[發明專利]基于方酸的介電轉變材料及其制備方法在審
| 申請號： | 202110894498.0 | 申請日： | 2021-08-05 |
| 公開（公告）號： | CN113444044A | 公開（公告）日： | 2021-09-28 |
| 發明（設計）人： | 劉力榮;韓向斌 | 申請（專利權）人： | 東南大學 |
| 主分類號： | C07D231/12 | 分類號： | C07D231/12;C07C49/707;C07C45/61;C07C45/81 |
| 代理公司： | 南京蘇高專利商標事務所(普通合伙) 32204 | 代理人： | 張華蒙 |
| 地址： | 211102 江*** | 國省代碼： | 江蘇;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 基于 轉變 材料 及其 制備 方法 | ||
【權利要求書】：
1.基于方酸的介電轉變材料，其特征在于：該材料為方酸和吡唑形成的氫鍵型有機鹽，化學式為C7H6N2O4，分子結構為：
2.權利要求1所述的基于方酸的介電轉變材料的制備方法，其特征在于：包括如下步驟：
(1)將方酸和吡唑分別溶于去離子水中；
(2)將吡唑水溶液緩慢滴加到方酸水溶液中，持續攪拌至溶液澄清，過濾靜置，室溫揮發，得到無色透明塊狀晶體，即得。
3.根據權利要求2所述的基于方酸的介電轉變材料的制備方法，其特征在于：所述的步驟(1)中，方酸和吡唑的摩爾比為1：1。
4.根據權利要求2所述的基于方酸的介電轉變材料的制備方法，其特征在于：所述的步驟(2)中，無色透明塊狀晶體，結晶于三斜晶系，空間群，方酸和吡唑均為平面型分子，方酸和吡唑之間通過N-H···O氫鍵連接形成帶狀的結構，在空間中形成層狀堆疊結構。
5.根據權利要求2所述的基于方酸的介電轉變材料的制備方法，其特征在于：所述的步驟(2)中，無色透明塊狀晶體中，該結構的晶胞參數：α＝108.056(10)°，β＝94.793(9)°，γ＝90.339°。
6.根據權利要求2所述的基于方酸的介電轉變材料的制備方法，其特征在于：所述的步驟(2)中，室溫揮發時間為5～7天。
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