[發(fā)明專(zhuān)利]用于光學(xué)三維形貌測(cè)量的方法及系統(tǒng)在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202110901243.2 | 申請(qǐng)日: | 2016-11-04 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN113607088A | 公開(kāi)(公告)日: | 2021-11-05 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 國(guó)衡·趙;M·范德布格特;劉晟;安迪·希爾;J·德格里夫;K·萬(wàn)吉爾斯 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人: | 科磊股份有限公司 |
| 主分類(lèi)號(hào): | G01B11/25 | 分類(lèi)號(hào): | G01B11/25;G01B11/24;G01B11/06;G01N21/39;G01N21/956;G02B30/50 |
| 代理公司: | 北京律盟知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限責(zé)任公司 11287 | 代理人: | 張世俊 |
| 地址: | 美國(guó)加利*** | 國(guó)省代碼: | 暫無(wú)信息 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 用于 光學(xué) 三維 形貌 測(cè)量 方法 系統(tǒng) | ||
1.一種用于物體的表面的光學(xué)三維形貌測(cè)量的系統(tǒng),所述系統(tǒng)包括:
圖案化照明的源;
物鏡,其包括垂直于所述物體的所述表面的宏觀(guān)延伸的光軸,所述物鏡經(jīng)布置以將所述圖案化照明引導(dǎo)到所述物體的所述表面;
光學(xué)檢測(cè)器,所述光學(xué)檢測(cè)器在所述物體沿著與所述物鏡的所述光軸呈斜角的方向而相對(duì)于所述物鏡移動(dòng)期間,經(jīng)布置及配置用于通過(guò)所述物鏡記錄所述物體的所述表面的多個(gè)圖像,其中所述物體的所述表面上的位置在所述多個(gè)圖像中的一或多者中;以及
計(jì)算機(jī),其連接到所述光學(xué)檢測(cè)器,所述計(jì)算機(jī)經(jīng)配置以基于所述多個(gè)圖像的光強(qiáng)度的差確定所述物體的所述表面上的所述位置的高度信息,其中所述光強(qiáng)度沿所述方向變化。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的系統(tǒng),其中所述圖案化照明的源包括光源和圖案掩模。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的系統(tǒng),其中所述圖案掩模具有棋盤(pán)圖案或針孔陣列。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的系統(tǒng),其中所述圖案掩模為光柵。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的系統(tǒng),其中所述光柵為振幅光柵或相位光柵。
6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的系統(tǒng),其中所述光柵為線(xiàn)光柵或正弦光柵或交叉線(xiàn)光柵。
7.根據(jù)權(quán)利要求4所述的系統(tǒng),其中所述光柵為閃耀光柵。
8.根據(jù)權(quán)利要求2所述的系統(tǒng),其中所述圖案掩模和所述檢測(cè)器在共軛平面上。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的系統(tǒng),其中分束器經(jīng)布置以使得:所述圖案化照明的源和所述物鏡之間的照明路徑,以及所述物鏡和所述檢測(cè)器之間的成像路徑都通過(guò)所述分束器。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的系統(tǒng),其中所述物鏡經(jīng)定位以校正由所述分束器引起的衍射。
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