[發(fā)明專利]一種基于二氧化碳產(chǎn)生的二氧化碳生產(chǎn)裝置在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202110947354.7 | 申請日: | 2021-08-18 |
| 公開(公告)號: | CN113617179A | 公開(公告)日: | 2021-11-09 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 朱永亮;朱廣 | 申請(專利權(quán))人: | 合肥眾甫工業(yè)技術(shù)有限公司 |
| 主分類號: | B01D53/00 | 分類號: | B01D53/00;B01D46/00;B01D46/06;B01D46/30;B01D46/44;B01D47/02;B01D50/00;B01D53/02;B01D53/04;B01D53/047;B01D53/26;C01B32/50;F25J3/02;F25J3/08 |
| 代理公司: | 合肥洪雷知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 34164 | 代理人: | 郎海云 |
| 地址: | 230088 安徽省合肥市合*** | 國省代碼: | 安徽;34 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 基于 二氧化碳 產(chǎn)生 生產(chǎn) 裝置 | ||
1.一種基于二氧化碳產(chǎn)生的二氧化碳生產(chǎn)裝置,其特征在于:包括用于產(chǎn)生二氧化碳的二氧化碳發(fā)生系統(tǒng);
所述二氧化碳發(fā)生系統(tǒng)的排氣端連通有氣體處理系統(tǒng)A(1),所述氣體處理系統(tǒng)A(1)的出氣端連通有氣體處理系統(tǒng)B(3);
所述氣體處理系統(tǒng)A(1)的出氣端連通有氣體處理系統(tǒng)C(4);
其中,所述氣體處理系統(tǒng)A(1)和氣體處理系統(tǒng)B(3)分別用于對二氧化碳發(fā)生系統(tǒng)產(chǎn)生的尾氣進行一次除塵和二次除塵;
其中,所述氣體處理系統(tǒng)C(4)用于除去尾氣中包含的氮化合物、硫化物以及氧氣、并獲得高純度二氧化碳。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種基于二氧化碳產(chǎn)生的二氧化碳生產(chǎn)裝置,其特征在于,所述氣體處理系統(tǒng)A(1)包括殼體(11),所述殼體(11)的一側(cè)設(shè)置有階梯狀的進氣口(12),所述殼體(11)的底部設(shè)置有排氣口(10);所述進氣口(12)處配合設(shè)置有一密封板(13);
所述密封板(13)上設(shè)置有開孔(14),位于所述密封板(13)兩側(cè)的開孔(14)分別設(shè)置有圍沿(15)和連接管接頭(16);
所述圍沿(15)的端口處設(shè)置有若干支撐桿(17),若干所述支撐桿(17)呈環(huán)形分布、且端部連接有一基板(18);
位于所述圍沿(15)、支撐桿(17)和基板(18)形成的框架外側(cè)套設(shè)有一濾袋(19)。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種基于二氧化碳產(chǎn)生的二氧化碳生產(chǎn)裝置,其特征在于,位于所述濾袋(19)內(nèi)側(cè)的框架任意一位置上設(shè)置有氣壓傳感器A,位于所述濾袋(19)外側(cè)的殼體(11)內(nèi)側(cè)壁上設(shè)置有一氣壓傳感器B;所述氣壓傳感器B和氣壓傳感器A均與一處理器A連接。
4.根據(jù)權(quán)利要求2或3所述的一種基于二氧化碳產(chǎn)生的二氧化碳生產(chǎn)裝置,其特征在于,所述氣體處理系統(tǒng)A(1)和氣體處理系統(tǒng)B(3)之間還連通有一氣體均壓系統(tǒng)(2);所述氣體均壓系統(tǒng)(2)包括相互連通的罐體一(21)和罐體二(22);
所述罐體一(21)的頂部和底部分別設(shè)置有與氣體處理系統(tǒng)A(1)和氣體處理系統(tǒng)B(3)連通的進氣管一(211)和出氣管一(212);
所述罐體二(22)的頂部和底部分別設(shè)置有與氣體處理系統(tǒng)A(1)和氣體處理系統(tǒng)B(3)連通的進氣管二(221)和出氣管二(222)。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的一種基于二氧化碳產(chǎn)生的二氧化碳生產(chǎn)裝置,其特征在于,所述罐體一(21)和罐體二(22)上分別設(shè)置有相互連通的排氣口一(213)和排氣口二(223);
所述排氣口一(213)和排氣口二(223)連通有一氣管(23),所述氣管(23)上設(shè)置有調(diào)節(jié)閥一(24);
且所述進氣管一(211)、出氣管一(212)、進氣管二(221)和出氣管二(222)上分別設(shè)置有調(diào)節(jié)閥A、調(diào)節(jié)閥B、調(diào)節(jié)閥C和調(diào)節(jié)閥D;
所述調(diào)節(jié)閥一(24)、調(diào)節(jié)閥A、調(diào)節(jié)閥B、調(diào)節(jié)閥C和調(diào)節(jié)閥D均連接有一處理器B,所述處理器B信號輸入端還連接有分別設(shè)置在罐體一(21)和罐體二(22)內(nèi)的氣壓傳感器C和氣壓傳感器D。
6.根據(jù)權(quán)利要求1-3或5任意一項所述的一種基于二氧化碳產(chǎn)生的二氧化碳生產(chǎn)裝置,其特征在于,所述氣體處理系統(tǒng)B(3)包括槽體(31),所述槽體(31)的頂部設(shè)置有密封的頂板(32);
所述頂板(32)上連通設(shè)置進液接頭(321)和出氣接頭(322),所述槽體(31)的底側(cè)面設(shè)置有進氣接頭(311)和排液接頭(312);
所述槽體(31)內(nèi)設(shè)置有多孔支撐隔板一(33)和多孔支撐隔板二(34),位于所述多孔支撐隔板一(33)和多孔支撐隔板二(34)形成的區(qū)域內(nèi)依次填充有多孔碳顆粒層(35)、木屑層(36)和沸石顆粒層(37);
其中,所述多孔支撐隔板二(34)位于所述多孔支撐隔板一(33)正上方,且所述沸石顆粒層(37)上表面距多孔支撐隔板二(34)的高度為1-5cm;所述多孔碳顆粒層(35)、木屑層(36)和沸石顆粒層(37)的厚度分別為5-15cm、1-3cm和3-5cm。
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