[發明專利]量測圖像與設計之間的模擬輔助的對準

在審

• 申請號: 202110926110.0
• 申請日: 2017-12-06
• 公開（公告）號: CN113608416A
• 公開（公告）日: 2021-11-05
• 發明（設計）人: 王德勝
• 申請（專利權）人: ASML荷蘭有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 中科專利商標代理有限責任公司 11021
• 代理人: 胡良均

1.一種方法，包括：

通過硬件計算機，將設計布局和使用圖案化過程由所述設計布局在基板上產生的圖案的量測圖像對齊，所述對齊基于所述設計布局或所述設計布局的一個或多個特性與使用所述設計布局的特性和所述圖案化過程的特性通過模擬產生的圖像或所述圖像的一個或多個特性之間的差異；和

從與所述設計布局對齊的所述量測圖像確定所述圖案的至少一部分的偏移。

2.如權利要求1所述的方法，還包括基于所述偏移，調整所述設計布局、包括所述設計布局的圖案形成裝置和/或所述圖案化過程。

3.如權利要求1所述的方法，其中所述模擬進一步使用分辨率增強技術的一個或多個特性或圖案形成裝置的一個或多個特性。

4.如權利要求3所述的方法，其中所述模擬使用分辨率增強技術的一個或多個特性，并且所述分辨率增強技術被配置為將輔助特征放置到所述設計布局中。

5.如權利要求3所述的方法，其中所述模擬使用圖案形成裝置的一個或多個特性，并且所述圖案形成裝置的所述一個或多個特性包括所述圖案形成裝置上的圖案的變形。

6.如權利要求1所述的方法，其中所述差異在所述設計布局的一個或多個映射參考與所述圖像的對應的一個或多個映射參考之間。

7.如權利要求6所述的方法，其中所述一個或多個映射參考包括輪廓中的邊緣。

8.如權利要求1所述的方法，其中所述差異包括邊緣放置誤差。

9.如權利要求1所述的方法，其中所述量測圖像是掃描電子顯微鏡圖像，和/或其中所述量測圖像是像素化圖像。

10.如權利要求1所述的方法，其中對齊所述量測圖像和所述設計布局包括由所述量測圖像識別輪廓。

11.如權利要求1所述的方法，其中對齊所述量測圖像和所述設計布局包括：

基于所述差異的特性確定多個差異的權重；

計算成本函數，所述成本函數表征所述差異中的至少一些并且是所述設計布局和所述量測圖像之間的映射的函數；

基于所述成本函數調整所述映射；和

使用所述映射對齊所述量測圖像和所述設計布局。

12.如權利要求11所述的方法，其中所述差異的所述特性包括差異的大小。

13.如權利要求11所述的方法，其中所述權重中的至少一個為零。

14.如權利要求11所述的方法，其中所述映射表示所述量測圖像和所述設計布局之間的一個或多個相對變形。

15.一種其中包括機器可讀指令的非瞬態計算機程序產品，所述指令在由處理器系統執行時被配置為引起所述處理器系統至少：

將設計布局和使用圖案化過程由所述設計布局在基板上產生的圖案的量測圖像對齊，所述對齊基于所述設計布局或所述設計布局的一個或多個特性與使用所述設計布局的特性和所述圖案化過程的特性通過模擬產生的圖像或所述圖像的一個或多個特性之間的差異；和

從與所述設計布局對齊的所述量測圖像確定所述圖案的至少一部分的偏移。

16.如權利要求15所述的計算機程序產品，其中所述差異在于所述設計布局的一個或多個映射參考與所述圖像的對應的一個或多個映射參考之間。

17.如權利要求15所述的計算機程序產品，其中，所述指令還被配置為基于所述偏移，調整所述設計布局、包括所述設計布局的圖案形成裝置和/或所述圖案化過程。