[發(fā)明專利]用于在最小化患者的X射線劑量的同時維持圖像質量的裝置和方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202110944489.8 | 申請日: | 2016-10-20 |
| 公開(公告)號: | CN113633302A | 公開(公告)日: | 2021-11-12 |
| 發(fā)明(設計)人: | R·J·布羅迪 | 申請(專利權)人: | 美敦力導航股份有限公司 |
| 主分類號: | A61B6/00 | 分類號: | A61B6/00;A61B34/20;A61B90/00;G06T7/33;G16H40/63;G16H50/20;A61B6/06 |
| 代理公司: | 上海專利商標事務所有限公司 31100 | 代理人: | 錢慰民 |
| 地址: | 美國科*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 用于 最小化 患者 射線 劑量 同時 維持 圖像 質量 裝置 方法 | ||
1.一種成像系統,所述成像系統包括:
圖像模塊,所述圖像模塊被配置成用于:獲得(i)第一患者的感興趣的區(qū)域的具有一個或多個圖像的第一樣本集合,以及(ii)具有一個或多個圖像的主樣本集合,其中,所述具有一個或多個圖像的第一樣本集合被獲取作為x射線源根據第一多個設置操作的結果,所述第一多個設置基于用于第一患者的參數;
對齊模塊,所述對齊模塊被配置成用于:將所述具有一個或多個圖像的第一樣本集合與所述具有一個或多個圖像的主樣本集合進行對齊;
處理模塊,所述處理模塊被配置成用于:處理與所述對齊的結果相對應的數據;以及
設置模塊,所述設置模塊被配置成用于:調整所述第一多個設置以提供更新的設置。
2.如權利要求1所述的系統,其特征在于,進一步包括:初始化模塊,所述初始化模塊被配置成用于:獲得用于所述第一患者的參數,
其中所述初始化模塊被配置成用于:基于所述參數選擇用于所述x射線源的所述第一多個設置。
3.如權利要求2所述的系統,其特征在于,所述參數包括以下各項中的至少一項:患者參數、手術參數、和外科醫(yī)生參數。
4.如權利要求1或2所述的系統,其特征在于,進一步包括反饋模塊,所述反饋模塊被配置成用于提供指示以下的反饋:用于手術的一個或多個所述第一多個設置是否在(i)用于所述手術的典型的外科醫(yī)生設置的一個或多個相應的預定范圍,或(ii)用于所述手術的推薦的設置的一個或多個相應的預定范圍之外。
5.如權利要求2或4所述的系統,其特征在于,進一步包括閾值模塊,所述閾值模塊被配置成用于:生成警告信號以指示所述第一多個設置中的一個或多個在一個或多個范圍之外,從而指示由于使用所述第一多個設置而導致的x射線劑量大于預定閾值。
6.如權利要求1或2所述的系統,其特征在于,進一步包括質量模塊,所述質量模塊被配置成用于:(i)確定所述具有一個或多個圖像的第一樣本集合的質量,并且(ii)基于所述具有一個或多個圖像的第一樣本集合的所述質量指令所述圖像模塊獲取具有一個或多個圖像的第二集合。
7.如權利要求1或2所述的系統,其特征在于,與來自所述設置模塊的所述更新的設置相關聯的x射線劑量小于與所述第一多個設置相關聯的x射線劑量。
8.如權利要求1或2所述的系統,其特征在于,進一步包括外科醫(yī)生評估模塊,所述外科醫(yī)生評估模塊被配置成用于:針對相似的患者和手術參數監(jiān)測第一外科醫(yī)生的x射線源參數相對于第二外科醫(yī)生的x射線源參數。
9.如權利要求1所述的系統,其特征在于,所述患者參數包括:與所述第一患者相對應的參數、以及與第二患者相對應的參數。
10.如權利要求1或2所述的系統,其特征在于,所述設置模塊被配置成用于:基于以下各項確定用于所述x射線源的更新的設置:所述第一患者的大小;所述患者的所述感興趣的區(qū)域;所述具有一個或多個圖像的第一樣本集合和具有一個或多個圖像的主樣本集合的像素強度水平;以及所述具有一個或多個圖像的第一樣本集合的連續(xù)性。
11.如權利要求1所述的系統,其特征在于,設置模塊被配置成用于:在自動學習模式期間,(i)將所述第一多個設置調整到所述更新的設置,以及(ii)提示外科醫(yī)生確認所述更新的設置。
12.如權利要求2所述的系統,其特征在于,所述對齊模塊被配置成用于:(i)旋轉并調整所述具有一個或多個圖像的第一樣本集合的縮放水平,以用于與所述具有一個或多個圖像的主樣本集合對齊,以及(ii)驗證所述具有一個或多個圖像的第一集合與所述具有一個或多個圖像的主樣本集合的對齊。
13.如權利要求2所述的系統,其特征在于,所述處理模塊處理作為所述對齊或患者參數的結果的像素數據。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于美敦力導航股份有限公司,未經美敦力導航股份有限公司許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/202110944489.8/1.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。





