[發(fā)明專利]一種基于電控選通的大視場光學成像方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 202110974519.X | 申請日： | 2021-08-24 |
| 公開（公告）號： | CN113840064B | 公開（公告）日： | 2023-06-30 |
| 發(fā)明（設計）人： | 崔浩;姚霂霖;李俊威;魏凱 | 申請（專利權）人： | 中國科學院光電技術研究所 |
| 主分類號： | H04N23/55 | 分類號： | H04N23/55;H04N25/74 |
| 代理公司： | 北京科迪生專利代理有限責任公司 11251 | 代理人： | 江亞平 |
| 地址： | 610209 *** | 國省代碼： | 四川;51 |
| 權利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 基于 電控選通 視場 光學 成像 方法 | ||
【權利要求書】：
1.一種基于電控選通的大視場光學成像方法，其特征在于，該方法包括以下步驟：
步驟(1)、光源所發(fā)出的光入射到透鏡陣列，所述透鏡陣列的不同透鏡能對不同視場角的光進行成像；
步驟(2)、通過電選通模塊選通所述透鏡陣列的不同透鏡，所述不同透鏡將不同角度的入射光的光信號傳輸?shù)紺CD相機進行處理并生成圖像；
步驟(3)、通過后續(xù)圖像處理模塊對所述圖像進行組合拼接，從而得到所需的大視場光學成像圖像；
其中，通過由電極和馬赫-曾德爾干涉儀組成的電選通模塊對透鏡陣列的不同透鏡進行選通。
2.根據(jù)權利要求1所述的一種基于電控選通的大視場光學成像方法，其特征在于：所述的光源為大視場角光源。
下載完整專利技術內(nèi)容需要扣除積分，VIP會員可以免費下載。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息，商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于中國科學院光電技術研究所，未經(jīng)中國科學院光電技術研究所許可，擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權和技術合作，請聯(lián)系【客服】
本文鏈接：http://www.szxzyx.cn/pat/books/202110974519.X/1.html，轉載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
