[發明專利]加熱器及加熱霧化裝置

在審

• 申請號: 202110968473.0
• 申請日: 2021-08-23
• 公開（公告）號: CN113647697A
• 公開（公告）日: 2021-11-16
• 發明（設計）人: 劉滔文;李日紅;周宏明
• 申請（專利權）人: 深圳麥克韋爾科技有限公司
• 主分類號: A24F40/465
• 分類號: A24F40/465;A24F40/57;A24F40/40
• 代理公司: 廣州華進聯合專利商標代理有限公司 44224
• 代理人: 李輝

本發明涉及一種加熱器和加熱霧化裝置，加熱器開設有用于收容霧化介質載體的容置腔并包括：磁場發生單元，設置在加熱器內并用于產生交變磁場。第一感應單元，至少部分收容在容置腔內，第一感應單元能夠穿設在霧化介質載體之內并通過交變磁場產生熱量。及第二感應單元，位于容置腔內并環繞第一感應單元設置，第二感應單元能夠環繞在霧化介質載體之外并通過交變磁場產生熱量。如此使得霧化介質載體各區域內的霧化介質在短時間內同時達到霧化溫度而產生霧化，從而提高霧化介質載體的霧化速度。同時，使得霧化介質受熱均勻，一方面防止出現部分霧化介質因低于霧化溫度而無法霧化的現象，提高霧化介質載體的霧化利用率。

技術領域

本發明涉及加熱霧化技術領域，特別是涉及一種加熱器及包含該加熱器的加熱霧化裝置。

背景技術

加熱器用于對霧化介質載體通過加熱不燃燒的方式進行霧化，以便形成可供用戶抽吸的氣溶膠，如此可以減少氣溶膠內有害物質的含量。但是，對于傳統的加熱器，通常存在對霧化介質載體的霧化速度和霧化利用率過低的缺陷。

發明內容

本發明解決的一個技術問題是如何提高加熱器對霧化介質載體的霧化速度和霧化利用率。

一種加熱器，開設有用于收容霧化介質載體的容置腔并包括：

磁場發生單元，設置在所述加熱器內并用于產生交變磁場；

第一感應單元，至少部分收容在所述容置腔內，所述第一感應單元能夠穿設在霧化介質載體之內并通過所述交變磁場產生熱量；及

第二感應單元，位于所述容置腔內并環繞所述第一感應單元設置，所述第二感應單元能夠環繞在所述霧化介質載體之外并通過所述交變磁場產生熱量。

在其中一個實施例中，所述第一感應單元的加熱溫度大于所述第二感應單元的加熱溫度。

在其中一個實施例中，所述溫度傳感單元設置在所述第二感應單元背離所述霧化介質載體的一側。

在其中一個實施例中，所述第二感應單元的截面大致為C型，所述第二感應單元的相對兩個邊緣與所述容置腔的內側壁面連接，所述第二感應單元與所述容置腔的內側壁面之間存在間隔空隙，所述溫度傳感單元設置于所述間隔空隙。

在其中一個實施例中，所述第二感應單元由所述兩個邊緣相向平滑延伸。

在其中一個實施例中，所述第二感應單元凸出于所述容置腔的內側壁面，用于收容擠壓所述霧化介質載體。

在其中一個實施例中，還包括設置在所述容置腔的內側壁面上的隔熱件，所述第二感應單元的兩個邊緣分別連接所述隔熱件。

在其中一個實施例中，所述第二感應單元為筒狀結構，所述第二感應單元的厚度為0.015mm至0.3mm且長度為0.8mm至2.5mm。

在其中一個實施例中，所述第一感應單元的加熱溫度大于所述第二感應單元的加熱溫度。

在其中一個實施例中，所述第一感應單元持續上升至加熱溫度后并保持加熱溫度恒定不變，所述第二感應單元持續上升至加熱溫度后并保持加熱溫度恒定不變。

在其中一個實施例中，在同時升溫的過程中，所述第一感應單元的加熱溫度和所述第二感應單元的加熱溫度在同一時刻抵達。

在其中一個實施例中，所述第一感應單元的居里溫度為250℃至350℃，所述第二感應單元的居里溫度為150℃至220℃。

在其中一個實施例中，所述容置腔在所述加熱器的外表面上存在敞開口，所述第一感應單元包括相互連接的基礎段和尖刺段，所述基礎段的橫截面尺寸均勻設置且所述尖刺段的橫截面尺寸非均勻設置，所述尖刺段相對所述基礎段更臨近所述敞開口并具有相對臨近所述敞開口的第一端，所述第二感應單元具有相對臨近所述敞開口的第二端。