[發(fā)明專利]掩模板框架、掩模板組件及其制備方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202110931870.0 | 申請(qǐng)日: | 2021-08-13 |
| 公開(公告)號(hào): | CN113652633B | 公開(公告)日: | 2023-10-27 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 劉華猛;王蓓;左鵬飛;白珊珊;關(guān)新興;劉佳寧;李彥松 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 京東方科技集團(tuán)股份有限公司 |
| 主分類號(hào): | C23C14/04 | 分類號(hào): | C23C14/04;C23C14/24;C23C14/12;H10K71/16 |
| 代理公司: | 北京銀龍知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11243 | 代理人: | 曹娜 |
| 地址: | 100015 *** | 國(guó)省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 模板 框架 組件 及其 制備 方法 | ||
1.一種掩模板框架,是中部具有開口區(qū)域的邊框結(jié)構(gòu),其特征在于,所述掩模板框架包括依次貼合連接的第一框架、第二框架以及第三框架,所述第一框架供掩膜板固定連接,所述第一框架固定連接于所述第二框架,所述第二框架固定連接于所述第三框架,所述第三框架用于固定于蒸鍍腔,所述第二框架的剛度大于所述第一框架的剛度。
2.如權(quán)利要求1所述的掩模板框架,其特征在于,所述第三框架包括第一方向驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)以及第二方向驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu),所述第一方向驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)驅(qū)動(dòng)所述第三框架在第一方向上調(diào)節(jié)位置;所述第二方向驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)驅(qū)動(dòng)所述第三框架在第二方向上調(diào)節(jié)位置;所述第一方向與所述第二方向相互垂直。
3.如權(quán)利要求2所述的掩模板框架,其特征在于,所述第二方向驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)包括驅(qū)動(dòng)件以及驅(qū)動(dòng)槽,所述驅(qū)動(dòng)件包括可滑動(dòng)地裝入所述驅(qū)動(dòng)槽的驅(qū)動(dòng)桿,所述驅(qū)動(dòng)桿與所述驅(qū)動(dòng)槽的在第二方向上卡接固定,所述驅(qū)動(dòng)槽沿第一方向延伸以供所述驅(qū)動(dòng)桿在所述第一方向上滑動(dòng)。
4.如權(quán)利要求1所述的掩模板框架,其特征在于,所述第三框架包括空心邊框,所述空心邊框供設(shè)置散熱機(jī)構(gòu),或者
所述第三框架包括開槽邊框,所述開槽邊框包括多個(gè)長(zhǎng)條形開槽,所述開槽供設(shè)置散熱機(jī)構(gòu)。
5.如權(quán)利要求1所述的掩模板框架,其特征在于,所述第一框架材質(zhì)為因瓦合金。
6.如權(quán)利要求1至5任一項(xiàng)所述的掩模板框架,其特征在于,所述第一框架與所述第二框架之間具有導(dǎo)熱涂層。
7.一種掩模板組件,其特征在于,包括掩模條以及權(quán)利要求1-6任一項(xiàng)所述的掩模板框架。
8.如權(quán)利要求7所述的掩模板組件,其特征在于,包括多個(gè)掩模條以及一個(gè)或多個(gè)對(duì)齊掩模條,所述對(duì)齊掩模條位于兩組所述掩模條之間,每組所述掩模條包括多個(gè)所述掩模條。
9.如權(quán)利要求8所述的掩模板組件,其特征在于,所述對(duì)齊掩模條包括一個(gè)或多個(gè)對(duì)齊標(biāo)記。
10.一種掩模板制備方法,其特征在于,包括:
根據(jù)權(quán)利要求1-6任一項(xiàng)所述的掩模板框架,在所述第一框架上進(jìn)行掩膜板張網(wǎng)固定;
掩膜板張網(wǎng)固定后,將所述第一框架固定連接于所述第二框架;
測(cè)量所述掩膜板上對(duì)齊標(biāo)記,以檢測(cè)所述掩膜板的像素位置偏差量;
將所述第二框架固定連接于所述第三框架。
11.如權(quán)利要求10所述的掩模板制備方法,其特征在于,
包括多個(gè)掩模條以及一個(gè)或多個(gè)對(duì)齊掩模條,所述對(duì)齊掩模條位于兩組所述掩模條之間,每組所述掩模條包括多個(gè)所述掩模條;
在進(jìn)行掩膜板張網(wǎng)固定步驟中,先進(jìn)行多個(gè)所述掩模條的張網(wǎng)固定,再進(jìn)行所述對(duì)齊掩模條的張網(wǎng)固定。
12.如權(quán)利要求10或11所述的掩模板制備方法,其特征在于,
所述掩模板用于垂直蒸鍍,所述第一框架具有上邊框,在進(jìn)行掩膜板張網(wǎng)固定步驟中,靠近所述上邊框中部位置施加的張力大于靠近上所述邊框端部位置的張力;
以此在所述掩膜板組件上形成預(yù)偏差,預(yù)偏差的方向相反于重力方向。
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C23C 對(duì)金屬材料的鍍覆;用金屬材料對(duì)材料的鍍覆;表面擴(kuò)散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進(jìn)行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理





