[發明專利]一種提高視場選通成像系統視場占空比的方法

有效

• 申請號: 202110962790.1
• 申請日: 2021-08-20
• 公開（公告）號: CN113835211B
• 公開（公告）日: 2023-06-30
• 發明（設計）人: 方亮;張輝;廖志遠;程欣;譚述亮;范真節
• 申請（專利權）人: 中國科學院光電技術研究所
• 主分類號: G02B23/04
• 分類號: G02B23/04;G01C21/02
• 代理公司: 北京科迪生專利代理有限責任公司 11251
• 代理人: 江亞平

1.一種提高視場選通成像系統視場占空比的方法，其特征在于，該方法包括：

1)利用分光鏡(2)將視場選通成像系統一次像面分為透射光路一次像面(31)和反射光路一次像面(32)；

2)在所述透射光路一次像面(31)與其后方設置的第一后組微透鏡陣列(51)之間設置一組第一前組微透鏡陣列(41)，該第一前組微透鏡陣列(41)與所述第一后組微透鏡陣列(51)形成微透鏡陣列組；所述第一前組微透鏡陣列(41)中的每個微透鏡單元均作為場鏡，用于將其對應選通視場內的邊緣視場光線進行偏轉，使邊緣視場的主光線能夠通過所述第一后組微透鏡陣列(51)中的微透鏡單元；

3)在反射光路一次像面(32)與其后方設置的第二后組微透鏡陣列(52)之間設置一組第二前組微透鏡陣列(42)，該第二前組微透鏡陣列(42)與所述第二后組微透鏡陣列(52)形成微透鏡陣列組，所述第二前組微透鏡陣列(42)中的每個微透鏡單元均作為場鏡，用于將其對應選通視場內的邊緣視場光線進行偏轉，使邊緣視場的主光線能夠通過所述第二后組微透鏡陣列(52)中的微透鏡單元。

2.根據權利要求1所述的一種提高視場選通成像系統視場占空比的方法，其特征在于：對所述透射光路一次像面(31)的選通視場和對所述反射光路一次像面(32)的選通視場相互交錯，整個視場選通成像系統總的有效視場近似等于透射光路的有效視場和反射光路的有效視場之和。

3.根據權利要求1所述的一種提高視場選通成像系統視場占空比的方法，其特征在于：視場選通成像系統一次像面為前端望遠鏡(1)的成像面；所述透射光路一次像面(31)的光線通過第一前組微透鏡陣列(41)和第一后組微透鏡陣列(51)組成的微透鏡陣列組后，經第一微開關陣列(61)選通后再由第一后端成像物鏡(71)成像于探測器上；所述反射光路一次像面(32)的光線通過第二前組微透鏡陣列(42)和第二后組微透鏡陣列(52)組成的微透鏡陣列組后，經第二微開關陣列(62)選通后再由第二后端成像物鏡(72)成像于探測器上。