[發明專利]一種電容式靜力水準標定裝置及標定方法

有效

• 申請號: 202110932747.0
• 申請日: 2021-08-13
• 公開（公告）號: CN113701786B
• 公開（公告）日: 2023-08-01
• 發明（設計）人: 楊松林;唐宏華;樊勇;李章棟;楊博石;夏旦;蔣衛國
• 申請（專利權）人: 湖南五凌電力科技有限公司;五凌電力有限公司
• 主分類號: G01C25/00
• 分類號: G01C25/00
• 代理公司: 北京風雅頌專利代理有限公司 11403
• 代理人: 曾志鵬

本發明屬測量儀器領域，具體是涉及到一種電容式靜力水準標定裝置及標定方法，包括支架和傳感器安裝部，所述傳感器安裝部包括電容安裝部和屏蔽管固定環，所述支架包括架體、設置在架體上的電容固定板和浮子固定頂板，所述電容固定板和浮子固定頂板上均設置有滑動孔，所述電容安裝部包括電容外殼以及外殼固定環，外殼固定環外徑大于滑動孔直徑，所述外殼固定環與電容固定板之間可拆卸設置有標定夾塊，所述屏蔽管固定環設置在浮子固定頂板上方，用于夾持靜力水準儀的屏蔽管，屏蔽管固定環外徑大于滑動孔直徑，本發明簡化標定流程，降低標定所需的時間，不影響整個靜力水準系統液面變化及單個測點監測數據連續性。

技術領域

本發明屬測量儀器領域，具體是涉及到一種電容式靜力水準標定裝置及標定方法。

背景技術

靜力水準儀是一種用于測量基礎或者地基的沉降變形的高精度儀器裝置，可測量多點的相對沉降。電容式靜力水準具有動態特性好、分辨力高、結構簡單等優點，非常適合高精度、非接觸動態測量，已廣泛用于大型建筑物如水電站廠、大壩、高層建筑物、核電站、水利樞紐工程巖體等各測點不均勻沉降的測量。在使用過程中，受安裝、溫濕度等因素影響，使用一段時間后靜力水準儀測值與理論值存在一定的差異，因此需要定期對靜力水準儀進行標定校準。

現有的電容式靜力水準儀一般是現場整體標定，對于單個靜力水準儀標定，需要在實驗室內環境下進行標定，流程復雜、周期長、費用高，影響整個靜力水準系統液面變化及單個測點監測數據的連續性。

發明內容

本發明要解決的技術問題是提供一種安裝方便校準快速的電容式靜力水準標定裝置及標定方法。

本發明的內容包括包括支架和傳感器安裝部，所述傳感器安裝部包括電容安裝部和屏蔽管固定環，所述支架包括架體、設置在架體上的電容固定板和浮子固定頂板，所述電容固定板和浮子固定頂板上均設置有滑動孔，所述電容安裝部包括滑動設置在電容固定板上滑動孔內的電容外殼以及設置在電容外殼上且位于電容固定板上方的外殼固定環，外殼固定環外徑大于滑動孔直徑，所述外殼固定環與電容固定板之間可拆卸設置有標定夾塊，所述屏蔽管固定環設置在浮子固定頂板上方，用于夾持靜力水準儀的屏蔽管，屏蔽管固定環外徑大于滑動孔直徑。

更進一步地，所述標定夾塊為U型結構，U型開口尺寸大于電容外殼的直徑。

更進一步地，所述標定夾塊設置有若干個，若干個標定夾塊疊加設置。

更進一步地，所述電容固定板和浮子固定頂板在架體上的高度可調。

更進一步地，所述架體包括依次連接的底座、立柱和橫桿，立柱對稱設置有兩根，所述橫桿與兩根立柱頂部連接。

更進一步地，所述架體還包括用于固定電容式靜力水準標定儀缽體的缽體下固定環與缽體上固定環，缽體下固定環與缽體上固定環與架體連接且結構一致，所述缽體下固定環包括兩個半圓環二，兩個半圓環二端部均延伸設置有連接耳二，所述連接耳二通過螺桿相互連接。

本發明還提供一種電容式靜力水準標定方法，包括電容式靜力水準標定裝置和電容式靜力水準標定儀，所電容式靜力水準標定儀包括缽體以及依次設置的電容、屏蔽管和起浮體，所述起浮體設置在缽體內，屏蔽管滑動設置在浮子固定頂板上，包括如下步驟：

步驟S1、將屏蔽管固定環固定在屏蔽管上；

步驟S2、將電容固定設置在電容外殼內；

步驟S3、將電容通過電纜連接監測系統，通過調節屏蔽管固定環在屏蔽管上的位置，以及在外殼固定環與電容固定板之間加裝不同數量或厚度的標定夾塊，直至完成標定工作。