[發(fā)明專利]一種具有強去污能力的單晶硅制絨添加劑及應(yīng)用在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202110900934.0 | 申請日: | 2021-08-06 |
| 公開(公告)號: | CN113584597A | 公開(公告)日: | 2021-11-02 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 李海;丁俊勇;周樹偉;張麗娟;陳培良 | 申請(專利權(quán))人: | 常州時創(chuàng)能源股份有限公司 |
| 主分類號: | C30B33/10 | 分類號: | C30B33/10;C30B29/06;H01L31/18;H01L31/0236 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 213300 江蘇*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 具有 去污 能力 單晶硅 添加劑 應(yīng)用 | ||
1.一種具有強去污能力的單晶硅制絨添加劑,其特征在于,包括以下質(zhì)量百分比含量的各組分:第一表面活性劑1%~6%,第二表面活性劑2%~5%,醚類脫泡劑3%~5%,成核劑0.5%~3%,助溶劑1%~2%,螯合劑0~0.1%,余量為去離子水。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的單晶硅制絨添加劑,其特征在于,所述第一表面活性劑由質(zhì)量百分比含量為3%~20%的疏水單體和80%~97%的親水單體通過自由基共聚合成。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的單晶硅制絨添加劑,其特征在于,所屬疏水單體為辛基二甲基烯丙基氯化銨、癸基二甲基烯丙基氯化銨、十二烷基二甲基烯丙基氯化銨、十六烷基二甲基烯丙基氯化銨、十八烷基三甲基氯化銨中的一種或幾種。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的單晶硅制絨添加劑,其特征在于,所述親水單體為丙烯酸、甲基丙烯酸、衣康酸、馬來酸、丙烯酰胺、2-丙烯酰胺-2-甲基丙磺酸、烯丙基聚氧乙烯醚350-2000中的一種或幾種。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的單晶硅制絨添加劑,其特征在于,所述第二表面活性劑為月桂酸二乙醇酰胺、油酸二乙醇酰胺、十二烷基苯磺酸鈉中的一種或幾種。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的單晶硅制絨添加劑,其特征在于,所述醚類脫泡劑為乙二醇丁醚、二乙二醇丁醚、乙二醇苯醚、二乙二醇苯醚中的一種或幾種。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的單晶硅制絨添加劑,其特征在于,所述成核劑為分子量不大于10萬的非離子型聚丙烯酰胺。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的單晶硅制絨添加劑,其特征在于,所述助溶劑為苯磺酸鈉、對甲苯磺酸鈉、二甲苯磺酸鈉中的一種或幾種。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的單晶硅制絨添加劑,其特征在于,所述螯合劑為乙二胺四乙酸、二乙烯三胺五乙酸或其鈉鹽中的一種或幾種。
10.如權(quán)利要求1-9任一項所述的單晶硅制絨添加劑的制絨方法,其特征在于,包括以下步驟:
(1)配制制絨添加劑:將質(zhì)量百分比含量為1%~6%的第一表面活性劑,2%~5%的第二表面活性劑,3%~5%的醚類脫泡劑,0.5%~3%的成核劑,1%~2%的助溶劑,0~0.1%的螯合劑加入到余量的去離子水中,混合攪拌均勻,配制成制絨添加劑;
(2)配制堿溶液:將無機堿與去離子水混合配制成質(zhì)量百分比濃度為1~3%的堿溶液;
(3)配制制絨液:將步驟(1)的制絨添加劑加入到步驟(2)的堿溶液中,混合均勻配成制絨液,其中制絨添加劑與堿溶液的質(zhì)量比為0.5:100~1.5:100;
(4)制絨:將單晶硅片浸入步驟(3)的制絨液中進行表面制絨,制絨溫度75~85℃,制絨時間為300~480s。
11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的單晶硅制絨添加劑的制絨方法,其特征在于,步驟(1)中,所述第一表面活性劑的合成方法包括以下步驟:
將質(zhì)量百分比含量為3%~20%的疏水單體和80%~97%的親水單體混合均勻,再與去離子水配制成質(zhì)量百分比濃度為10%~40%的水溶液;
調(diào)節(jié)水溶液的PH值至6~8;
加入單體質(zhì)量1/1000~1/100的引發(fā)劑,室溫下共聚合成1~3h。
12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的單晶硅制絨添加劑的制絨方法,其特征在于,所述引發(fā)劑由氧化劑和還原劑組成;
所述氧化劑為過硫酸鉀、過硫酸銨、過氧化氫、過氧乙酸、過氧化苯甲酰、過氧化丁酮中的一種或幾種;
所述還原劑為亞硫酸鈉、亞硫酸氫鈉、硫代硫酸鈉、焦亞硫酸鈉、氯化亞鐵、硫酸亞鐵銨、水合肼中的一種或幾種。
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