[發明專利]一種寬光譜量子級聯隧道結超輻射發光二極管在審
| 申請號: | 202110902378.0 | 申請日: | 2021-08-06 |
| 公開(公告)號: | CN115706188A | 公開(公告)日: | 2023-02-17 |
| 發明(設計)人: | 孫春明;蘇建;劉琦;徐現剛 | 申請(專利權)人: | 山東華光光電子股份有限公司 |
| 主分類號: | H01L33/00 | 分類號: | H01L33/00;H01L33/06;H01L33/08;H01L33/30 |
| 代理公司: | 濟南金迪知識產權代理有限公司 37219 | 代理人: | 王素平 |
| 地址: | 250101 山東省濟*** | 國省代碼: | 山東;37 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 光譜 量子 級聯 隧道 輻射 發光二極管 | ||
1.一種寬光譜量子級聯隧道結超輻射發光二極管,其特征在于,所述超輻射發光二極管包括自下而上依次設置的N面電極、襯底、多個子有源區,所述的相鄰兩個子有源區間設置有隧道結層;每個子有源區包括自下而上依次設置的N型限制層、N型波導層、量子阱層、P型波導層和P型限制層;其中,最上面子有源區的P型限制層包括本體層,所述本體層上中部設置有凸出于本體層上表面的脊型條;所述的脊型條兩側對稱設置有多個平行的光隔離溝槽,所述脊型條上表面設置有P面電極。
2.根據權利要求1所述的寬光譜量子級聯隧道結超輻射發光二極管,其特征在于,所述的襯底為GaN、GaAs或InP襯底材料中的一種。
3.根據權利要求1所述的寬光譜量子級聯隧道結超輻射發光二極管,其特征在于,所述子有源區的個數為4-8個;相鄰兩個子有源區的量子阱層出射的中心波長差為10~20nm,自下而上每個子有源區的量子阱層出射的中心波長逐漸減小。
4.根據權利要求1所述的寬光譜量子級聯隧道結超輻射發光二極管,其特征在于,所述脊型條的高度小于最上面子有源區的P型限制層的高度;所述的脊型條寬度為3~6μm;所述的脊型條為長條形,采用傾斜結構;所述的脊型條兩端分別延伸至發光二極管的出光腔面和非出光腔面。
5.根據權利要求1所述的寬光譜量子級聯隧道結超輻射發光二極管,其特征在于,所述的光隔離溝槽完全穿過所有子有源區;所述的光隔離溝槽與脊型條的間距為3-15μm。
6.根據權利要求1所述的寬光譜量子級聯隧道結超輻射發光二極管,其特征在于,所述的脊型條每側光隔離溝槽的個數為2-10個,光隔離溝槽在脊型條兩側均勻分布;所述光隔離溝槽的延長線與脊型條的夾角為60-70°。
7.根據權利要求1所述的寬光譜量子級聯隧道結超輻射發光二極管,其特征在于,所述光隔離溝槽的形狀為矩形,長度為10-20μm,寬度為3-5μm。
8.根據權利要求1所述的寬光譜量子級聯隧道結超輻射發光二極管,其特征在于,所述隧道結層包括自上而下的N型高摻雜隧道結層和P型高摻雜隧道結層;其中,所述N型高摻雜隧道結層與上層子有源區的N型限制層接觸,P型高摻雜隧道結層與下層子有源區的P型限制層接觸。
9.根據權利要求8所述的寬光譜量子級聯隧道結超輻射發光二極管,其特征在于,所述的N型高摻雜隧道結層的材料為Zn原子摻雜的Al0.50In0.50As材料,摻雜濃度為3×1019個原子/cm3;所述的P型高摻雜隧道結層的材料為Si原子摻雜的Al0.50In0.50As,摻雜濃度為1×1018個原子/cm3。
10.根據權利要求1所述的寬光譜量子級聯隧道結超輻射發光二極管,其特征在于,所述超輻射發光二極管除去脊型條區域外,其余位置進行離子注入;注入離子為氫離子、氦離子或氧離子。
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