[發(fā)明專利]用于多焦點(diǎn)超聲治療的裝置和方法在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202110944042.0 | 申請(qǐng)日: | 2014-01-28 |
| 公開(公告)號(hào): | CN113648552A | 公開(公告)日: | 2021-11-16 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | C·D·艾姆利 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 奧賽拉公司 |
| 主分類號(hào): | A61N7/00 | 分類號(hào): | A61N7/00;A61N7/02;A61B17/00;A61B8/00;A61B90/00 |
| 代理公司: | 北京世峰知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11713 | 代理人: | 卓霖;許向彤 |
| 地址: | 美國(guó)亞*** | 國(guó)省代碼: | 暫無信息 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 用于 焦點(diǎn) 超聲 治療 裝置 方法 | ||
1.一種用于美容處理的美學(xué)成像與處理系統(tǒng),所述系統(tǒng)包含:
超聲探頭,其被配置為用于對(duì)焦深處的多個(gè)位置處的組織進(jìn)行超聲成像與超聲處理,所述超聲探頭包含:
換能器模塊,其被配置為用于耦合至所述超聲探頭,
其中所述換能器模塊包含超聲換能器,所述超聲換能器被配置為將超聲治療施加在所述焦深處的所述多個(gè)位置處的組織,
第一開關(guān),其可操作地控制超聲成像功能,以便提供超聲成像;
第二開關(guān),其可操作地控制超聲處理功能,以便提供所述超聲治療;以及
移動(dòng)機(jī)構(gòu),其被配置為以至少一個(gè)序列的各個(gè)熱美容處理區(qū)域引導(dǎo)超聲處理;以及
其中所述換能器模塊被配置為可操作地耦合至所述第一開關(guān)、所述第二開關(guān)和所述移動(dòng)機(jī)構(gòu)中的至少一個(gè);以及
控制模塊,
其中所述控制模塊包含用于控制所述換能器模塊的處理器和顯示器。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的美學(xué)成像與處理系統(tǒng),其中所述多個(gè)位置被布置為基本線性序列,位于美容處理區(qū)域內(nèi)。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的美學(xué)成像與處理系統(tǒng),其中第一組位置位于第一美容處理區(qū)域內(nèi),而第二組位置位于第二美容處理區(qū)域內(nèi),所述第一區(qū)域不同于所述第二區(qū)域。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的美學(xué)成像與處理系統(tǒng),其中所述第一美容處理區(qū)域包含所述第一組位置的基本線性序列,而所述第二美容處理區(qū)域包含所述第二組位置的基本線性序列。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的美學(xué)成像與處理系統(tǒng),其中所述換能器模塊被配置為應(yīng)用使用振幅調(diào)制的超聲處理,由此所述換能器模塊的多個(gè)部分被配置為以多個(gè)聲強(qiáng)度的振幅發(fā)射超聲治療,其中第一振幅不同于第二振幅。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的美學(xué)成像與處理系統(tǒng),其中所述換能器模塊被配置為應(yīng)用超聲治療相位偏移,由此所述換能器模塊的多個(gè)部分被配置為以多個(gè)聲強(qiáng)度的相位發(fā)射超聲治療,其中第一相位不同于第二相位。
7.根據(jù)權(quán)利要求1-6中任一項(xiàng)所述的美學(xué)成像與處理系統(tǒng),其中所述換能器模塊被配置為:
應(yīng)用使用振幅調(diào)制的超聲治療,由此所述換能器模塊的多個(gè)部分被配置為以多個(gè)聲強(qiáng)度的振幅發(fā)射超聲治療,其中第一振幅不同于第二振幅;以及
應(yīng)用超聲治療相位偏移,由此所述換能器模塊的多個(gè)部分被配置為以多個(gè)聲強(qiáng)度的相位發(fā)射超聲治療,其中第一相位不同于第二相位。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的美學(xué)成像與處理系統(tǒng),其中所述多個(gè)相位包含離散的相位值。
9.根據(jù)權(quán)利要求1-6中任一項(xiàng)所述的美學(xué)成像與處理系統(tǒng),其中所述換能器模塊包含壓電材料,并且所述換能器模塊的所述多個(gè)部分被配置為響應(yīng)于施加到所述換能器模塊的電場(chǎng)而產(chǎn)生多個(gè)對(duì)應(yīng)的壓電材料變化。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的美學(xué)成像與處理系統(tǒng),其中所述多個(gè)壓電材料變化包含材料膨脹和材料收縮中的至少一個(gè)。
11.根據(jù)權(quán)利要求1-6中任一項(xiàng)所述的美學(xué)成像與處理系統(tǒng),其中所述換能器模塊的至少一部分被配置為以兩個(gè)或更多個(gè)聲強(qiáng)度的振幅發(fā)射超聲治療,并且其中由所述換能器模塊的所述至少一部分發(fā)射的超聲治療的振幅隨著時(shí)間變化。
12.根據(jù)權(quán)利要求1-6中任一項(xiàng)所述的美學(xué)成像與處理系統(tǒng),其中所述移動(dòng)機(jī)構(gòu)被配置為,被編程以在多個(gè)各熱美容處理區(qū)域之間提供可變間距。
13.根據(jù)權(quán)利要求1-6中任一項(xiàng)所述的美學(xué)成像與處理系統(tǒng),其中一序列的各熱美容處理區(qū)域具有從大約0.01mm至大約25mm范圍內(nèi)的處理間距。
14.根據(jù)權(quán)利要求1-6中任一項(xiàng)所述的美學(xué)成像與處理系統(tǒng),其中所述第一和第二開關(guān)包含用戶可操作的按鈕或鍵。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于奧賽拉公司,未經(jīng)奧賽拉公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購(gòu)買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/202110944042.0/1.html,轉(zhuǎn)載請(qǐng)聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 照相機(jī)的焦點(diǎn)檢測(cè)裝置和焦點(diǎn)檢測(cè)方法
- 一種基于嵌入式瀏覽器的焦點(diǎn)移動(dòng)方法及裝置
- 一種基于嵌入式全功能瀏覽器的焦點(diǎn)導(dǎo)航方法
- 光學(xué)設(shè)備
- 焦點(diǎn)檢測(cè)設(shè)備和用于焦點(diǎn)檢測(cè)設(shè)備的控制方法
- 一種焦點(diǎn)圖片顯示方法及裝置
- 頁(yè)面焦點(diǎn)處理的方法、裝置及計(jì)算機(jī)可讀存儲(chǔ)介質(zhì)
- 拍攝過程中的對(duì)焦方法及裝置
- 一種焦點(diǎn)移動(dòng)方法、裝置及機(jī)頂盒
- 一種焦點(diǎn)元素處理方法及裝置





