[發明專利]一種以納米二氧化硅為填料的PVDF隔膜在審
| 申請號: | 202110973443.9 | 申請日: | 2021-08-23 |
| 公開(公告)號: | CN113675530A | 公開(公告)日: | 2021-11-19 |
| 發明(設計)人: | 劉方;劉瑾豪;李越旺 | 申請(專利權)人: | 長園澤暉新能源材料研究院(珠海)有限公司 |
| 主分類號: | H01M50/431 | 分類號: | H01M50/431;H01M50/446;H01M50/451;H01M50/417;H01M50/426;H01M50/457;H01M10/0525 |
| 代理公司: | 深圳市世通專利代理事務所(普通合伙) 44475 | 代理人: | 賀愛文 |
| 地址: | 519000 廣東省珠海市*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 納米 二氧化硅 填料 pvdf 隔膜 | ||
1.一種以納米二氧化硅為填料的PVDF隔膜,其特征在于:包括一復合膜,該復合膜由基膜(1)以及至少一層涂覆在基膜單面或者兩側面上的涂層(2)組成,該涂層(2)為納米二氧化硅填充PVDF涂層,納米二氧化硅硅氧四面體形成的立體網狀結構將涂層(2)與基膜(1)粘接固定。
2.根據權利要求1所述的以納米二氧化硅為填料的PVDF隔膜,其特征在于:所述納米二氧化硅填充PVDF涂層為納米二氧化硅和PVDF混合之后涂覆的涂層,或者,所述納米二氧化硅填充PVDF涂層為納米二氧化硅涂層和PVDF涂層的結合。
3.根據權利要求1所述的以納米二氧化硅為填料的PVDF隔膜,其特征在于:所述基膜(1)為聚烯烴多孔基膜,聚烯烴多孔基膜的厚度為5-25μm。
4.根據權利要求1所述的以納米二氧化硅為填料的PVDF隔膜,其特征在于:所述復合膜的厚度為7-30μm。
5.根據權利要求1所述的以納米二氧化硅為填料的PVDF隔膜,其特征在于:位于基膜(1)一側或者雙側的涂層(2)的層數為1-3層。
6.根據權利要求5所述的以納米二氧化硅為填料的PVDF隔膜,其特征在于:每一層納米二氧化硅填充PVDF涂層的厚度為1-5μm。
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