[發(fā)明專利]外模清理打磨控制系統(tǒng)

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202110964891.2
• 申請(qǐng)日: 2021-08-20
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN113618888B
• 公開(kāi)（公告）日: 2022-12-06
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 鄭翼;高陽(yáng);鄭彪
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 北京好運(yùn)達(dá)智創(chuàng)科技有限公司
• 主分類號(hào): B28B7/38
• 分類號(hào): B28B7/38;B24B27/033;B24B19/20;B24B27/00;B24B41/06;B24B47/12;B24B47/20;B24B49/00;B24B49/12;B24B51/00
• 代理公司: 北京力致專利代理事務(wù)所(特殊普通合伙) 11900
• 代理人: 朱靜謙

1.一種外模清理打磨控制系統(tǒng)，其特征在于，包括：

掃描模塊，用于獲取模具掃描設(shè)備掃描的模具的實(shí)時(shí)圖像；

分析模塊，用于基于所述實(shí)時(shí)圖像，確定控制參數(shù)；

控制模塊，用于基于所述控制參數(shù)控制外模清理打磨設(shè)備的打磨裝置的工作；

狀態(tài)檢測(cè)模塊，用于檢測(cè)所述打磨裝置的狀態(tài)參數(shù)；

所述狀態(tài)檢測(cè)模塊包括：

壓力檢測(cè)子模塊，用于檢測(cè)所述打磨裝置對(duì)于所述模具表面的壓力值；

所述控制模塊執(zhí)行如下操作：

解析所述控制參數(shù)，確定所述打磨裝置對(duì)所述模具表面的壓力范圍；

確定所述打磨裝置所在的控制點(diǎn)位；

基于所述控制點(diǎn)位，從預(yù)設(shè)的第二修正庫(kù)中獲取與所述控制點(diǎn)位相對(duì)應(yīng)的第二修正表；

確定所述壓力范圍的中心壓力值；

計(jì)算所述中心壓力值與所述壓力值的壓力差；

基于所述壓力差和所述第二修正表，確定第二修正參數(shù)；所述第二修正表中所述第二修正參數(shù)與所述壓力差一一對(duì)應(yīng)。

2.如權(quán)利要求1所述的外模清理打磨控制系統(tǒng)，其特征在于，所述模具掃描設(shè)備包括：超聲掃描模塊、圖像掃描模塊和紅外掃描模塊其中一種或多種結(jié)合。

3.如權(quán)利要求1所述的外模清理打磨控制系統(tǒng)，其特征在于，所述分析模塊基于所述實(shí)時(shí)圖像，確定控制參數(shù)，包括：

獲取預(yù)設(shè)的對(duì)應(yīng)所述模具的標(biāo)準(zhǔn)模型和對(duì)應(yīng)所述標(biāo)準(zhǔn)模型的標(biāo)準(zhǔn)控制參數(shù)集；

基于所述實(shí)時(shí)圖像，構(gòu)建實(shí)時(shí)模型；

比較所述標(biāo)準(zhǔn)模型與所述實(shí)時(shí)模型差異，確定第一修正參數(shù)集；

基于所述標(biāo)準(zhǔn)控制參數(shù)集和所述第一修正參數(shù)集，確定所述控制參數(shù)集；

獲取所述打磨裝置的位置；

基于所述打磨裝置的位置和所述控制參數(shù)集，確定所述控制參數(shù)。

4.如權(quán)利要求3所述的外模清理打磨控制系統(tǒng)，其特征在于，比較所述標(biāo)準(zhǔn)模型與所述實(shí)時(shí)模型差異，確定第一修正參數(shù)集，包括：

解析標(biāo)準(zhǔn)模塊，確定需要打磨的標(biāo)準(zhǔn)平面；

解析所述實(shí)時(shí)模型，確定需要打磨的實(shí)時(shí)平面；

解析所述標(biāo)準(zhǔn)控制參數(shù)，確定控制點(diǎn)位集合；

基于所述控制點(diǎn)位集合，分別對(duì)所述標(biāo)準(zhǔn)平面和所述實(shí)時(shí)平面進(jìn)行點(diǎn)位坐標(biāo)提取，獲取第一點(diǎn)位坐標(biāo)集合和第二點(diǎn)位坐標(biāo)集合；

將所述控制點(diǎn)位集合中的控制點(diǎn)位、所述第一點(diǎn)位坐標(biāo)集合中的第一點(diǎn)位坐標(biāo)和所述第二點(diǎn)位坐標(biāo)集合內(nèi)的第二點(diǎn)位相關(guān)聯(lián)；

基于所述控制點(diǎn)位，從預(yù)設(shè)的第一修正庫(kù)中獲取與所述控制點(diǎn)位相對(duì)應(yīng)的第一修正表；

基于所述第一點(diǎn)位坐標(biāo)和所述第二點(diǎn)位坐標(biāo)，確定坐標(biāo)差值；

基于所述坐標(biāo)差值和所述第一修正表，確定所述第一修正參數(shù)；所述修正表中所述坐標(biāo)差值與所述第一修正參數(shù)一一對(duì)應(yīng)；

確定所有的控制點(diǎn)位對(duì)應(yīng)的所述第一修正參數(shù)并構(gòu)建所述第一修正參數(shù)集。

5.如權(quán)利要求1所述的外模清理打磨控制系統(tǒng)，其特征在于，還包括：

控制模塊，還用于基于所述狀態(tài)參數(shù)，確定第二修正參數(shù)；基于所述第二修正參數(shù)對(duì)所述控制參數(shù)進(jìn)行修正。

6.如權(quán)利要求1所述的外模清理打磨控制系統(tǒng)，其特征在于，還包括：

復(fù)檢模塊，用于獲取復(fù)檢設(shè)備的復(fù)檢圖像；并基于所述復(fù)檢圖像確定二次打磨的控制點(diǎn)位及二次打磨時(shí)的控制參數(shù)。