28)；

所述定位套(24)一端通過所述通孔連通所述導流結構(25)一端，所述導流結構(25)另一端連通所述氣體流量控制閥(21)一端；

所述氣體流量控制閥(21)設置有多個，每個所述氣體流量控制閥(21)對應連接一個所述反應通道(27)；

所述氣體流量控制閥(21)、所述導流結構(25)以及所述定位套(24)外側套裝所述固定結構(28)并通過所述固定結構(28)固定；

所述氣體導流和混合結構(1)包括：氣源(11)和氣體混流和整流裝置(12)；

所述氣源(11)設置有多個；

多個所述氣源(11)一端連接所述氣體混流和整流裝置(12)一端并通過所述氣體混流和整流裝置(12)進行混合和整流；

所述氣體混流和整流裝置(12)另一端通過所述進氣管道(4)連通所述氣體流量控制閥(21)另一端；

所述射頻電路(3)包括：射頻電源(31)、阻抗匹配裝置(32)以及射頻電源線接口(33)；

所述射頻電源(31)電連接所述阻抗匹配裝置(32)，所述阻抗匹配裝置(32)電連接所述射頻電源線接口(33)；

所述射頻電源線接口(33)電連接所述陽極板(22)和所述陰極板(23)；

所述等離子體發生器(2)下方安置工作臺(6)，所述工作臺(6)上放置待加工工件(5)；

所述反應通道(27)未安裝所述氣體流量控制閥(21)一端朝向所述待加工工件(5)；

多個所述氣體流量控制閥(21)電連接控制系統(7)；

包括以下步驟：

步驟S1，根據目標去除面型，計算各個時刻對應每個所述反應通道(27)的所需材料去除量，并據此計算各個所述反應通道(27)的反應氣體流量；

步驟S2，根據所述反應氣體流量計算結果，通過所述控制系統(7)調節每個所述氣體流量控制閥(21)；

步驟S3，打開所述氣源(11)及所述射頻電源(31)，使得等離子體得以激發并通過所述反應通道(27)產生射流；

步驟S4，通過協同控制各所述氣體流量控制閥(21)以實現目標直線上任意去除量分布形式的連續線狀射流；

步驟S5，結合所述工作臺(6)的運動軌跡規劃，實現修形與拋光加工。