[發(fā)明專(zhuān)利]一種建筑陶瓷磚表面裝飾施釉的數(shù)據(jù)分析預(yù)測(cè)方法及系統(tǒng)

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202110963561.1
• 申請(qǐng)日: 2021-08-20
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN113554240B
• 公開(kāi)（公告）日: 2022-06-10
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 白梅;陳淑琳;姚青山;聶賢勇;盧秋萍;劉偉
• 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人: 西藏眾陶聯(lián)供應(yīng)鏈服務(wù)有限公司
• 主分類(lèi)號(hào): G06Q10/04
• 分類(lèi)號(hào): G06Q10/04;G06Q50/04;G06Q50/08;G06F16/215;G06K9/62
• 代理公司: 佛山市禾才知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 44379
• 代理人: 資凱亮;陸應(yīng)健

1.一種建筑陶瓷磚表面裝飾施釉的數(shù)據(jù)分析預(yù)測(cè)方法，其特征在于：包括以下步驟：

獲取產(chǎn)線的施釉工藝數(shù)據(jù)和產(chǎn)線最后工序分級(jí)檢測(cè)的缺陷數(shù)據(jù)；

分類(lèi)所述施釉工藝數(shù)據(jù)，劃分出施釉工藝參數(shù)項(xiàng)和缺陷檢測(cè)參數(shù)項(xiàng)；

統(tǒng)計(jì)分析所述施釉工藝數(shù)據(jù)，得到面釉左中右重量的標(biāo)準(zhǔn)差和拋釉左中右重量的標(biāo)準(zhǔn)差，并對(duì)所述施釉工藝數(shù)據(jù)進(jìn)行清理和清洗；

基于SMOTE采樣技術(shù)對(duì)清洗后的所述施釉工藝數(shù)據(jù)進(jìn)行過(guò)采樣，得到施釉樣本庫(kù)；

根據(jù)所述施釉工藝參數(shù)項(xiàng)和所述缺陷參數(shù)項(xiàng)，建立出Xgboost分類(lèi)模型，并利用所述施釉樣本庫(kù)對(duì)所述Xgboost分類(lèi)模型進(jìn)行訓(xùn)練，導(dǎo)出最優(yōu)的所述Xgboost分類(lèi)模型用于預(yù)測(cè)當(dāng)前釉線會(huì)出現(xiàn)的缺陷；所述Xgboost分類(lèi)模型為：向Xgboost分類(lèi)模型輸入?yún)?shù)X：面釉水量、面釉磚面溫度、面釉流速、面釉比重、面釉釉量、第一鐘罩左釉量、第一鐘罩中釉量、第一鐘罩右釉量、拋釉磚面溫度、拋釉流速、拋釉比重、拋釉釉量、第二鐘罩左釉量、第二鐘罩中釉量和第二鐘罩右釉量；Xgboost分類(lèi)模型則輸出參數(shù)Y：面釉磚面有無(wú)殘留、面釉有無(wú)磨去磚邊、面釉有無(wú)凹釉、面釉有無(wú)拉絲、面釉有無(wú)縮釉、拋釉磚面有無(wú)殘留、拋釉有無(wú)磨去磚邊、拋釉有無(wú)凹釉、拋釉有無(wú)拉絲和拋釉有無(wú)縮釉；

根據(jù)產(chǎn)線最后工序分級(jí)檢測(cè)的缺陷數(shù)據(jù)，統(tǒng)計(jì)出釉線缺陷細(xì)項(xiàng)，對(duì)每一個(gè)所述釉線缺陷細(xì)項(xiàng)再進(jìn)行分級(jí)，得到詳細(xì)分級(jí)數(shù)據(jù)；

根據(jù)所述詳細(xì)分級(jí)數(shù)據(jù)，計(jì)算出釉線每小時(shí)缺陷率；

按時(shí)間關(guān)聯(lián)所述施釉工藝數(shù)據(jù)和所述詳細(xì)分級(jí)數(shù)據(jù)，通過(guò)所述施釉工藝參數(shù)項(xiàng)、所述面釉左中右重量的標(biāo)準(zhǔn)差、所述拋釉左中右重量的標(biāo)準(zhǔn)差以及所述釉線每小時(shí)缺陷率，建立Xgboost回歸模型，并利用所述施釉樣本庫(kù)對(duì)Xgboost回歸模型進(jìn)行訓(xùn)練，導(dǎo)出最優(yōu)的所述Xgboost回歸模型用于預(yù)測(cè)整線的釉線每小時(shí)缺陷率；所述Xgboost回歸模型為：向Xgboost回歸模型輸入?yún)?shù)X：面釉水量、面釉磚面溫度、面釉流速、面釉比重、面釉釉量、第一鐘罩左釉量、第一鐘罩中釉量、第一鐘罩右釉量、面釉左中右重量的標(biāo)準(zhǔn)差、拋釉磚面溫度、拋釉流速、拋釉比重、拋釉釉量、第二鐘罩左釉量、第二鐘罩中釉量、第二鐘罩右釉量和拋釉左中右重量的標(biāo)準(zhǔn)差；Xgboost回歸模型則輸出參數(shù)Y：釉線每小時(shí)缺陷率；

對(duì)最優(yōu)的所述Xgboost回歸模型進(jìn)行特征重要性分析，分析出各工序?qū)τ跃€每小時(shí)缺陷率的重要性。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種建筑陶瓷磚表面裝飾施釉的數(shù)據(jù)分析預(yù)測(cè)方法，其特征在于：所述施釉工藝數(shù)據(jù)包括面釉工藝數(shù)據(jù)和拋釉工藝數(shù)據(jù)；

所述面釉工藝數(shù)據(jù)包括：

可控參數(shù)：面釉水量、面釉磚面溫度、面釉流速、面釉比重、面釉釉量；

不可控參數(shù)：面釉日期、面釉時(shí)間、面釉班次、面釉規(guī)格、面釉編號(hào)、面釉接班存磚、面釉交班存磚；

目標(biāo)變量：第一鐘罩左釉量、第一鐘罩中釉量、第一鐘罩右釉量、面釉磚面有無(wú)殘留、面釉有無(wú)磨去磚邊、面釉有無(wú)凹釉、面釉有無(wú)拉絲、面釉有無(wú)縮釉；

所述拋釉工藝數(shù)據(jù)包括：

可控參數(shù)：拋釉磚面溫度、拋釉流速、拋釉比重、拋釉釉量；

不可控參數(shù)：拋釉日期、拋釉時(shí)間、拋釉班次、拋釉規(guī)格、拋釉編號(hào)、拋釉接班存磚、拋釉交班存磚；

目標(biāo)變量：第二鐘罩左釉量、第二鐘罩中釉量、第二鐘罩右釉量、拋釉磚面有無(wú)殘留、拋釉有無(wú)磨去磚邊、拋釉有無(wú)凹釉、拋釉有無(wú)拉絲、拋釉有無(wú)縮釉。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種建筑陶瓷磚表面裝飾施釉的數(shù)據(jù)分析預(yù)測(cè)方法，其特征在于：

將面釉水量、面釉磚面溫度、面釉流速、面釉比重、面釉釉量、第一鐘罩左釉量、第一鐘罩中釉量、第一鐘罩右釉量、拋釉磚面溫度、拋釉流速、拋釉比重、拋釉釉量、第二鐘罩左釉量、第二鐘罩中釉量和第二鐘罩右釉量劃分為所述施釉工藝參數(shù)項(xiàng)；

將面釉磚面有無(wú)殘留、面釉有無(wú)磨去磚邊、面釉有無(wú)凹釉、面釉有無(wú)拉絲、面釉有無(wú)縮釉、拋釉磚面有無(wú)殘留、拋釉有無(wú)磨去磚邊、拋釉有無(wú)凹釉、拋釉有無(wú)拉絲、拋釉有無(wú)縮釉調(diào)整為布爾變量，并劃分為所述缺陷檢測(cè)參數(shù)項(xiàng)。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種建筑陶瓷磚表面裝飾施釉的數(shù)據(jù)分析預(yù)測(cè)方法，其特征在于：統(tǒng)計(jì)分析施釉工藝數(shù)據(jù)中，統(tǒng)計(jì)分析指標(biāo)包括總數(shù)、最小值、最小值位置、25%分位數(shù)、中位數(shù)、75%分位數(shù)、均值、最大值、最大值位置、平均絕對(duì)偏差、方差、標(biāo)準(zhǔn)差、峰度和異常值。