[發明專利]InP量子點及制備方法、InP/ZnSe、InP/ZnSe/ZnS量子點在審
| 申請號: | 202110957163.9 | 申請日: | 2021-08-20 |
| 公開(公告)號: | CN113637477A | 公開(公告)日: | 2021-11-12 |
| 發明(設計)人: | 曹璠;楊緒勇;王勝 | 申請(專利權)人: | 浙江臻納科技有限公司 |
| 主分類號: | C09K11/70 | 分類號: | C09K11/70;C09K11/02;C09K11/88;B82Y20/00;B82Y30/00;B82Y40/00 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | inp 量子 制備 方法 znse zns | ||
本發明涉及量子點領域,特別是涉及InP量子點及制備方法、InP/ZnSe、InP/ZnSe/ZnS量子點,制備方法包括以下步驟:步驟S1,將硅基磷前驅體、脂肪酸銦前驅體及非配位溶劑在第一溫度下混合,并升至第二溫度,得到第一InP核;步驟S2,將氨基磷前驅體和脂肪酸銦前驅體逐滴滴加至第一InP核的反應體系,并在第三溫度下反應,獲得第二InP核,即獲得InP量子點;其中,第三溫度高于第二溫度,第二InP核的尺寸大于第一InP核尺寸。本發明的方法可以低成本、簡單地獲得制備的InP量子點,半峰寬較窄,熒光產率較高。
技術領域
本發明涉及量子點領域,特別是涉及一種InP量子點及制備方法、InP/ZnSe量子點和InP/ZnSe/ZnS量子點。
背景技術
量子點作為一種新型的半導體納米材料,具有許多優異的光學特性,如發射波長可調、發光效率高、半峰寬窄、可溶液加工等優點,因此在新型顯示、固態照明等領域具有廣闊的應用前景,受到了全球的廣泛關注。
磷化銦(InP)量子點是一種III-V族的半導體納米材料,其不含重金屬劇毒元素,不具有本征毒性,是一種環境友好型的無鎘量子點材料。目前具有高發光效率和窄半峰寬的InP量子點均使用三(三甲硅烷基)膦作為磷源,然而此類磷源成本較高且難以實現均勻生長。目前的解決手段是使用三(二甲氨基)膦或三(二乙氨基)膦作為磷源來制備InP量子點,然而最終的量子點性能(尤其是半峰寬)仍略顯不足。因此,發展一種低成本且高性能的InP量子點具有非常重要的意義。
發明內容
為了解決現有技術問題,本發明的目的在于克服已有技術存在的不足,提供一種InP量子點及制備方法、InP/ZnSe量子點和InP/ZnSe/ZnS量子點,制備的InP量子點半峰寬較窄,熒光產率高。
為了解決上述技術問題,本發明的一種技術方案包括:一種InP量子點的制備方法,包括以下步驟:步驟S1,將硅基磷前驅體、脂肪酸銦前驅體及非配位溶劑在第一溫度下混合,并升至第二溫度,得到第一InP核;
步驟S2,將氨基磷前驅體和脂肪酸銦前驅體逐滴滴加至第一InP核的反應體系,并在第三溫度下反應,獲得第二InP核,即獲得InP量子點;
其中,第三溫度高于第二溫度,第二InP核的尺寸大于第一InP核尺寸。
本發明中第三溫度大于第一溫度和第二溫度,在第一溫度和第二溫度低于第三溫度的情況下,可以有利于形成小尺寸InP量子點的形成及控制。并在步驟S1中,使用硅基磷成核保證了生成第一InP核的質量,即,使得生成的InP小核的質量較高;在步驟S2中,通過采用氨基磷和脂肪酸銦繼續反應,在第一InP核上繼續生長,獲得第二InP核,即獲得InP量子點,可以減少在S2步驟過程中第二InP核生長的表面缺陷,顯著改善了InP量子點的形貌和發光效率。
進一步地,其中所述所述硅基磷前驅體與脂肪酸銦前驅體與的摩爾比為:1:(0.5-10),優選1:(1~5),其中所述脂肪酸銦前驅體優選0.05mmol-0.5mmol;所述硅基磷前驅體優選0.05mmol-0.15mmol,非配位溶劑為5mL-20mL。采用通過上述的硅基磷前驅體、脂肪酸銦前驅體及非配位溶劑配合,可以在極少量的硅基磷前驅體,即可獲得小尺寸的第一InP核,進而降低制備成本,還可保證小尺寸的第一InP核的表面尺寸。只有在同時滿足上述所述硅基磷前驅體為0.05mmol-0.15mmol,脂肪酸銦前驅體為0.05mmol-0.5mmol,非配位溶劑為5mL-20mL的情況下,才能很好地控制制備均勻的小尺寸的InP量子點,上述范圍之外的配比,不利于生成高質量的均勻的InP量子點。
進一步地,所述步驟S1中將硅基磷前驅體、脂肪酸銦前驅體及非配位溶劑在第一溫度下混合,包括:將硅基磷前驅體、脂肪酸銦前驅體、非配位溶劑、硬脂酸鋅和油胺,在第一溫度下混合。優選地,所述硬脂酸鋅為0.3mmol-0.6mmol,油胺為5mL-15mL。只有將提純后的小尺寸InP核置于新的特定比例的硬脂酸鋅和油胺反應體系中,才可以進一步提高InP量子點的生長,提高生長質量。
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