[發(fā)明專利]一種高速離心循環(huán)式物料精細研磨裝置在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202110904833.0 | 申請日: | 2021-08-07 |
| 公開(公告)號: | CN113617468A | 公開(公告)日: | 2021-11-09 |
| 發(fā)明(設計)人: | 周華云 | 申請(專利權)人: | 周華云 |
| 主分類號: | B02C15/08 | 分類號: | B02C15/08;B02C23/00 |
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| 地址: | 101599 北京市密云*** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 高速 離心 循環(huán) 物料 精細 研磨 裝置 | ||
本發(fā)明公開了一種高速離心循環(huán)式物料精細研磨裝置,包括部為研磨空間的空心研磨體。本發(fā)明利用高速旋轉(zhuǎn)的物體會具備產(chǎn)生向邊緣運動的趨勢原理,當原料投放后,驅(qū)動電機帶動部件正向旋轉(zhuǎn),在高速旋轉(zhuǎn)的前提下,旋轉(zhuǎn)研磨柱會產(chǎn)生向邊緣運動的趨勢,此時,旋轉(zhuǎn)研磨柱的底部結(jié)構會在自身離心力的作用下,抵觸在空心研磨體的內(nèi)壁處,在旋轉(zhuǎn)過程中,集中擋板會使得散落的原理被集中在研磨空間邊緣,使得旋轉(zhuǎn)研磨柱能夠更為集中的對原料進行加壓碾壓式研磨,當原料單次研磨過后,分散擋板會將碾壓后的原料進行分散,在不斷的分散和集中過程中,能夠使得原料更加充分的研磨,防止原料研磨覆蓋率低現(xiàn)象的發(fā)生,再往復的研磨過程中,提高精確度。
技術領域
本發(fā)明涉及研磨裝置技術領域,具體為一種高速離心循環(huán)式物料精細研磨裝置。
背景技術
目前,現(xiàn)有的研磨裝置大多都是利用旋轉(zhuǎn)研磨輪對經(jīng)過的物料進行研磨,在實際研磨工作中,研磨的精度能力差,并且并不具備反復研磨的功能,導致研磨的效果相對較差。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于提供一種高速離心循環(huán)式物料精細研磨裝置,以解決上述背景技術中提出的問題。
為實現(xiàn)上述目的,本發(fā)明提供如下技術方案:一種高速離心循環(huán)式物料精細研磨裝置,包括內(nèi)部為研磨空間的空心研磨體、安裝在空心研磨體頂部中心的驅(qū)動電機、連通研磨空間上方空間的投料孔、安裝在空心研磨體底部中心主排液管道、固定主排料管道的橫向支撐板、安裝在橫向支撐板底部的支撐腿和連通研磨空間底部中心的主排放孔,所述驅(qū)動電機中的電機主軸的軸體貫穿空心研磨體頂部中心結(jié)構,所述電機主軸在位于研磨空間內(nèi)部軸體的中部安裝三個環(huán)形陣列的橫向連接桿,所述電機主軸底部的軸體安裝有第一斜向連接桿和第二斜向連接桿,每個橫向連接桿的端部下方均通過活動鉸鏈安裝一活動桿,每個活動桿的桿體均通過軸承安裝在一旋轉(zhuǎn)研磨柱的頂端內(nèi)部,所述第一斜向連接桿和第二斜向連接桿的端部分別安裝有集中擋板和分散擋板,所述分散擋板的底部為斜面開口槽結(jié)構,且該斜面開口槽由遠至研磨空間軸心方向的開口夾角逐步增大,所述集中擋板底部和分散擋板一端的底部均抵觸在研磨空間的下表面。
進一步的,所述旋轉(zhuǎn)研磨柱在初始狀態(tài)下,其為豎立狀態(tài),其中旋轉(zhuǎn)研磨柱的側(cè)面和研磨空間的側(cè)面接觸。
進一步的,所述集中擋板和分散擋板位于同一旋轉(zhuǎn)研磨柱的兩側(cè)。
進一步的,所述集中擋板和分散擋板的中心延長線均遠離研磨空間橫截面的圓心。
進一步的,所述集中擋板和分散擋板傾斜方向一致、但兩者相對于研磨空間橫截面圓心的傾斜度不同,集中擋板的傾斜度小于和分散擋板的傾斜度。
進一步的,所述集中擋板的長度為分散擋板長度的兩倍,所述集中擋板兩端分別位于主排放孔邊緣和研磨空間側(cè)面之間,分散擋板的一端位于研磨空間的側(cè)面。
與現(xiàn)有技術相比,本發(fā)明的有益效果是:本發(fā)明利用高速旋轉(zhuǎn)的物體會具備產(chǎn)生向邊緣運動的趨勢原理,當原料投放后,驅(qū)動電機帶動部件正向旋轉(zhuǎn),在高速旋轉(zhuǎn)的前提下,旋轉(zhuǎn)研磨柱會產(chǎn)生向邊緣運動的趨勢,此時,旋轉(zhuǎn)研磨柱的底部結(jié)構會在自身離心力的作用下,抵觸在空心研磨體的內(nèi)壁處,在旋轉(zhuǎn)過程中,集中擋板會使得散落的原理被集中在研磨空間邊緣,使得旋轉(zhuǎn)研磨柱能夠更為集中的對原料進行加壓碾壓式研磨,當原料單次研磨過后,分散擋板會將碾壓后的原料進行分散,在不斷的分散和集中過程中,能夠使得原料更加充分的研磨,防止原料研磨覆蓋率低現(xiàn)象的發(fā)生,再往復的研磨過程中,提高精確度。
附圖說明
圖1為本發(fā)明一種高速離心循環(huán)式物料精細研磨裝置的全剖結(jié)構示意圖;
圖2為本發(fā)明一種高速離心循環(huán)式物料精細研磨裝置在A-A方向的結(jié)構示意圖;
圖3為本發(fā)明一種高速離心循環(huán)式物料精細研磨裝置中的俯視結(jié)構示意圖;
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B02C 一般破碎、研磨或粉碎;碾磨谷物
B02C15-00 應用滾子或球與環(huán)或盤聯(lián)合動作的碾磨元件進行粉碎
B02C15-02 .離心擺動式碾磨機
B02C15-04 .裝有加壓力的擺動滾子的碾磨機,例如用彈簧加壓
B02C15-06 .碾磨機,其滾子被壓向轉(zhuǎn)動環(huán)內(nèi)表面,例如受彈簧壓力
B02C15-08 .碾磨機,其球或滾子受離心力作用被壓向環(huán)的內(nèi)表面,這些球或滾子是由裝在中心的構件驅(qū)動的
B02C15-10 .碾磨機,其球或滾子受離心力作用被壓向環(huán)的內(nèi)表面,這些球或滾子不是由裝在中心的構件而是由其他方式驅(qū)動的





