[發明專利]抗側模塊單元及數據中心

在審

• 申請號: 202110932834.6
• 申請日: 2021-08-13
• 公開（公告）號: CN115704252A
• 公開（公告）日: 2023-02-17
• 發明（設計）人: 陳繼軍;巫浩;張勖
• 申請（專利權）人: 華為數字能源技術有限公司
• 主分類號: E04H5/02
• 分類號: E04H5/02;E04H9/02;E04B1/348;E04B1/98
• 代理公司: 廣州三環專利商標代理有限公司 44202
• 代理人: 熊永強;李稷芳

1.一種抗側模塊單元，其特征在于，所述抗側模塊單元包括：

框架，所述框架包括頂部、底部和連接在所述頂部和所述底部之間的立柱，所述頂部、所述底部和所述立柱配合形成位于所述頂部和所述底部之間的依次連接的四個側部；及

支撐結構，所述支撐結構設置在所述四個側部的至少一個側部上，且連接在所述頂部和所述底部之間，所述支撐結構的延伸方向與所述立柱的延伸方向呈夾角設置，所述支撐結構用于增強所述抗側模塊單元的抗側剛度。

2.如權利要求1所述的抗側模塊單元，其特征在于，所述支撐結構包括第一支撐件和第二支撐件，所述第一支撐件和所述第二支撐件設置在所述四個側部的同一個側部上且均連接在所述頂部和所述底部之間，所述第一支撐件的延伸方向和所述第二支撐件的延伸方向相交。

3.如權利要求1所述的抗側模塊單元，其特征在于，所述支撐結構包括第一支撐件和第二支撐件，所述第一支撐件和所述第二支撐件設置在所述四個側部的同一個側部上且均連接在所述頂部和所述底部之間；

所述第一支撐件和所述第二支撐件交叉設置，且所述第一支撐件與所述第二支撐件在垂直于該所述側部的方向上具有間隙；或者，

所述第一支撐件和所述第二支撐件交叉設置，且所述第一支撐件與所述第二支撐件在垂直于該所述側部的方向上彼此連接。

4.如權利要求1所述的抗側模塊單元，其特征在于，所述支撐結構包括第一支撐件和第二支撐件，所述第一支撐件和所述第二支撐件設置在所述四個側部的同一個側部上且均連接在所述頂部和所述底部之間，所述第一支撐件的延伸方向和所述第二支撐件的延伸方向平行。

5.如權利要求1-4任一項所述的預制模塊單元，其特征在于，所述頂部為頂層架體，所述底部為底層架體，所述立柱的數量為四個，所述四個立柱連接在所述頂層架體和所述底層架體的角落處；

所述四個側部中每一個所述側部均包括所述頂層架體的一個梁、所述底層架體的一個梁和所述四個立柱中的兩個相鄰立柱，所述頂層架體的一個梁、所述四個立柱中兩個相鄰立柱的一個立柱、所述底層架體的一個梁、所述四個立柱中兩個相鄰立柱的另一個立柱依次相連且構成四邊形結構，所述四邊形結構所圍設形成的空間用于容置所述支撐結構。

6.如權利要求5所述的抗側模塊單元，其特征在于，所述支撐結構與所述頂層架體傾斜設置。

7.如權利要求6所述的抗側模塊單元，其特征在于，所述支撐結構與所述頂層架體之間的夾角在30°～90°的角度范圍內。

8.如權利要求1-7任一項所述的預制模塊單元，其特征在于，所述支撐結構的數量為多個，所述多個支撐結構排布設置在所述四個側部的任意一個側部、任意兩個側部、任意三個側部或每一個側部，位于所述四個側部中同一個側部的所述多個支撐結構中的相鄰兩個支撐結構彼此連接或具有間距。

9.一種數據中心，其特征在于，所述數據中心包括多個標準模塊單元和多個如權利要求1-8任一項所述的抗側模塊單元，所述多個標準模塊單元和所述多個抗側模塊單元配合橫向排列并縱向堆疊而構成多層架構，其中，所述橫向為平行于地面的方向，所述縱向為垂直于地面的方向。

10.如權利要求9所述的數據中心，其特征在于，所述多個抗側模塊單元環繞設置在所述多個標準模塊單元的外圍。