[發(fā)明專利]一種探測裝置及其控制方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 202110930106.1
• 申請日: 2021-08-13
• 公開（公告）號: CN113567956B
• 公開（公告）日: 2023-01-13
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 王曰孟;王偉;余安亮
• 申請（專利權(quán)）人: 華為技術(shù)有限公司
• 主分類號: G01S7/481
• 分類號: G01S7/481;G01S17/02
• 代理公司: 北京億騰知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11309
• 代理人: 陳霽

1.一種探測裝置，其特征在于，包括：

發(fā)射組件，包括多個(gè)激光發(fā)射器組成的激光發(fā)射器陣列，用于發(fā)射激光束；

準(zhǔn)直整形組件，用于將所述激光束處理為準(zhǔn)直的線狀激光束或面狀激光束；

掃描轉(zhuǎn)鏡組件，包括多個(gè)反射面，用于反射所述線狀激光束或面狀激光束；

包含單光子雪崩探測器像素陣列的接收組件，用于接收目標(biāo)回波，其中，所述目標(biāo)回波包括所述線狀激光束或面狀激光束的反射信號，所述單光子雪崩探測器像素陣列包括多個(gè)像素，所述像素包括一個(gè)或多個(gè)單光子雪崩探測器；

同步組件，至少用于獲取所述多個(gè)反射面中的工作反射面的同步位置，所述同步位置表征所述工作反射面初始接收到所述線狀激光束或面狀激光束的位置，所述工作反射面對應(yīng)所述線狀激光束或面狀激光束的出射方向；

處理組件，用于控制所述激光發(fā)射器陣列中的各個(gè)激光發(fā)射器的發(fā)射參數(shù)，所述發(fā)射參數(shù)包括發(fā)射開關(guān)參數(shù)、發(fā)射功率參數(shù)、發(fā)射脈沖/連續(xù)光參數(shù)、重頻參數(shù)中的至少一個(gè)。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的探測裝置，其特征在于，所述激光發(fā)射器陣列包括至少一列激光發(fā)射器，其中，所述至少一列激光發(fā)射器中的第一列激光發(fā)射器至少包括N組激光發(fā)射器，所述N組激光發(fā)射器交錯(cuò)排列，或者，所述N組激光發(fā)射器共線排列，或者，所述N組激光發(fā)射器不共線排列，其中，所述N為大于1的正整數(shù)。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的探測裝置，其特征在于，所述N組激光發(fā)射器中的各組激光發(fā)射器的數(shù)量相同，或者存在至少兩組激光發(fā)射器的數(shù)量不同。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的探測裝置，其特征在于，所述多個(gè)激光發(fā)射器包括邊緣發(fā)射激光發(fā)射器和/或垂直腔面發(fā)射激光發(fā)射器，所述邊緣發(fā)射激光發(fā)射器和垂直腔面發(fā)射激光發(fā)射器相鄰排列。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的探測裝置，其特征在于，所述準(zhǔn)直整形組件包括準(zhǔn)直器和合束器。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的探測裝置，其特征在于，所述準(zhǔn)直整形組件包括多個(gè)微透鏡組件，所述多個(gè)微透鏡組件中的不同微透鏡組件將所述激光束準(zhǔn)直整形為不同能量分布的線狀激光束。

7.根據(jù)權(quán)利要求1-6任一項(xiàng)所述的探測裝置，其特征在于，所述多個(gè)反射面平行設(shè)置于所述掃描轉(zhuǎn)鏡組件的旋轉(zhuǎn)軸的軸線方向。

8.根據(jù)權(quán)利要求1-6任一項(xiàng)所述的探測裝置，其特征在于，所述多個(gè)反射面中的任一反射面在沿所述掃描轉(zhuǎn)鏡組件的旋轉(zhuǎn)軸的軸線方向上的反射面中部向所述旋轉(zhuǎn)軸傾斜設(shè)置。

9.根據(jù)權(quán)利要求1-6任一項(xiàng)所述的探測裝置，其特征在于，所述發(fā)射組件和所述接收組件位于所述掃描轉(zhuǎn)鏡組件的同一側(cè)。

10.根據(jù)權(quán)利要求1-6任一項(xiàng)所述的探測裝置，其特征在于，所述發(fā)射組件和所述接收組件分別位于所述掃描轉(zhuǎn)鏡組件的兩側(cè)；

所述多個(gè)反射面包括相互垂直的兩反射面，所述發(fā)射組件發(fā)射的激光束經(jīng)所述準(zhǔn)直整形組件處理為準(zhǔn)直的線狀激光束或面狀激光束，照射至第一工作反射面，所述接收組件用于接收第二工作反射面反射的目標(biāo)回波，其中，第一工作反射面對應(yīng)所述線狀激光束或面狀激光束的出射方向，所述目標(biāo)回波包括所述線狀激光束或面狀激光束的反射信號，所述第二工作反射面對應(yīng)所述線狀激光束或面狀激光束的反射信號的入射方向，所述第一工作反射面和第二工作反射面相互垂直。